一种防止镜组雾化的曝光装置及防止镜组雾化的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示器制造技术领域，尤其涉及一种防止镜组雾化的曝光装置及 防止镜组雾化的方法。
【背景技术】
[0002] 在LCD(Liquid Crystal Display的简称，即液晶显示器)制备过程中，曝光机是制 备精细画素图案的关键设备，现有的曝光机结构中，出光的光学腔与用于放置光罩和基板 的处理腔是相通的，光学腔发出的紫外光线射入光罩后对基板上的光阻等进行曝光。
[0003] 但此类接近式曝光机在曝光生产过程中，不可避免地会由于玻璃基板上的光阻挥 发物挥发而污染到光学镜组，导致镜组雾化，曝光照度及其均一性恶化，造成产能损失以及 产品异常，同时也影响曝光机的使用寿命。
【发明内容】
[0004] 鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种防止镜组雾化的曝光装置及防止镜 组雾化的方法，能够有效降低镜组雾化程度以及清洁镜组的时间，提升产能及曝光装置的 寿命。
[0005] 为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
[0006] -种防止镜组雾化的曝光装置，包括容纳有光源和第一反射镜的光学腔室、用于 放置基板和光罩的处理腔室、连通所述光学腔室和所述处理腔室的光路腔室以及透光的遮 挡层，所述第一反射镜朝向所述基板投射光线，所述遮挡层设置在所述第一反射镜的出射 光路上，且位于所述第一反射镜和所述光罩之间。
[0007] 进一步地，所述学腔室还包括依次设置的集光镜、第二反射镜、积光器和第三反射 镜，所述光源发出的光线依次经过所述集光镜、所述第二反射镜、所述积光器和所述第三反 射镜后，自所述第一反射镜反射至所述光罩。
[0008] 进一步地，所述第二反射镜和所述第三反射镜分别位于所述光学腔室的光线出口 两侧。
[0009] 进一步地，所述第三反射镜为弧面反射镜。
[0010] 进一步地，所述处理腔室内的气压大于所述光学腔室。
[0011] 进一步地，所述遮挡层和所述光罩之间设有真空抽气装置。
[0012] 进一步地，所述遮挡层设于所述光学腔室内。
[0013] 进一步地，所述遮挡层为玻璃基板。
[0014] 进一步地，所述遮挡层与所述处理腔室内的所述基板平行。
[0015] 本发明的另一目的在于提供一种防止镜组雾化的方法，使用上述的防止镜组雾化 的曝光装置。
[0016] 由于光学腔室与处理腔室之间的光路通道上设有透光的遮挡层，可以阻挡处理腔 室内挥发的部分气体流向该光学腔室，间接降低光学镜组的雾化，从而实现更好的光学效 果，并能提升产能、增强光学仪器的寿命。
【附图说明】
[0017] 图1为本发明实施例的曝光装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对 本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用 于限定本发明。
[0019] 参阅图1，本发明的曝光装置能够很好地防止内部的镜组雾化，包括容纳有紫外线 光源11和第一反射镜12等镜组结构的光学腔室10、用于放置基板1和光罩2的处理腔室20、 连通光学腔室10和处理腔室20的光路腔室30以及透光的遮挡层40,第一反射镜12朝向基板 1投射光线，遮挡层40设置在第一反射镜12的出射光路上，且位于第一反射镜12和光罩2之 间。
[0020] 长筒形的光路腔室30连通在光学腔室10的光线出口和处理腔室20的光线入口处， 优选遮挡层40设置在光学腔室10内、与光路腔室30的入口相对设置，位于光路腔室30与第 一反射镜12之间。
[0021] 学腔室10除了包括光源11和第一反射镜12,还包括依次设置的集光镜13、第二反 射镜14、积光器15和第三反射镜16，光源11安装在弧形的集光镜13内，光源11发出的光线依 次经过集光镜13聚焦、第二反射镜14反射、积光器15勾光和第三反射镜16反射后，自第一反 射镜12反射至光罩2。这里，较佳地，集光镜13为碗型的反射器，第一反射镜12、第二反射镜 14为平面镜，积光器15为起扩散作用的棱镜，第三反射镜16为内表面为弧面或半球面的反 射镜，通过调整好其朝向，可使所有自积光器15射到其内表面的光线经第三反射镜16反射 后朝同一方向平行射入到第一反射镜12,最终可使自第一反射镜12射出的光线都沿光路腔 室30的长度方向射出。
[0022] 为了保障处理腔室20内的洁净度，处理腔室20内的气压大于光学腔室10。故处理 腔室20内的气体会不断的流向光学腔室10内。优选地，第二反射镜14和第三反射镜16分别 位于光学腔室10的光线出口两侧，自处理腔室20内挥发出的光阻挥发物被第一反射镜12正 前方的遮挡层40阻挡，遮挡层40设置在光路腔室30的入口，基本阻断两个腔室之间的空气 流通，大大降低了光学镜组的雾化，因而挥发物不会直接粘附在第一反射镜12及其他结构 上，当挥发物受阻挡后在遮挡层40下表面液化而滴下。遮挡层40为玻璃基板或采用石英或 其他透光材质。遮挡层40的厚度根据曝光机世代选择，以其弯曲量以及对紫外光照度影响 综合考虑，择优选择。定期清洁或更换此遮挡层40,可以避免污染到光学腔室10内的光学镜 组，保证了器件寿命和曝光机照度。
