与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物的制作方法

与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，其中该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。所述涂料组合物可以增强外涂光刻胶浮雕像的分辨率。
【专利说明】
与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物
[0001] 本发明专利申请是申请号为201010233728.0,申请日为2010年5月20日，名称为 "与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物"的发明专利申请的分案申请。
技术领域
[0002] 本申请要求于2009年5月20日提交的在35U . S . C . § 119 (e)下的美国临时申请 No. 61 /216，795的优先权，该申请的内容全部被引入本发明作为参考。
[0003] 本发明设及氯尿酸醋树脂，它特别适用于作为在外涂光刻胶下层的涂料组合物的 组分。
【背景技术】
[0004] 光刻胶是用于将图像转移到基材上的感光膜。在基材上形成光刻胶涂层，然后经 光掩模将所述光刻胶层在活化射线源曝光。所述光掩模具有对活化射线不透明的区域和透 明的其它区域。活化射线曝光使得光刻胶涂层发生光致转变或化学转变，从而将光掩模的 图案转移到所述光刻胶涂覆的基材上。曝光后，将光刻胶显影W提供一种允许对基材进行 选择性加工的浮雕图像。
[0005] 光刻胶主要用于半导体制造业，目的是将高度抛光的半导体片如娃或神化嫁，转 化成起电路作用的电子传导路线的复合物基体。适当的光刻工艺是达到运一目的关键。虽 然各种光刻工艺步骤之间存在很强的相关性，曝光被认为是获得高分辨率光刻胶图像的最 重要的步骤之一。
[0006] 用于曝光光刻胶的活化射线的反射常常会使光刻胶层上的成像的分辨率受到限 审IJ。来自基材/光刻胶界面的福射反射会使光刻胶中的福射强度产生空间改变，导致在显影 时产生不均匀的光刻胶线宽。另外，射线还会由基材/光刻胶界面散射到光刻胶的非预定曝 光区域，从而再次产生线宽改变。
[0007] 已经使用的降低射线反射问题的一个途径是在基材表面和光刻胶涂层之间插入 射线吸收层。参见美国专利7425403。
[000引电子设备制造业不断寻求各种减反射涂层来提高光刻胶成像的分辨率。

【发明内容】

[0009] 在一个方面，我们提供了新的树脂，其包含（i)包含氯尿酸醋型基团的重复单元； (ii)包含疏水性基团（如径基-多元醇(例如二醇）、酸和它们的组合)的重复单元。
[0010] 我们发现在外涂光刻胶层的碱水显影期间，下层减反射组合物倾向于发生不希望 的从基材表面的"翅起"。运种翅起会严重损害外涂光刻胶层中的成像的分辨率。
[0011] 我们现在意外地发现，在下层减反射组合物的氯尿酸醋树脂中引入疏水性基团可 W显著增强外涂光刻胶层的分辨率，包括减少不希望的减反射层翅起。
[0012] 可W通过各种方法将运种疏水性物质赋予树脂。例如，疏水性基团可W接枝到预 形成的树脂上。包含一个或多个疏水性基团的化合物也可W与其它化合物如包含氯尿酸醋 官能团的反应性单体共聚来形成本发明的树脂。
[0013] 在一个优选方面，本发明的树脂包含氯尿酸醋单元，所述氯尿酸醋单元的多个氯 尿酸醋氮环原子被特定的（不同的）簇基（例如-C00H)和/或簇基醋（例如C00R，其中R不是 氨，例如Cl-12烷基）取代。在该方面，特别优选的本发明树脂通过如下式I的化合物反应提 供：
[0014]
[001引其中至少两个所述基团Rl00C(C拉)η-、R2-和R300C(C拉)m-是不同的酸或醋基团；和
[0016] ri、r2、r3和每个X各自独立地是氨或非氨取代基，如任选取代的烷基(例如任选取 代的Ci-10烷基），优选具有2-约10个碳原子的任选取代的締基或烘基如締丙基，优选具有 1-约10个碳原子的任选取代的链烧酷基;优选具有1-约10个碳原子的任选取代的烷氧基 (包括环氧基)如甲氧基、丙氧基、下氧基;优选具有1-约10个碳原子的任选取代的烧硫基； 优选具有1-约10个碳原子的任选取代的烷基亚横酷基;优选具有1-约10个碳原子的任选 取代的烷基横酷基;优选具有1-约10个碳原子的任选取代的簇基(其包括基团如-C00R'， 其中R'是Η或Ci-8烷基，包括基本上不与光酸反应的醋）；任选取代的烧芳基如任选取代的节 基，任选取代的碳环芳基如任选取代的苯基、糞基、起基，或任选取代的杂脂环族或杂芳族 基团如甲基邻苯二甲酯亚胺、N-甲基-1，8-邻苯二甲酯亚胺；
[0017] η和m可W相同或不同，各自是整数如0、1、2、3或4，通常优选η和/或m等于正整数如 1或2。
[0018] 在许多方面，特别优选的本发明树脂通过其中一个或多个X基团是氨的化合物反 应提供，例如下式IA的化合物：
[0019]
IA
[0020] 其中所述基团Ri〇OC(CX2)n-、R2-和R3OOC(CX2)m-中至少两个是不同的酸或醋基团； 和
[0021] Ri、R2和R3各自独立地是氨或非氨取代基，如任选取代的烷基（例如任选取代的 Ci-io烷基），优选具有2-约10个碳原子的任选取代的締基或烘基如締丙基，优选具有1-约 10个碳原子的任选取代的链烧酷基(alkanoyl);优选具有1-约10个碳原子的任选取代的 烷氧基(包括环氧基)如甲氧基、丙氧基、下氧基;优选具有1-约10个碳原子的任选取代的 烧硫基(a化ylthio);优选具有1-约10个碳原子的任选取代的烷基亚横酷基;优选具有1- 约10个碳原子的任选取代的烷基横酷基;优选具有1-约10个碳原子的任选取代的簇基(其 包括基团如-COOR'，其中R'是Η或Ci-8烷基，包括基本上不与光酸反应的醋）；任选取代的烧 芳基如任选取代的苄基，任选取代的碳环芳基如任选取代的苯基、糞基、起基 (acena地thyl)，或任选取代的杂脂环族或杂芳族基团如甲基邻苯二甲酯亚胺、N-甲基-1， 8-邻苯二甲酯亚胺；
