专利名称：准分子灯装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及准分子灯装置，尤其是涉及被使用于紫外线照射处理的准 分子灯装置。
背景技术：
现在，例如在通过紫外线照射清洗液晶显示面板的玻璃基板的工序等
中，使用具备放射波长200nm以下的真空紫外线的准分子灯的准分子灯装 置。被使用于此种准分子灯装置的准分子灯，如在专利文献1的记载，为 了高效率地放射紫外线，以二氧化硅粒子作为主体的紫外线反射膜，形成 在相对于被照射物水平配置的放电室对于被照射物放射紫外线的一面，即 形成于除了光射射出方向侧的一面的放电室内面。
然而，对于在放电室内上面具备紫外线反射膜的准分子灯，所生成的 紫外线被紫外线反射膜隔绝而未到达上方的放电室壁，但在下方的放电室 壁被照射增加了来自上方的紫外线反射膜的反射光的强力的紫外线。通常， 准分子灯被支撑在其长边方向的两端，而在其中央部未被支撑。
因此，随着经过点灯时间，在下方的放电室壁，即构成放电室的光射 出方向侧的壁的玻璃，经时性地储存起因于真空紫外线照射而产生的紫外 线失真。其结果，确认了由于该紫外线失真的影响，光射出方向侧的玻璃 主要向长边方向收縮，而放电室整体，朝向形成有紫外线反射膜的方向凸 状地弯曲。在图5的模式图所示，虚线是凸状地弯曲之前的准分子灯102， 而实线是向箭号方向凸状地弯曲的准分子灯102。
若准分子灯102向上方弯曲，则在准分子灯102的两端侧与中央部， 被照射物即液晶玻璃基板等的工件面与准分子灯102间的距离不相同。若 工件面与准分子灯102间的距离不相同，则光照射强度根据工件面上的部 位有所不同，而无法进行均匀的紫外线处理，当然在处理后的工件上产生不合格情况。如此，在准分子灯102的中央部需要设置机械式地限制移动 的移动限制构件，以免准分子灯向上方弯曲。
图6是表示从准分子灯装置100的筐体101向准分子灯102的方向突 设四方形材料状的移动限制构件103的状态的图，图6(a)是表示准分子灯 装置100全体的概略构成图，图6(b)是表示图6(a)的C-C剖面图。
如这些图所示，该移动限制构件103 —端被固定在筐体101，而另一端 抵接于准分子灯102的放电室105上的电极部104,抑制准分子灯102向上 方的弯曲。但是，支撑准分子灯102的筐体101是金属制，因而在灯点灯 时，通过来自准分子灯102的放射热等会升温，而在灯熄灯后温度降低， 因此产生膨胀收縮。移动限制构件103接触于准分子灯102的金属制网状 电极104，以绝缘性构件典型地以陶瓷材所构成，因而通过筐体101的膨胀 收縮，使得抵接于网状电极104的部位在压住网状电极104的同时，左右 地摩擦。其结果，产生金属粉，而该金属粉落至被处理物105即工件面， 或是在由导电性糊所形成的印刷后经烧成的印刷电极的情况下，则印刷电 极被摩擦而剥落有可能产生落至工件面等的问题。
专利文献l:日本特开2008-66095号公报
发明内容
本发明的目的是鉴于上述问题点，提供一种准分子灯装置，具有金 属制的筐体；及准分子灯，所述准分子灯与筐体分离而被保持于筐体的下 方侧，在放电室的外面配设有电极部，在放电室的内面一部分具备紫外线 反射膜；具备抑制准分子灯的弯曲的移动限制构件，对于被照射物维持均 匀的紫外线照射，同时防止来自形成于放电室外面的电极部的粒子落下的 准分子灯装置。
本发明是为了解决上述课题，采用如下的方案。