[0023]作为一种实施方式，遮挡层40和光罩2之间设有真空抽气装置。例如，真空抽气装 置可以设置在光学腔室10内，也可以设置在处理腔室20内，还可以设置在光路腔室30内。 [0024]为最大限度地避免挥发物进入光学腔室10,遮挡层40的四周可背向第一反射镜12 翻折形成一圈翻边，挥发的光阻可被遮挡层40阻挡并顺着其翻边流下。遮挡层40与处理腔 室20内的基板1平行，与通往光路腔室30内的光路垂直。
[0025] 为了进一步验证本技术方案的有效性，技术人员在机台上进行了相关实验，通过 在大小为730*920mm的曝光范围内，均匀取9个点位，测量光路中有0.5mm厚度玻璃基板阻隔 和没有玻璃基板阻隔状态下，这9个点位的365nm波长光照度变化，结果如下表一所示，衰减 率为14.31%，此部分衰减可以通过提高曝光灯能量得到补偿。
[0026] 表一
[0027]
[0028] 通过在光学腔室与处理腔室之间的光路通道上设有透光的遮挡层，阻挡了处理腔 室内挥发的部分气体流向该光学腔室，间接降低光学镜组的雾化，从而实现更好的光学效 果，并能提升产能、增强光学仪器的寿命。
[0029]在其他实施方式中，遮挡层40也可以设置在处理腔室20内、光路腔室30内，正对第 一反射镜12并遮挡光路腔室30的大部分通道即可。
[0030] 本发明的另一目的在于提供一种防止曝光装置的光学镜组雾化的方法，通过使用 上述的曝光装置，利用透明的遮挡层40阻挡在光学腔室10和处理腔室20的通道旁即可，可 以弱化对流，起到防止镜组雾化的效果。
[0031] 以上所述仅是本申请的【具体实施方式】，应当指出，对于本技术领域的普通技术人 员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应 视为本申请的保护范围。
【主权项】
1. 一种防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，包括容纳有光源（11)和第一反射镜 (12)的光学腔室（10)、用于放置基板（1)和光罩（2)的处理腔室（20)、连通所述光学腔室 (10)和所述处理腔室(20)的光路腔室(30)以及透光的遮挡层(40)，所述第一反射镜（12)朝 向所述基板(1)投射光线，所述遮挡层(40)设置在所述第一反射镜（12)的出射光路上，且位 于所述第一反射镜（12)和所述光罩(2)之间。2. 根据权利要求1所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述学腔室（10)还包 括依次设置的集光镜（13)、第二反射镜（14)、积光器(15)和第三反射镜（16)，所述光源（11) 发出的光线依次经过所述集光镜（13)、所述第二反射镜（14)、所述积光器（15)和所述第三 反射镜(16)后，自所述第一反射镜(12)反射至所述光罩(2)。3. 根据权利要求1所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述第二反射镜（14) 和所述第三反射镜(16)分别位于所述光学腔室（10)的光线出口两侧。4. 根据权利要求3所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述第三反射镜（16) 为弧面反射镜。5. 根据权利要求1所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述处理腔室(20)内 的气压大于所述光学腔室（10)。6. 根据权利要求1所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述遮挡层(40)和所 述光罩(2)之间设有真空抽气装置。7. 根据权利要求6所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述遮挡层(40)设于 所述光学腔室（10)内。8. 根据权利要求1所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述遮挡层(40)为玻 璃基板。9. 根据权利要求1-8任一所述的防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，所述遮挡层 (40)与所述处理腔室(20)内的所述基板(1)平行。10. -种防止镜组雾化的方法，其特征在于，使用权利要求1-9任一所述的防止镜组雾 化的曝光装置。
【专利摘要】本发明公开了一种防止镜组雾化的曝光装置，包括容纳有光源和第一反射镜的光学腔室、用于放置基板和光罩的处理腔室、连通所述光学腔室和所述处理腔室的光路腔室以及透光的遮挡层，所述第一反射镜朝向所述基板投射光线，所述遮挡层设置在所述第一反射镜的出射光路上，且位于所述第一反射镜和所述光罩之间。本发明还公开了一种防止镜组雾化的方法。由于光学腔室与处理腔室之间的光路通道上设有透光的遮挡层，可以阻挡处理腔室内挥发的部分气体流向该光学腔室，间接降低光学镜组的雾化，从而实现更好的光学效果，并能提升产能、增强光学仪器的寿命。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105487350
【申请号】CN201610049941
【发明人】袁夏梁
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2016年1月26日