[0022 ] η和m可W相同或不同，各自是整数如0、1、2、3或4，通常优选η和/或m等于正整数如 1或2。
[0023] 本发明要求所述基团Ri〇OC(CX2)n-、R2-和R3OOC(CX2)m-中的至少两个是不同的酸 或醋基(或者，在式IA的情况下，所述基团Ri〇OC(C此)n-、R2-和R300C(C此)m-中的至少两个是 不同的酸或醋基），运意味着至少两个基团的至少一个原子是不同的。例如，如果η和m的值 不相等，则所述基团将是不同的酸或醋基。如果基团R哺R3不相同（例如Ri是-C出和R3是H)， 则所述基团是不同的酸或醋基。如果R2是一种酸，并且所述R3不是氨，则所述基团是不同的。 多数情况下，所述基团相差两个或多个原子。
[0024] 在上述式I和IA中，优选的Ri和R3部分包括任选取代的烷基(包括环烷基），优选具 有3-8个碳原子的烷基(包括环烷基）。还优选R2基团包含酸部分或者烷基醋部分。
[0025] 在某些实施方案中，优选的化合物是如上述式I和IA的那些，其中Ri、R2和R3中的至 少一个包含一个或多个面素原子，特别是一个或多个氣原子和/或一个或多个氯原子，例如 面代烷基和烷基芳基（如面代苯基或面代糞基），如-C的、〉CF2、-CHF2、乂HF、-C此F、C姐5-xFx、 C6曲-<(：山-〇：13、-〉〇：12、-(：肥12、-〉(：肥1、-邸2(：1。通常优选的是式巧0^中护具有面素取代 基的化合物。
[0026] 在又一方面，本发明提供包含如本发明公开的树脂的减反射组合物。
[0027] 上述式I和IA中的基团R2可W用于在随后的包含所述基团的聚合物中引入各种官 能团，包括给予期望的平版印刷性能如光学性能、蚀刻速率、热性能、在涂料溶剂中的溶解 性能和在不同基材表面上的涂覆性能。上述式I的基团R2还可W影响聚合过程，W获得更线 性和更高分子量的涂料聚合物组合物。
[0028] 如上所述，优选的本发明树脂可W使用一个或多个如式I和II的化合物作为反应 物制备。特别优选的树脂包括系链(tetheredKW共价键链接)交联剂组分，W用于提供包 含所述树脂的涂覆涂层的硬化。
[0029] 正如上述讨论的，本发明还提供优选包括一种或多种如本发明公开的树脂的下层 涂料组合物。下层组合物的优选附加组分包括交联官能团或原料。将优选的下层涂料组合 物配制成有机溶剂组合物，W旋涂在期望的基材如微电子晶片上。
[0030] 优选本发明的涂料组合物在调整水接触角处理之前被交联。运种交联包括硬化和 在一个或多个组合物组分之间的共价键形成反应。
[0031] 对于减反射应用，本发明的下层组合物还优选包含一种组分，所述组分包含发色 团基团，所述发色团可W吸收用于曝光外涂光刻胶层且通过反射进入光刻胶层的不希望的 射线。此类发色团可W存在于其它组合物组分如树脂或酸产生剂化合物中；或者，所述组合 物包含另一种包含此类发色团单元的组分，例如一种包含一个或多个发色团部分例如一个 或多个任选取代的苯基、任选取代的蔥或任选取代的糞基的小分子(例如，Mw低于约1000或 500)。
[0032] 通常优选包含在本发明涂料组合物中的发色团（特别是用于减反射应用的那些） 包括单环和多环芳基，如任选取代的苯基、任选取代的糞基，任选取代的蔥基、任选取代的 菲基、任选取代的哇嘟基，等等。特别优选的发色团可W随用于曝光外涂光刻胶层的射线而 变化。更优选地，对于在248nm下的外涂光刻胶曝光，减反射组合物的优选发色团为任选取 代的蔥基和任选取代的糞基。对于在193nm下的外涂光刻胶曝光，减反射组合物的特别优选 发色团为任选取代的苯基和任选取代的糞基。优选此类发色团与所述减反射组合物的树脂 组分相连(例如，作为侧基）。
[0033] 正如上述讨论的，本发明的涂料组合物优选是交联组合物，并包含那些通过例如 热或活化射线处理会交联或固化的原料。通常，所述组合物包含交联剂组分，例如含胺原料 如蜜胺、甘脈(gly cour i 1)或苯苯并脈胺(benzoguanamine)化合物或树脂。
[0034] 优选地，本发明的交联组合物可W通过热处理所述组合物涂层而固化。合适地，涂 料组合物还包含一种酸或更优选一种酸产生剂化合物，特别是热致酸产生剂化合物，W促 进所述交联反应。
[0035] 对于作为减反射涂料组合物，W及其它应用如通孔-填充，优选所述组合物在光刻 胶组合物层涂覆所述组合物层之前被交联。
[0036] 各种光刻胶可W与本发明的涂料组合物结合（即外涂）。与本发明的减反射组合物 一起使用的优选光刻胶是化学增强型光刻胶，尤其是包含一种或多种光产酸化合物和树脂 组分的正性光刻胶，所述树脂组分包含能在光产酸存在下进行解封或裂解反应的单元，如 光酸不稳定的醋、缩醒、缩酬或酸单元。负性光刻胶也可W与本发明的涂料组合物一起使 用，例如在活化射线曝光时发生交联（即固化或硬化)的光刻胶。优选与本发明的涂料组合 物一起使用的光刻胶可W用相对较短波长的射线成像，例如波长低于300nm或低于260nm (如248nm)的射线，或者是波长低于约200nm(如193nm)的射线。
[0037] 本发明进一步提供了用于形成光刻胶浮雕像和新制品的方法，所述新制品包含单 独使用本发明的涂料组合物或将其与光刻胶组合物结合使用涂覆的基材(如微电子晶片基 材)。
[0038] 本发明的其它方面公开如下。
【具体实施方式】
[0039] 我们在此提供新型有机涂料组合物，所述组合物特别适于与外涂光刻胶层一起使 用。优选本发明的涂料组合物可W用旋涂涂覆(旋涂组合物），并将其配制成溶剂组合物。本 发明的涂料组合物特别适于作为减反射组合物用于外涂光刻胶和/或作为整平或通孔填充 组合物用于外涂光刻胶组合物涂层。
