一种高均匀度曝光机光路系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。本实用新型至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。
【专利说明】
一种高均匀度曝光机光路系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种用于PCB生产领域的曝光机的光路系统，尤其涉及一种高均匀度曝光机光路系统。
【背景技术】
[0002]目前，现有的普通曝光机的光路系统，其光源的光线经过复眼透镜机构的复眼透镜以后光束得到匀化，使得相同角度的光的能量相同，然后，光束经过主反射镜机构的主反射镜反射，最终照射到目标面上。但由于主反射镜是具有一定的曲率半径的，并具有一定的倾斜角度，这样就导致从复眼透镜射出的相同角度的光束，其最终射在目标面上的区域尺寸不同。根据能量守恒定律，由于其总能量是不变的，这就导致不同区域的能量密度有差另IJ，限制了最终目标面上射到的强度均匀度。
[0003]目前PCB领域常见的曝光机，目标面上的强度均匀度只有85%_89%之间。
【实用新型内容】
[0004]为解决现有技术中的不足，本实用新型的主要目的在于提供一种高均匀度曝光机光路系统，其至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。
[0005]—种高均勾度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方;所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上;所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下;所述目标面位于主反射镜机构的下方。
[0006]作为优选实施方案之一，所述主反射镜的倾斜角为22.5°±5°。
[0007]作为优选实施方案之一，所述主反射镜机构上的主反射镜的曲率半径为3100mm土100mm0
[0008]作为优选实施方案之一，所述次反射镜机构上的次反射镜的曲率半径为3100mm土100mm0
[0009]作为优选实施方案之一，所述复眼透镜机构与次反射镜机构中心之间的距离为250mm ± 150mm ο
[0010]进一步地，所述次反射镜机构中心至主反射镜机构中心的距离是1550mm ± 500mm。[0011 ] 进一步地，所述主反射镜机构中心至目标面的距离是690mm± 150mm。
[0012]本实用新型的有益效果:本实用新型包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方;所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上;所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下;所述目标面位于主反射镜机构的下方。通过加入一个次反射镜，消除了相同角度照射到目标区域面积不同的问题，使得相同立体角度的光线，在目标面上的照射区域面积相同，光线均匀度高，最终能够实现95%以上的均匀度。
[0013]所以，本实用新型至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型一优选实施例的结构示意图。
[0015]附图标记说明:
[0016]1、光源模块机构;2、复眼透镜机构;3、主反射镜机构;4、次反射镜机构;5、目标面；
6、固定机构。
【具体实施方式】
[0017]为了更清晰的阐述本实用新型，提供以下实施例以供参考:
[0018]如图1所示，一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构1、复眼透镜机构
2、主反射镜机构3、次反射镜机构4和目标面5，所述次反射镜机构4位于复眼透镜机构2和主反射镜机构3之间的下方，并水平设在一与光源模块机构I连接的固定机构6上，所述复眼透镜机构2设在光源模块机构I和次反射镜机构4之间，并设在次反射镜的上方;所述次反射镜机构4上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上;所述主反射镜机构3上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下;所述目标面5位于主反射镜机构3的下方。
[0019]作为优选实施方案之一，所述主反射镜的倾斜角为22.5°±5°。
[0020]作为优选实施方案之一，所述主反射镜机构3上的主反射镜的曲率半径为3100mm土100mm0
[0021]作为优选实施方案之一，所述次反射镜机构4上的次反射镜的曲率半径为3100mm土100mm0
[0022]作为优选实施方案之一，所述复眼透镜机构2与次反射镜机构4中心之间的距离为250mm ± 150mm ο
[0023]进一步地，所述次反射镜机构4中心至主反射镜机构3中心的距离是1550mm 土500mmο
[0024]进一步地，所述主反射镜机构3中心至目标面的距离是690mm 土 150mm。
[0025]通过本实施例的实施效果来看，通过加入一个次反射镜，消除了相同角度照射到目标区域面积不同的问题，使得相同立体角度的光线，在目标面上的照射区域面积相同，光线均匀度高，最终能够实现95 %以上的均匀度，并且，结构简单，容易实现。
[0026]需要说明的是，尽管本实用新型的技术内容及技术特征已揭示如上，然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本实用新型的教示及揭示而作种种不背离本实用新型精神的替换及修饰，因此，本实用新型保护范围应不限于实施例所揭示的内容，而应包括各种不背离本实用新型的替换及修饰，并为本专利申请权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于:它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方;所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上;所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下;所述目标面位于主反射镜机构的下方。2.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述主反射镜的倾斜角为22.5° ±5°。3.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述主反射镜机构上的主反射镜的曲率半径为3100mm± 1000mm。4.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述次反射镜机构上的次反射镜的曲率半径为31 OOmm ± I OOOmm。5.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述复眼透镜机构与次反射镜机构中心之间的距离为250mm± 150mm。6.根据权利要求5所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述次反射镜机构中心至主反射镜机构中心的距离是1550mm ± 500mm。7.根据权利要求6所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述主反射镜机构中心至目标面的距离是690mm 土 150mm。
【文档编号】G03F7/20GK205485280SQ201620268276
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年4月1日
【发明人】孙秀辉, 杨若夫, 蔡文涛
【申请人】张家港奇点光电科技有限公司