第1方案是一种准分子灯装置，具有金属制的筐体；以及准分子灯， 所述准分子灯与该筐体分离地被保持于该筐体的下方侧，在向短边方向与 长边方向延伸的放电室的外面配设有电极部，在上述放电室的上述筐体侧 内面具备紫外线反射膜；该准分子灯装置将从该准分子灯所放射的紫外线照射在被处理物上，其特征为上述放电室的一方端部被固定保持于上述 筐体，另一方的端部在长边方向移动自如地被保持于上述筐体，在上述筐 体与位于该筐体下方的上述准分子灯之间具备限制上述准分子灯相对于上 述筐体向上方移动的移动限制构件，该移动限制构件具备可旋转地设于上 述准分子灯的长边方向的旋转滚子。
第2方案是在第1方案中，其特征为，上述移动限制体具有剖面为 向上述准分子灯侧开放的大致3形状的基体；设于该基体的大致3形状的 开口部，防止上述旋转滚子脱落的脱落防止构件；以及在间隙配合于该脱 落防止构件的状态下被保持，仅可抵接于上述基体的大致3形状的开口部 底面与上述准分子灯地设置的上述旋转滚子。
第3方案是在第1方案或第2方案中，其特征为上述旋转滚子的周
面被覆有釉药经烧成而构成。
第4方案是在第1方案至第3方案的任一方案中，其特征为，上述放 电室形成为由上壁与下壁及四个侧壁所分隔的剖面为扁平的矩形管状，在 该放电室封入有准分子发光气体，上述紫外线反射膜以二氧化硅作为主成 分，在上述放电室的上壁外面及下壁外面形成有相对的上述电极部。
根据方案1所述的发明，可抑制准分子灯的弯曲，对于被照射物可维 持均匀的紫外线照射，而且可防止来自准分子灯的电极部的粒子落下。
根据方案2所述的发明，旋转滚子可抵接地设在基体与准分子灯之间， 因而在旋转滚子抵接于电极部时，则对于产生于筐体与准分子灯之间的相 对性的准分子灯的长边方向的位移，由于旋转滚子进行旋转，准分子灯的 弯曲被抑制，对于被照射物维持均匀的紫外线照射，同时可确实地防止来 自准分子灯的电极部的粒子落下。
根据方案3所述的发明，由于在旋转滚子的周面被覆有釉药而进行烧 成，因而在旋转滚子旋转之际，可减少开口部底面与旋转滚子的摩擦，而 可进一步防止来自准分子灯的电极部的粒子落下。
根据方案4所述的发明，所述的准分子灯剖面为扁平矩形管状，在放 电室的内面形成以二氧化硅作为主成分的紫外线反射膜，而在放电室的上 壁外面及下壁外面形成有相对的电极部，在所述的准分子灯中，能抑制准分子灯的弯曲，对于被照射物维持均匀的紫外线照射，而可防止来自准分 子灯的电极部的粒子落下。
图1是表示本发明的准分子灯装置1的概略构成的主视图。
图2是表示图1的A-A剖面图。
图3是表示被使用于本发明的准分子灯装置1的准分子灯3的构成的图。
图4是表示装配设置于筐体2与准分子灯3间的移动限制体5时，取 出旋转滚子51与脱落防止构件52时、及装配完成移动限制体5时各自的 构成的立体图。
图5是表示凸状地弯曲之前以虚线所表示的准分子灯102、及用向箭号 方向凸状地弯曲的实线所表示的准分子灯的图。
图6是表示从准分子灯装置100的筐体101向准分子灯102的方向突 设方形材料状的移动限制构件103的状态的图。
符号说明
1:准分子灯装置；2:筐体；3:准分子灯；31:放电室；311:上壁； 312:下壁；313:侧壁；32:电极部；33:紫外线反射膜；4:灯座； 41:灯支撑弹簧；5:移动限制体；51:旋转滚子；52:脱落防止构件； 53:基体；54:开口部；55:固定螺丝；56:幵口部底部。
具体实施例方式
使用图1至图4进行说明本发明的一实施方式。
图1是表示本实施方式的发明涉及的准分子灯装置1的概略构成的主 视图，图2是表示图1的A-A剖面图。
如该图所示，准分子灯3在金属制的筐体2的下方侧与筐体2分离而 通过灯座4， 一方端部被固定保持，另一方端部为了在长边方向移动自如而 以灯支撑弹簧41等所保持。另外，在筐体2与准分子灯3间，在准分子灯 3的大致中央部设有由绝缘性构件所形成、具备向准分子灯3的长边方向旋转的旋转滚子51的移动限制体5，以使准分子灯3不向上方弯曲。