[0040] 树脂；
[0041] 正如上述讨论的，本发明的树脂包含疏水性基团如醇(包括二醇和其它多元醇）、 酸，等等。
[0042] 例如，可W用具有疏水性基团的合适单体与氯尿酸醋单体反应。用于形成本发明 树脂的合适的疏水性反应物包括，例如2-丙二醇、1，2-下二醇、1，2-戊二醇、1，2-已二醇、1， 2-癸二醇、缩水甘油基异下酸、缩水甘油基异丙酸和缩水甘油基十六烷基酸。
[0043] 我们发现，树脂中存在较低量的疏水性基团就能提供有效的结果，即增强外涂光 刻胶浮雕像的分辨率。例如，优选的树脂适合地具有约l-40wt%的疏水性部分，W总树脂 单元计，更优选1 - 20wt %的疏水性部分，或者1或2 -约1 Owt %的疏水性部分。
[0044] 如果疏水性单体具有邻近(例如，具有1、2或大约3个碳原子或其它原子的间隔)疏 水性基团（例如締控）的可聚合部分(例如，1，2-二醇），则更高比例的疏水性基团（例如，醇 如二醇）引入位点可产生在聚合物尾部。如果疏水性单体具有相对远离(例如2个W上，更优 选3、4、5、6或7W上个碳原子或其它原子的间隔)疏水性基团（例如，締控)的可聚合部分(例 如，二醇），则相对较高比例的疏水性基团（例如，醇如二醇）的引入位点可产生在聚合物链 内部(而不是尾部）。
[0045] 本发明的优选树脂的示例可W包含如下结构：
[0046]
[0047] 正如上述讨论的，优选的树脂包括由一种或多种选自上述式I的反应物形成的那 些。适合的反应是酸性或碱性缩合反应。优选地，所述选自式I的反应物占形成的树脂的总 重复单元的至少约5 %，更优选占形成的树脂的总重复单元的至少约10 %、15 %、20 %、 25%、30%、35%、40%、45%、50% 或 55%。
[0048] -个优选的合成路线如下列反应式I所示：
[0049]
[(K)加]反应式I
[0051]在上述反应式I中，化和R4与上述式I和IA中的R2相同，且易于接枝到所述单体化合 物上，例如如下列反应式II所示。上述反应式I中的各个Ri和化分别与上述式I和IA中的r1和 R3定义相同：
[0化2]
[0化3] 反应式II
[0054] 在上述反应式II中，每个Ri独立地是如上述式I中的Ri所定义的基团，优选地，反应 式II中的每个化独立地是例如氨、打-20烷基(优选Cl-lO烷基）、Cl-20烷氧基(优选打-10烷氧基）、 C7-20烧芳基，和反应式II中的化与上述式I中的R2相同。
[0055] 合适的多元醇反应物包括二醇、甘油和Ξ醇，例如作为二醇的乙二醇、1,2-丙二 醇、1,3-丙二醇、下二醇、戊二醇、环下二醇、环戊二醇、环己二醇、二径甲基环己烧，和作为 Ξ醇的甘油、Ξ径甲基乙烧、Ξ径甲基丙烷，等等。
[0056] 特别合适的树脂合成将在下面的实施例中阐述。
[0057]如上述讨论，对于减反射应用，与一种或多种合适的化合物反应形成包含功能为 发色团的部分的树脂，所述发色团部分可用于吸收用于曝光外涂光刻胶涂层的射线。例如， 邻苯二甲酸醋(phthalate)化合物(例如邻苯二甲酸(phthalic acid)或邻苯二甲酸二烷基 醋（即二醋，如每个醋具有1-6个碳原子，优选邻苯二甲酸二甲醋或邻苯二甲酸二乙醋)可W 与芳族或非芳族多元醇W及任选的其它反应性化合物聚合，W提供一种聚醋，所述聚醋特 别适用于在低于20化m波长如19化m下光刻胶成像的减反射组合物。类似地，对用于在低于 300nm波长或低于200nm波长如248nm或193nm下外涂光刻胶成像组合物的树脂，可W通过聚 合糞基化合物得到，如包含一个或两个或更多簇基取代基的糞基化合物，例如糞二甲酸二 烷基醋，特别是糞二甲酸二-C1-6烷基醋。反应性蔥化合物也是优选的，例如具有一个或多 个簇基或醋基如一个或多个甲醋或乙醋基团的蔥化合物。
[005引那些包含发色团单元的化合物还可W包含一个或优选两个或更多个径基，并与含 簇基化合物反应。例如，具有一个、两个或更多个径基的苯基化合物或蔥基化合物可W与含 簇基化合物起反应。
[0059] 另外，用于减反射目的的下层涂料组合物可W包含发色团单元的原料，所述发色 团单元独立于提供水接触角调节的树脂组分(例如那些包含光酸-不稳定基团和/或碱活性 基团的树脂）。例如，所述涂料组合物可W包含那些包含苯基、蔥基，糞基等单元的聚合物或 非聚合物。然而，通常优选一种或多种提供水接触角调节的树脂包含发色团部分。
[0060] 优选本发明的下层涂料组合物的树脂的重均分子量(Mw)为约1,000-约10,000， 000道尔顿，更优选为约2,000-约100,000道尔顿，且数均分子量(1。)为约500-约1，000， 000道尔顿。本发明聚合物的分子量(Mw或Μη)可W通过凝胶渗透色谱法合适地测定。
[0061] 如上所述，优选的本发明下层涂料组合物可W例如通过热和/或射线处理而被交 联。例如，优选本发明的下层涂料组合物包含单独的交联剂组分，所述交联剂组分可W与一 个或多个涂料组合物的其它组分交联。通常优选交联涂料组合物包含单独的交联剂组分。 特别优选本发明的涂料组合物包含如下独立组分:树脂、交联剂和酸源如热致酸产生剂化 合物。通常优选通过活化所述热致酸产生剂来热引发所述涂料组合物的交联。
[0062] 用于涂料组合物的合适的热致酸产生剂化合物包括离子或者基本上中性的热致 酸产生剂，例如芳控横酸锭，用于在减反射组合物涂层固化期间催化或促进交联。通常一种 或多种热致酸产生剂在涂料组合物中的存在量为所述组合物总的干组分(除溶剂载体外的 所有组分)重量的约0.1-lOwt%，更优选为总的干组分重量的约2wt%。
