等离子显示板的滤光片的制作方法

文档序号:2969539阅读:231来源:国知局
专利名称:等离子显示板的滤光片的制作方法
技术领域
本发明涉及PDP(等离子显示板),更具体地,涉及等离子显示板的滤光器及其制造方法。
背景技术
现有技术中,在数字多媒体显示设备的开发上,等离子显示板(PDP)与其它显示设备相比具有优势而在市场上受到更多的关注。PDP是一种利用氖+氙、氦+氙气体放电产生的147nm紫外线激发由阻隔壁构成的放电单元中的R、G、B荧光材料时的放射现象的显示设备。由于其具有结构简单易于制造、高亮度、高效率、记忆功能、高非线性和大于160。宽视角的优点,PDP是尺寸大于40英寸的大屏幕的矗理报拍显示设备。而在现有技术中,都必须要根据PDP不同的分辨率控制预定相应的偏角,在网金属被覆盖在基膜上并形成图案的时候,需要采用与PDP的不同分辨率相应的光掩膜,即滤光片。而现有技术采用的滤光片大都采用厚度为2-3.5mm的钢化或半钢化玻璃板作为基板,这种玻璃板的比重为2.6,难以生产轻质滤光片,同时如简单的在PDP上加装滤光片,则会形成空气层,导致空气诱导入射线的双反射,降低对比度,也有将透明的PET膜直接粘接在PDP表面作为轻质、耐热基片的方法,但这样的PDP滤光片的抗冲击强度低,不能保护PDP模块受到的外部冲击。

发明内容
本发明的目的在于克服上述技术缺陷,提供一种抗冲击强度高的轻质PDP滤光片。
本发明是通过下述技术方案实现的等离子体显示板滤光片,其特征在于包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括至少两个透明塑料树脂层和至少一个置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。
所述透明塑料树脂层的厚度为25-250μm,透光率为≥80%。
所述粘合剂层包括透明粘合剂树脂或透明粘合剂。
所述透明粘合剂树脂是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇缩丁醛树脂。
所述透明粘合剂是包含丙烯酰基化合物或热塑性弹性体的压敏粘合剂。
所述薄膜叠层为将厚度为25-250μm的片形式的透明粘合剂树脂置于基片膜之间,接着在70-200℃的温度下加热并在1~10kgf/cm2的压力下挤压形成。
具体实施例方式
实施例1等离子体显示板滤光片,包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括两个透明塑料树脂层和一个置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。所述透明塑料树脂层的厚度为25μm,透光率为≥80%,所述粘合剂层为透明粘合剂树脂。所述透明粘合剂树脂是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇缩丁醛树脂。所述薄膜叠层为将厚度为25μm的片形式的透明粘合剂树脂置于基片膜之间,接着在70℃的温度下加热并在1kgf/cm2的压力下挤压形成。
实施例2等离子体显示板滤光片,包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括三个透明塑料树脂层和两个置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。所述透明塑料树脂层的厚度为250μm,透光率为≥80%,所述粘合剂层为透明粘合剂。所述透明粘合剂是包含丙烯酰基化合物或热塑性弹性体的压敏粘合剂。所述薄膜叠层为将厚度为250μm的片形式的透明粘合剂树脂置于基片膜之间,接着在200℃的温度下加热并在10kgf/cm2的压力下挤压形成。
实施例3等离子体显示板滤光片,包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括四个透明塑料树脂层和至少三置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。所述透明塑料树脂层的厚度为150μm,透光率为≥80%,所述粘合剂层为透明粘合剂树脂。所述透明粘合剂树脂是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇缩丁醛树脂。所述薄膜叠层为将厚度为150μm的片形式的透明粘合剂树脂置于基片膜之间,接着在180℃的温度下加热并在7kgf/cm2的压力下挤压形成。
权利要求
1.等离子体显示板滤光片,其特征在于包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括至少两个透明塑料树脂层和至少一个置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。
2.根据权利要求1所述的等离子显示板滤光片,其特征在于所述透明塑料树脂层的厚度为25-250μm,透光率为≥80%。
3.根据权利要求1或2所述的等离子显示板滤光片,其特征在于所述粘合剂层包括透明粘合剂树脂或透明粘合剂。
4.根据权利要求3所述的等离子显示板滤光片,其特征在于所述透明粘合剂树脂是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇缩丁醛树脂。
5.根据权利要求3所述的等离子显示板滤光片,其特征在于所述透明粘合剂是包含丙烯酰基化合物或热塑性弹性体的压敏粘合剂。
6.根据权利要求3所述的等离子显示板滤光片,其特征在于所述薄膜叠层为将厚度为25-250μm的片形式的透明粘合剂树脂置于基片膜之间,接着在70-200℃的温度下加热并在1~10kgf/cm2的压力下挤压形成。
全文摘要
本发明公开了一种等离子体显示板滤光片,包括抗反射膜、近红外屏蔽膜、透明基片和电磁干扰屏蔽膜,所述透明基片包括至少两个透明塑料树脂层和至少一个置于塑料树脂层之间的粘合剂层的薄膜叠层。抗冲击强度高、质量轻。
文档编号H01J17/49GK1862295SQ20061002113
公开日2006年11月15日 申请日期2006年6月9日 优先权日2006年6月9日
发明者邱文, 牛晓会 申请人:成都市新都科鑫科技有限责任公司
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