曝光机及光罩洁净设备的制造方法_2

文档序号:9707566阅读:来源:国知局
外线灯管140设于箱体110内,用于发出紫外线以分解光罩30上的有机物。
[0034]在本发明实施例中,箱体110可以是矩形体状,由上板112、下板113和四块侧板114围合而成,快门111设置在侧板114上。在其他实施例中,箱体110也可以是筒形体状,由上板112、下板113和一或多块弧形侧板围合而成,快门111设置在弧形侧板上。
[0035]在本发明实施例中,移动台120包括导轨121和设于导轨121上的支撑台122,支撑台122在导轨121上往复移动。
[0036]支撑台122包括竖架123和支撑板124,竖架123可为4个或以上,设于导轨121上,支撑板124水平设于竖架123的顶部。
[0037]支撑台122进一步包括设于竖架123之间且位于支撑台122下方的横架125,横架125的数量可为一个、两个或多个,以提高支撑台122的结构强度。
[0038]支撑台122上设有支撑销126,支撑销126用于将光罩30夹持固定并间隔支撑在支撑台122的上方。
[0039 ]离子气枪130包括在移动台120移动方向上前后设置的多个。
[0040]举例而言,如图3所示,离子气枪130包括在移动台120移动方向上前后设置的两个,紫外线灯管140设置在离子气枪130之间,移动台120从快门111处接收光罩30并在箱体110内移动时,光罩30先移动至第一离子风枪131处,第一离子风枪131开始清洁相对较大的杂尘,然后由移动台120承载着光罩30移动经过紫外线灯管140,由紫外线灯管140照射分解光罩30上的有机物,再通过第二离子风枪132清洁光罩30表面,除去表面附着物。
[0041 ]在本发明实施例中,光罩洁净设备10内部整个是负压环境,在一种可行的实施例中,可通过设于箱体110底部的吸风机150来提供负压,当然,吸风机150的位置并不限于此,亦可设置在侧板114上,或者同时设置在底板112和侧板114上。相应的,箱体110内壁对应设有的排气过滤层160,该排气过滤层160可配合吸风机150吸附收集从光罩30表面清洁出的杂尘,优选地,内壁包括箱体的顶部、侧壁和底部。
[0042]在完成一块光罩30清洁后,可通过移动台120移动并经快门111由机械传送手40更换需要清洁的光罩30。光罩洁净设备10在使用一段时间后,可更换新的排气过滤层160。
[0043]综上所述,本领域技术人员容易理解,本发明提供的曝光机20及其光罩洁净设备10使得光罩30可以在曝光机20内部进行清洁,不用拿出曝光机20之外进行清洁,大大提高了工作效率和产能。
[0044]以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种光罩洁净设备,其特征在于,所述光罩洁净设备设置在曝光机内,用于对曝光机内的光罩进行清洁,所述光罩洁净设备包括: 箱体,设有快门; 移动台,设于所述箱体内,用于从所述快门处接收光罩并在所述箱体内移动; 离子气枪,设于所述箱体内,用于吹出离子风以清除所述光罩上的杂尘; 紫外线灯管,设于所述箱体内,用于发出紫外线以分解所述光罩上的有机物。2.根据权利要求1所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述箱体由上板、下板和侧板围合而成,所述快门设置在所述侧板上。3.根据权利要求2所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述移动台包括导轨和设于所述导轨上的支撑台,所述支撑台在所述导轨上往复移动。4.根据权利要求3所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述支撑台包括竖架和支撑板,所述竖架设于所述导轨上,所述支撑板设于所述竖架的顶部。5.根据权利要求4所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述支撑台进一步包括设于所述竖架之间且位于所述支撑台下方的横架。6.根据权利要求6所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述支撑台上设有支撑销,所述支撑销用于将所述光罩夹持固定并间隔支撑在所述支撑台的上方。7.根据权利要求6所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述离子气枪包括在所述移动台移动方向上前后设置的多个。8.根据权利要求7所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述离子气枪包括在所述移动台移动方向上前后设置的两个,所述紫外线灯管设置在所述离子气枪之间,所述移动台从所述快门处接收所述光罩并在所述箱体内移动时,所述光罩先移动至第一离子风枪处,所述第一离子风枪开始清洁大的杂尘,然后移动经过所述紫外线灯管,由所述紫外线灯管照射分解所述光罩上的有机物,再通过第二离子风枪清洁所述光罩表面,除去表面附着物。9.根据权利要求8所述的光罩洁净设备,其特征在于,所述光罩洁净设备还包括设于所述箱体的吸风机以提供负压,以及设于所述箱体内壁的排气过滤层以吸附收集从所述光罩表面清洁出的杂尘。10.一种曝光机,其特征在于,用于通过光罩进行曝光作业,所述曝光机内设有机械传送手及权利要求1-9中任一项所述的光罩洁净设备,所述光罩由所述机械传送手经所述快门送至所述移动台。
【专利摘要】本发明提供一种曝光机及光罩洁净设备,该光罩洁净设备设置在曝光机内,用于对曝光机内的光罩进行清洁,该光罩洁净设备包括箱体、移动台、离子气枪以及紫外线灯管,其中,箱体设有快门;移动台设于箱体内,用于从快门处接收光罩并在箱体内移动;离子气枪设于箱体内,用于吹出离子风以清除光罩上的杂尘;紫外线灯管设于箱体内,用于发出紫外线以分解光罩上的有机物。本发明提供的曝光机及其光罩洁净设备使得光罩可以在曝光机内部进行清洁,不用拿出曝光机之外进行清洁,大大提高了工作效率和产能。
【IPC分类】G03F1/82, G03F7/20
【公开号】CN105467777
【申请号】CN201510929155
【发明人】王轩
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年12月14日
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