[0063] 优选本发明的交联型涂料组合物还包含一种交联剂组分。可W使用各种交联剂， 包括在希普雷公司的欧洲申请542008中公开的那些交联剂，该公开文献W引用的方式全文 插入于此。例如，合适的涂料组合物交联剂包括胺基交联剂如蜜胺原料，包括蜜胺树脂，例 如由氯胺工业公司（切tec Indus化ies)生产并销售的下列商品：切mel300、301、303、350、 370、380、1116和1130。甘脈是特别优选的，包括购自氯胺工业公司（切tec Indus化ies)的 甘脈。苯并脈胺(Benzoquanamines)和脈基原料也是适合的，包括树脂如购自氯胺工业公司 (^tec Industries)商品名为Cymel 1123和1125的苯脈胺树脂，和购自氯胺工业公司 (切tec Industries)商品名为化wderlink 1174和1196的脈树脂。除了从市场购买之外，此 类胺基树脂还可W例如通过丙締酷胺或甲基丙締酷胺共聚物与甲醒在含醇溶液中反应制 备，或者选择性地通过N-烷氧基甲基丙締酷胺或甲基丙締酷胺与其它合适的单体共聚制 备。
[0064] 本发明的涂料组合物的交联剂组分的存在量通常为减反射组合物的总固体(除溶 剂载体外的所有组分)的约5-50wt%，更典型地为总固体的约7-25wt%。
[0065] 本发明的涂料组合物，特别是用于反射控制应用的涂料组合物，还可W包含能吸 收外涂光刻胶层曝光用射线的其它染料化合物。其它任选的添加剂包括表面流平剂，例如， W商品名Silwet 7604购得的流平剂，或购自3M公司的表面活性剂FC 171或FC 431。
[0066] 本发明的下层涂料组合物还可W包含其它原料如光酸产生剂，包括如上讨论的与 外涂光刻胶组合物一起使用的光酸产生剂。所述光酸产生剂在减反射组合物中的使用的论 述参见美国专利6261743。
[0067] 为了制备本发明的液体涂料组合物，可W将涂料组合物的组分溶于合适的溶剂 中，所述溶剂如一种或多种如上所讨论的氧代异下酸醋，特别是如上述讨论的甲基-2-径基 异下酸醋；乳酸乙醋；或一种或多种二醇酸，如2-甲氧基乙酸(二甘醇二甲酸）、乙二醇单甲 酸和丙二醇单甲酸;兼备酸和径基部分的溶剂，如甲氧基下醇、乙氧基下醇、甲氧基丙醇和 乙氧基丙醇；甲基2-径基异下酸醋；醋，如甲基溶纤剂乙酸醋、乙基溶纤剂乙酸醋、丙二醇单 甲酸乙酸醋、二丙二醇单甲酸乙酸醋；W及其它溶剂，如二元酸醋、碳酸丙二醋和丫-下内 醋。溶剂中干组分的浓度取决于诸如涂覆方法等几个因素。通常，下层涂料组合物的固含量 为涂料组合物总重量的约0.5 - 20wt %，优选固含量为涂料组合物的约0.5 -1 Owt %。
[006引示例性光刻胶体系
[0069] 各种光刻胶组合物都可W与本发明的涂料组合物一起使用，包括正性和负性光 酸-产生组合物。与本发明的减反射组合物一起使用的光刻胶典型地包含树脂粘合剂和光 活性组分，所述光活性组分典型地是光酸产生剂化合物。优选地，光刻胶树脂粘合剂具有能 给成像的光刻胶组合物赋予碱性水溶液显影性的官能团。
[0070] 正如上述讨论的，与本发明的下层涂料组合物一起使用的特别优选的光刻胶是化 学增强型光刻胶，特别是正性化学增强型光刻胶组合物，其中光刻胶层中经光活化的酸引 发了一种或多种组合物组分的脱保护(deprotection)型反应，从而在光刻胶涂层的曝光和 未曝光区域之间产生了溶解度差别。众多化学增强型光刻胶组合物是已知的，例如，如美国 专利No. 4,968,581 ;4,883,740 ;4,810,613 ;4,491,628 和 5,492,793所述。本发明的涂料组 合物特别适合与正性化学增强型光刻胶一起使用，所述光刻胶带有能在光酸的存在下进行 解封反应的缩醒基团。此类缩醒基光刻胶已经在例如美国专利5，929，176和6，090，526中描 述。
[0071] 本发明的下层涂料组合物还可W与其它正性光刻胶一起使用，所述其它正性光刻 胶包括包含带极性官能团如径基或簇酸醋基的树脂粘合剂的那些，且所述树脂粘合剂在光 刻胶组合物中的用量为足W使得所述光刻胶能用碱性水溶液显影。通常，优选的光刻胶树 脂粘合剂是酪醒树脂，包括本领域已知的被称为酪醒树脂清漆(novolakresins)的酪醒缩 合物、締基酪的均聚物和共聚物W及N-径苯基-马来酷亚胺的均聚物和共聚物。
[0072] 与本发明的下层涂料组合物一起使用的优选的正性光刻胶含有成像有效量的光 酸产生剂化合物和一种或多种选自W下组的树脂：
[0073] 1)酪醒树脂，其包含能够提供特别适于在248nm成像的化学增强型正性光刻胶的 酸不稳定基团。特别优选的此类树脂包括：i)包含乙締基苯酪和丙締酸烷基醋聚合单元的 聚合物，其中所述聚合的丙締酸烷基醋聚合单元可W在光酸的存在下进行解封(deblock) 反应。可W进行光酸引发解封反应的丙締酸烷基醋的示例包括，例如丙締酸叔下醋、甲基丙 締酸叔下醋、丙締酸甲基金刚醋、甲基丙締酸甲基金刚醋，W及可W进行光酸引发反应的其 它丙締酸非环烷基醋和丙締酸脂环基醋，例如在美国专利6，042，997和5，492，793中的聚合 物；ii)包含乙締基苯酪、不含径基或簇基环上取代基的任选取代的乙締基苯基（例如苯乙 締)和丙締酸烷基醋（例如如上述聚合物i)中描述的那些解封基团）聚合单元的聚合物，此 类聚合物如美国专利6，042，997所述;和i i i)包含带有能与光酸反应的缩醒或缩酬部分的 重复单元和任选的芳族重复单元如苯基或酪基的聚合物;此类聚合物已经在美国专利5， 929，176 和6，090，526 中描述。
[0074] 2)树脂，其基本上没有或完全没有苯基或其它芳基，并能够提供特别适于在低于 200nm如19化m波长成像的化学增强型正性光刻胶。特别优选的运类树脂包括：i)包含非芳 族环締控(环内双键)如任选取代的降冰片締的聚合单元的聚合物，如在美国专利5,843， 624和6,048,664中所述的聚合物；ii)包含丙締酸烷基醋单元的聚合物，所述丙締酸烷基醋 单元例如丙締酸叔下醋、甲基丙締酸叔下醋、丙締酸甲基金刚烧醋、甲基丙締酸甲基金刚烧 醋，W及其它丙締酸非环烧醋和丙締酸脂环醋；此类聚合物已经在美国专利6,057,083、欧 洲公开申请6口 010089134巧此口 0093054241^及美国未决专利申请齡.09/143,462中描 述;iii)包含聚合酸酢单元的聚合物，特别是聚合马来酸酢和/或衣康酸酢单元，例如在欧 洲已公开申请EP 01008913A1和美国专利6，048，662中公开的那些。
[0075] 3)包含带有杂原子、特别是氧和/或硫的重复单元(但酸酢除外，即所述单元不含 酬环原子）的树脂，并且优选该树脂基本上或者完全不含任何芳族单元。优选地，所述杂脂 环单元与树脂主链稠合，并且更优选的是，其中树脂包含稠合的碳脂环族单元，例如由降冰 片締基和/或酸酢单元聚合形成，例如由马来酸酢或者衣康酸酢聚合形成。此类树脂在PCT/ US01/14914和美国申请09/567,634中公开。
[0076] 4)包含氣取代基的树脂(氣聚合物），例如其可W由四氣乙締、氣化芳基如氣-苯乙 締化合物等聚合形成。此类树脂的实施例在例如PCT/US99/21912中公开。
[0077] 用于外涂在本发明的涂料组合物上的正性或负性光刻胶中的合适光酸产生剂包 括酷亚胺基横酸醋，例如如下式的化合物：
[007引
[0079] 其中R是精脑、金刚烧、烷基（例如Ci-12烷基）和氣烷基如氣(Ci-18烷基），例如RCF2- (其中R是任选取代的金刚烷基）。
[0080] 还优选的是Ξ苯基梳PAG，与阴离子如上述横酸醋特别是全氣烷基横酸醋，例如全 氣下烧横酸醋阴离子络合。
[0081] 其它已知的PAGS也W被用于本发明的光刻胶。特别对于193皿成像而言，通常优选 PAGS不包含芳基，例如上述酷亚胺基横酸醋，W提供增强的透明度。
[0082] 用于本发明组合物的其它合适的光酸产生剂包括例如：鐵盐，如Ξ苯基梳Ξ氣甲 烧横酸醋、（对-叔-下氧基苯基）二苯基梳Ξ氣甲烧横酸醋、Ξ(对-叔-下氧基苯基）梳Ξ氣 甲烧横酸醋、Ξ苯基梳对-甲苯横酸醋；硝基苄基衍生物，如2-硝基苄基对-甲苯横酸醋、2， 6-二硝基苄基对-甲苯横酸醋和2，4-二硝基苄基对-甲苯横酸醋;横酸醋，如1，2，3-Ξ(甲烧 横酷基氧基)苯、1，2,3-Ξ(Ξ氣甲烧横酷基氧基)苯和1，2,3-Ξ(对-甲苯横酷基氧基）苯； 重氮甲烧衍生物，如二（苯横酷基）重氮甲烧(diazomethane )、二（对-甲苯横酷基）重氮甲 烧；乙二朽衍生物，如二-〇-(对-甲苯横酷基)-曰-二甲基乙二朽和二-〇-(正下烧横酷基)-口- 二甲基乙二朽;N-径基酷亚胺化合物的横酸醋衍生物，如N-径基班巧酷亚胺甲横酸醋、N-径 基班巧酷亚胺Ξ氣甲烧横酸醋；和含面素 Ξ嗦化合物，如2-(4-甲氧基苯基4,6-二(Ξ氯甲 基)-1，3,5-Ξ嗦和2-(4-甲氧基糞基)-4,6-二(Ξ氯甲基)-1，3,5-Ξ嗦。可W使用运些PAGs 的一种或多种。
[0083] 本发明光刻胶的优选的任选添加剂是附加碱，特别是氨氧化四下锭(TBAH)，或乳 酸四下锭，它们可W增强显影后的光刻胶浮雕像的分辨率。对于在193nm成像的光刻胶而 言，优选的附加碱是氨氧化四下锭的乳酸盐W及各种其它胺如Ξ异丙醇、二氮杂双环十一 碳締（diazabi巧cloundecene)或二氮杂双环壬締（diazab;ixyclononene)。附加碱适于W 较少量使用，例如占总固体的约0.0 3 - 5 W t %。
[0084] 与本发明的外涂涂料组合物一起使用的优选的负性光刻胶组合物包含原料混合 物，所述原料混合物在暴露于酸和光酸产生剂时将发生固化、交联或硬化。
[0085] 特别优选的负性光刻胶组合物包含一种树脂粘合剂如酪醒树脂、一种交联剂组分 和一种本发明的光活性组分。此类组合物及其应用已经公开在欧洲专利申请0164248和 0232972 W及塔克凯雷(Thackeray)等人的美国专利No. 5，128，232中。用作树脂粘合剂组分 的优选酪醒树脂包括酪醒树脂清漆和聚（乙締基苯酪），如W上所述的那些。优选的交联剂 包括，胺基原料，包括蜜胺、甘脈、苯并脈胺原料和脈基原料。蜜胺-甲醒树脂通常是最优选 的。此类交联剂是市场上可买到的，例如氯胺工业公司（切tec Industries) W商品名切mel 300、301和303出售的蜜胺树脂。氯胺工业公司（切tec Indus化ies)W商品名Cymel 1170、 1171、1172、Powderlink 1174出售的甘脈树脂，和W商品名切mel 1123和1125出售的苯代 Ξ聚氯胺树脂。
[0086] 本发明的光刻胶还可W包含其它任选的原料。例如，其它任选的添加剂包括抗条 痕剂、增塑剂、速度增强剂、溶解抑制剂，等等。此类任选的添加剂典型地W低浓度存在于光 刻胶组合物中，但填料和染料除外，它们可W W较高的浓度存在，例如占光刻胶干组分总重 量的约5 -30wt%。
[0087] 平版印刷工艺
[0088] 使用时，本发明的涂料组合物通过任意的各种方法如旋涂作为涂层被涂覆在基材 上。涂料组合物通常涂覆到基材上的干涂层厚度为约0.02-0.5微米，优选干涂层厚度为约 0.04-0.20微米。适合的基材是任何用于光刻胶工艺的基材。例如，所述基材可W是娃、二氧 化娃或侣-氧化侣微电子晶片。也可W使用神化嫁、碳化娃、陶瓷、石英或铜基材。还适合使 用用于液晶显示器或其他平板显示器应用的基材，例如玻璃基板、氧化锡铜涂覆基材，等 等。还可W使用用于光学和光电设备(例如波导）的基材。
[0089] 优选地，在光刻胶组合物涂覆所述下层涂料组合物之前对已涂覆的涂层进行固 化。固化条件随所述下层涂料组合物组分的不同而变化。特别地，所述固化溫度取决于涂料 组合物中使用的具体的酸或酸（热）产生剂。典型的固化条件为在约8(TC-225°C固化约 0.5-5分钟。固化条件应当优选使涂料组合物涂层基本上不溶于光刻胶的溶剂和碱性显影 剂水溶液。
[0090] 在该固化之后，将光刻胶涂覆在所述已涂覆的涂料组合物表面上。与所述底涂料 组合物层的涂覆一样，所述外涂光刻胶可W通过任何标准方法，如通过旋涂、浸涂、半月板 涂覆或漉涂进行涂覆。涂覆后，通常要通过加热干燥所述光刻胶涂层W除去溶剂，优选直到 所述光刻胶层达到不粘。最佳地，底组合物层和外涂光刻胶层基本上不发生渗合。
[0091] 然后W常规方法经掩模使用活化福射使光刻胶层成像。曝光能量应足W有效地活 化光刻胶体系中的光活性组分，从而在光刻胶涂层中产生图像。典型地，所述曝光能量为约 3-300mJ/cm2,且部分地取决于曝光工具和具体的光刻胶W及使用的光刻胶工艺。如果期 望产生或加强涂层的曝光和未曝光区域之间的溶解度差异，可W对曝光后的光刻胶层进行 后曝光烘赔。例如，负性酸硬化型光刻胶一般需要进行后曝光加热来引发酸促进的交联反 应，且许多化学增强型正性光刻胶需要后曝光加热来引发酸促进的脱保护反应。典型的后 曝光烘赔条件包括溫度为约50°C或更高，更优选溫度范围为约50°C -约160°C。
[0092] 所述光刻胶层还可W在浸溃平版印刷体系中曝光，即其中所述曝光工具(特别是 投影透镜)和所述光刻胶涂覆基材之间的间隙充满浸溃流体，例如水或水与一种或多种添 加剂如硫酸飽的混合物，所述添加剂如硫酸飽可W增强流体的折射率。优选地，所述浸溃流 体(例如，水)已经进行过脱气泡处理，例如对水进行脱气W避免纳米气泡。
[0093] 本发明中的术语"浸溃曝光"或其它类似术语是指所述曝光的进行伴随有插在曝 光工具和涂覆的光刻胶组合物层之间的流体层(例如水或水与添加剂的混合物）。
[0094] 然后将曝光的光刻胶涂层显影，优选使用碱性显影剂水溶液，例如W四下基氨氧 化四下基锭、氨氧化钢、氨氧化钟、碳酸钢、碳酸氨钢、娃酸钢、偏娃酸钢、氨水等为代表的 碱。或者，可W使用有机显影剂。通常，根据本领域公知的方法进行显影。显影后，通常在约 10(TC-约15(TC的溫度下对酸硬化型光刻胶进行几分钟的最终烘赔，W进一步固化显影的 曝光涂层区域。
[0095] 然后，可W对显影后的基材的无光刻胶区域进行选择性处理，例如按照本领域公 知的方法对基材的无光刻胶区域进行化学蚀刻或电锻。合适的蚀刻剂包括氨氣酸蚀刻溶液 和等离子体蚀刻气体如氧等离子蚀刻剂。等离子气体蚀刻剂能除去所述下层涂层。
[0096] 等离子蚀刻通过下列步骤进行:将涂覆基材(例如，涂有根据本发明的下层涂料组 合物和光刻胶的基材)置于等离子蚀刻腔室中（例如Mark II氧化蚀刻腔室），腔室的压力为 25mT、最大功率为600瓦特、33CH的(近似）、7〇2(近似)和80Ar (近似）。
[0097] 下列非限制性实施例用于举例说明本发明。本发明中提到的所有文件都被引入本 发明作为参考。
[009引实施例1
[0099] 根据上述反应式II制备式I单体的常规合成方法。
[0100] 在室溫将200g的下基二(簇基乙基）异氯脈酸）醋溶于525g THF中。在冰浴中将所 述均一溶液冷却至〇°C，随后添力日125.14g的苄基漠。当获得透明溶液后，将98.7g的1,8-二 氮杂双环[5.4.0]-十一-7-締，DBU，缓慢地添加到反应混合物中。DBU添加完毕后，将所述内 容物在室溫揽拌一整夜，从而获得所述盐的粘稠白色沉淀。过滤所述沉淀并通过添加500ml 的乙酸乙醋稀释有机相。用0.1 N的HC巧日水先后冲洗所述混合的有机相，从而获得中性pH的 水相。用硫酸钢干燥所述有机相，接着进行真空干燥，从而获得约210g的粘性油。用iH NMR 、1化NMR和HPLC测定所述单体的纯度，为大约>99%。
[0101] 实施例2-12是根据实施例1的通用步骤制备的其它有用单体。
[0102] 实施例1。
[0103] 在下表中，基团Ri表示在上述反应式II中所示的化合物C的Ri取代基，和R2表示如 上述反应式II中所示的化合物A的R2取代基。
[0104] 表1
[0105]
[0107]实施例13下基二(簇基乙基)异氯脈酸醋与表氯醇的烷基化 [010引将30g的下基二(簇基乙基）异氯脈酸醋、8.16g的碳酸钢、3.85mmol的苄基Ξ甲基 氯化锭、8.5g的表氯醇和lOOmL的二日恶烧加入到250mL的圆底烧瓶中，所述圆底烧瓶装有磁 力揽拌器和顶置冷凝器。所述烧瓶被置于设定在9(TC的油浴中，并揽拌12小时。冷却反应物 并用200mL的蒸馈水稀释。然后在乙酸乙醋（300mL)中萃取反应物，并用200mL的水洗涂两 次，用硫酸钢干燥，接着在旋转蒸发器上除去溶剂。进一步在真空下干燥所述产物，从而获 得一种粘性油(30g，89 %产率）。
[0109] 实施例14
[0110] 向500ml的Ξ颈圆底烧瓶中加入lOOg的单体B(R3是H)、133.18g的实施例5单体， 2.25g的对甲苯横酸和164g的苯甲酸。在强烈揽拌反应物的同时，将烧瓶加热到140-160°C。 下醇与苯甲酸一起被从反应烧瓶中缓慢地蒸馈出来。在六小时内收集到145g的馈出物。然 后用509g的甲基-2-径基异下酸醋稀释得到的粘性聚合物溶液。将lOOg的运种溶液的样品 加入到lOOOmL的异丙醇中进行聚合物沉淀。在过滤器上收集得到的沉淀，部分空气干燥后， 接着用真空干燥炉干燥，从而获得一种白色粉末，所述白色粉末的特性如表2所示。
[0111] 使用根据实施例14的方法制备实施例15-22的聚合物。具有如上述反应式I的化 合物B结构的单体B的R3 = H，R4=(C此)20H;所有运些实施例中表示上述反应式I化合物B结 构的单体B都具有运样的R3和R4基团，运种单体B亦称作T肥1C。所述聚合物W及实施例14的 聚合物的特性如表2所示。在表2中，单体A是指如上述反应式II所示的结构体A。
[0112] 表2
[0113]
[0114] 实施例23
[0115] 使用根据实施例14的方法，在过量1,2-丙二醇中，制备包含实施例8的单体A和单 体B(R3 = H)的Ξ元共聚物，其中单体A和单体B的加料比为1:1。由此制得的缩合聚合物的Mw 为7460、PD为2.5、ni93为1.926和ki93为0.24。
[0116] 实施例24
[0117] 包含Ξ元酸和Ξ元醇的减反射聚合物
[011引向1000ml的Ξ颈圆底烧瓶中加入304g的^(2-径乙基）异氯脈酸醋、201.0g的Ξ (2-簇基乙基）异氯脈酸醋、5.39g的对甲苯横酸单水合物、201. Ig的正下醇和342g的苯甲 酸。在强烈揽拌反应物的同时，将烧瓶加热到140-160°C。下醇与苯甲酸一起被从反应烧瓶 中缓慢地蒸馈出来。通过控制馈出物的量合成各种Mw的聚合物。然后用1587g的甲基-2-径 基异下酸醋稀释聚合物溶液。用Ξ乙胺中和得到的溶液，并用10倍体积的异丙醇/甲基叔下 酸(50/50)溶液沉淀产物。收集聚合物并在真空、40°C-6(rC干燥聚合物一整夜。GPC(THF)Mw 为4623，多分散性指数为1.68，η?93为1.926和ki93为0.24。
[0119] 为了降低升华，共价键接一种交联剂如四甲氧基甲基甘脈到所述减反射聚合物 上。
[0120] 实施例25
[0121]
[0122] 将约700g的来自实施例14的聚合物溶液加热至50°C，接着加入140g的甲基-2-径 基异下酸醋和35g的四甲氧基甲基甘脈，在50°C揽拌所述反应物3小时。然后冷却反应物至 室溫并用Ξ乙胺中和。用60/40的异丙醇/庚烧（10倍过量)进行沉淀。用庚烧洗涂沉淀，并真 空干燥一整夜，从而获得具有上述结构的聚合物。获得的聚合物的Mw为22175，PD为6.18， 山93为1.993和ki93为0.32。使用cUnMR测定，约13.5wt %的交联剂连接于聚合物上。
[0123] 实施例26和27是本发明的减反射涂料组合物的样品。
[0124] 实施例26
[01巧]用0.化的Teflon过滤器过滤包含下列物质的减反射流延（casting)溶液：3.237g 的来自实施例19的聚合物、5.768g的四甲氧基甲基甘脈、0.37Ig的对甲苯横酸氨溶液和 490.624g的甲基-2-径基异下酸醋，然后将该溶液旋转流延在娃晶片上。将薄膜在205°C下 烘赔60秒，测量厚度，然后用PGMEA胶泥覆盖60秒。在旋转干燥之后，再次测量薄膜的厚度。 没有检测到显著的厚度减小或增大。当W同样方法获得的新薄膜用MF26A显影剂覆盖60秒 之后，同样没有观察到膜厚度的减小或增大。运些试验表明，固化的薄膜是高度交联的，不 会受到溶剂或显影剂的影响。
[0126] 实施例27
[0127] 人们期望能根据应用的需要，W最佳的涂覆和光学性能共混本发明的减反射聚合 物组合物。由此，用0.化的Tef 1 on过滤器过滤包含下列物质的溶液：1.91 ：3g的实施例19的聚 合物、l.gUg的实施例25的聚合物、4.29g的四甲氧基甲基甘脈、0.371g的对甲苯横酸氨溶 液和490.624g的甲基-2-径基异下酸醋，然后将该溶液旋转流延在娃晶片上。在实施例26中 使用的烘赔和剥离试验步骤之后，发现所述薄膜也不受PGMEA(丙二醇单甲酸乙酸醋）和 ο. 26N碱性显影剂水溶液的影响。
[012引实施例28
[0129] 聚合物II的合成和特性
[0130]
[0131] 聚合物II
[0132] 向 500ml 的 Ξ 颈圆底烧瓶中加入 70g(0.268mol)的 1'肥1〔、133.86邑(0.0.268111〇1)的 下基-BCEIC-叔下基乙酸醋、30.60g(0.268mol)的环己基甲醇、1.99g(总单体的Iwt% )的 对-TSA和142.7g的苯甲酸。在强烈揽拌反应物的同时，将烧瓶加热到140-160°C。正下醇与 苯甲酸一起被从反应烧瓶中缓慢地蒸馈出来。通过控制馈出物的量来保持聚合物的Mw范 围。然后用650g的甲基-2-径基异下酸醋稀释聚合物反应溶液。得到的溶液加热至50°C，接 着加入45.5g的四甲氧基甲基甘脈和另外的187g的甲基-2-径基异下酸醋。在该溫度下溫和 地揽拌反应物3小时。3小时之后，用Ξ乙胺中和反应混合物，并用10倍体积的异丙醇/甲基 叔下酸巧0/50)沉淀聚合物。在4〇°c-6(rc的真空干燥炉中干燥聚合物，然后用gpc、ci3nmr和 楠圆光度计(oil邱somet巧KWVASE32偏振光楠圆率测量仪)进行表征。聚合物的Mw为约16， 000道尔顿，甘脈基侦陛为约23 %，和山93为1.93，ki93为0.27。根据实施例26所述的方法测试 聚合物的自交联性。当用PGMEA和0.26N显影剂覆盖固化的聚合物时，没有观察到显著的膜 厚度减小。
[0133] 实施例29: C-甘油-癸二醇聚合物的合成。
[0134]
[0135] 将单体C(上述反应式II的化合物C，其中R1是叫（200旨，45111〇1%)、甘油（60邑， 40111〇1%)和1，2-癸二醇(42.5邑，15111〇1%)加入至1]10001111的^颈圆底烧瓶中，接着加入^^% 的对-TSA和苯甲酸。在145°C下强烈摇动反应物5-7小时，收集到约35g-45g的馈出物。通过 降低反应溫度至80°C进行反应骤冷，接着加入THF。过滤掉残余的单体C，并用甲基-叔下基 酸/异丙醇(50/50，v/v)混合物沉淀滤液，得到白色的粉末，在加热下用真空干燥炉干燥该 白色粉末。所述聚合物也可W用多种其它溶剂如庚烧、二异丙酸等进行沉淀。
[0136] 对聚合物进行各种分析测试。
[0137] 1? NMR显示组合物的组成为:54%的单体C(化是H)、43%的甘油和3%的1,2-癸二 醇。光学性能：Π193:1.949; ki93:0.192。
[0138] 可W通过提高或者降低所述二醇单体的加入量来合成具有各种组成的其它聚合 物。通过在不同的沉淀溶剂混合物中分馈，也可W在一定程度上改变聚合物的组成。
[0139] 例如，当使用不同极性的溶剂混合物沉淀上述富集在二醇反应物中的聚合物时， 通过1?醒R测定到一种新的聚合物组合物，其包含:48%的单体C(上述反应式II中的化合 物(：，其中扣是^、47%的甘油和5.5%的癸二醇。
[0140] 实施例30:聚合物链内疏水性组分的引入。
[0141] 不受任何理论的束缚，人们相信由于空间因素的原因，大的疏水性单体如1,2-癸 二醇的引入主要发生在聚合物链的末端。为了改进聚合物链内疏水性组分的分布，人们期 望使用一种单体，其中的疏水性组分进一步远离反应性聚合基团。
[0142] 根据上述反应式II，通过缩合单体Cl(上述反应式II中的化合物C，其中Ri是下基、 R2是环己基乙基)和单体C(化和化都是H)可W制得甘油单体Cl。
[0143] 通过使用单体CiUi是下基、R2是环己基乙基）、单体C(Ri和R2都是Η)和甘油或其它 多元醇可W将疏水性组分引入到聚合物中。
[0144]
[0145] 反应式III
[0146] 聚合物的合成根据上述实施例14进行。
[0147] 聚合物的结构的示例如下式所示：
[014 引
【主权项】
1. 一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基 团和疏水性基团的树脂， 所述树脂由具有疏水性基团的单体和氰尿酸酯化合物反应而制得，所述氰尿酸酯化合 物的多个氰尿酸酯氮环原子被不同的羧基和/或羧基酯基取代，所述树脂包含聚酯键， 所述氰尿酸酯化合物对应于下列式I:其中所述基团RbOCXCXdn-、!?2-和R3OOC(CX2) m-中至少两个是不同的酸或酯基团； 妒、1?2、1?3和乂各自独立地是氢或非氢取代基； R\R2和R3中至少一个具有一个或多个卤素原子;和 η和m相同或不同，各自是一个整数。2. 如权利要求1所述的涂料组合物，其中疏水性基团选自羟基和醚。3. 如权利要求1-2中任一项所述的涂料组合物，其中所述树脂包含共价键链接的交联 剂基团。4. 一种涂敷的基材，所述基材包含： 权利要求1所述的减反射组合物层； 在所述涂料组合物层之上的光刻胶层。5. -种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括： 在基材上涂覆权利要求1所述的减反射涂料组合物； 在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物;和 曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像。6. 如权利要求5所述的方法，其中所述减反射组合物在涂覆所述光刻胶组合物之前交 联。7. 如权利要求1所述的涂料组合物，其中所述氰尿酸酯化合物对应于下式IA:其中所述基团RbOCXCftOn-、!?2-和R3OOC(CH2) m-中至少两个是不同的酸或酯基团； R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基； R\R2和R3中至少一个具有一个或多个卤素原子;和 η和m相同或不同，各自是一个整数。8. 如权利要求7所述的涂料组合物，其中式IA中，R1、!?2和R3各自独立地是任选取代的 Cl_1Q烷基、具有2 -10个碳原子的任选取代的烯基或炔基、具有1 一 10个碳原子的任选取代 的链烷酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷氧基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的 烷硫基;具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷基亚磺酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代 的烷基磺酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的羧基、任选取代的烷芳基、任选取代的碳 环芳基或任选取代的杂脂环族或杂芳族基团;η和m各自是正整数。9. 如权利要求1所述的涂料组合物，其中所述树脂具有氟取代基。10. 如权利要求5所述的方法，其中所述树脂具有氟取代基。11. 如权利要求5所述的方法，其中所述树脂是由包括下述化合物的试剂制得的，所述 化合物对应于下式IA:其中所述基团RbOCXCftOn-、!?2-和R3OOC(CH2) m-中至少两个是不同的酸或酯基团； R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基； R\R2和R3中至少一个具有一个或多个卤素原子;和 η和m相同或不同，各自是一个整数。12. 如权利要求11所述的方法，其中式IA中，R1、R2和R3各自独立地是任选取代的Cho烷 基、具有2 -10个碳原子的任选取代的烯基或炔基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的链烷 酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷氧基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷硫基； 具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷基亚磺酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的烷基磺 酰基、具有1 一 10个碳原子的任选取代的羧基、任选取代的烷芳基、任选取代的碳环芳基或 任选取代的杂脂环族或杂芳族基团;η和m各自是正整数。
【文档编号】C08G73/06GK105824197SQ201610177374
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2010年5月20日
【发明人】A·赞皮尼, G·B·韦顿, V·简恩, 刘骢, S·克雷, O·昂格伊
【申请人】罗门哈斯电子材料有限公司