图3是表示使用于本发明的准分子灯装置1的准分子灯3的构成的图， 图3 (a)是表示准分子灯3的全体构成的立体图，图3 (b)是表示准分子灯3 的B-B剖面图。
如这些图所示，准分子灯3具有以上壁311与下壁312及四个侧壁313 所分隔、剖面为扁平的矩形管状而具有长边方向与短边方向的放电室 (Discharge Chamber) 31。在放电室31内封入有准分子发光气体，而在 除了放电室31的光放射面以外的至少筐体2侧内面形成有以二氧化硅作为 主成分的紫外线反射膜33。在放电室31的上壁311外面及下壁312外面， 有相对的网格状电极部32形成作为烧成导电性糊所成的电极。
另外，电极部32并不限定于网格状电极， 一样地能形成电极即可。另 外，准分子灯的形状是除了如图3所示的剖面矩形形状的四方形的准分子 灯以外，双重管形式的准分子灯也可以。
图4(a)是表示设于筐体2与准分子灯3间的移动限制体5的装配时的 构成的立体图，图4(b)是表示取出构成移动限制体5的旋转滚子51与为了 防止旋转滚子51从基体53脱落所设置的脱落防止构件52的立体图，图4 (c) 是表示移动限制体5装配完成时的构成的立体图。
如这些图所示，移动限制体5具有其剖面形成为向准分子灯3侧的 大致n形状的基体53;以及以被固定螺丝55固定的脱落防止构件52贯通 于基体53的开口部54而作成间隙配合的状态，具备具有预定宽度的周面， 向灯长度方向旋转的旋转滚子51，配置成为从筐体2下面向准分子灯3的 方向突出。更具体地说，脱落防止构件52配置于中空圆环状的旋转滚子51 的中空部分，旋转滚子51设置成仅可抵接于基体53的大致3形状的开口 部底面56与准分子灯3。旋转滚子51为在构成移动限制体5的构件中，唯 一抵接于配设在准分子灯3的放电室31上的电极部32的部件，在旋转滚 子51抵接于电极部32时，对于在放电室31与筐体2之间产生的相对性的 灯长度方向的位移，旋转滚子51进行旋转。
另外，在移动限制体5的至少旋转滚子51的周面，涂布釉药而被烧成。 通过涂布烧成釉药，旋转滚子51的表面被玻璃质成分所覆盖而变得平滑。所以，与在旋转滚子51的周面未涂布有釉药烧成的情形相比较，旋转滚子 51接触于移动限制体5的其他构成构件，或是在抵接于准分子灯3的电极 部32时，构成旋转滚子51的陶瓷的粉体作为粒子产生的可能性更少。另 外，釉药的成分，举个例子，以二氧化硅、氧化铝作为主要成份，含有钠、 钾、钙、镁等的碱金属、碱土类金属的氧化物，含有微量的过渡金属。另 外，作为旋转滚子的材质，并不被限定于块滑石，如氧化铝或氮化硅或氮 化硼等机械性强度强的陶瓷就可以。
设置1个移动限制体5时，则优选在灯长度方向位于准分子灯3的大 致中央附近，但设置多个移动限制体5时，则设置适当间隔配置于各移动 限制体5间。
以下，在本发明的具备具有旋转滚子的移动限制体的准分子灯装置与 在现有技术的具备不具有旋转滚子的移动限制体的准分子灯装置中，针对 于来自准分子灯装置表面的电极部的粒子有无或有没有发生剥离的比较实 验加以说明。
使用于比较实验的准分子灯，(l)放电室为石英玻璃，发光气体是氙 气体，形状是长边方向全长160cm，短边方向4cm，高度1. 5cm，而电极是 金的烧成电极，电极厚度是10um。紫外线反射膜是成分为二氧化硅90% + 氧化铝10%的混合膜，膜厚是30um，形成于放电室内面长边方向上面与 侧面(参照专利文献l)。 (2)点灯时的输入是输入功率400W。 (3)移动限制 体的旋转滚子的材质是块滑石制，而在周面涂布烧成有釉药。
用使本发明的移动限制体抵接于准分子灯的构成，在经过累计点灯时 间3000小时的时刻，确认有没有电极的摩擦所致的剥离或是发生粒子。其 结果，并完全未确认发生电极的剥离或粒子。另外，没有准分子灯的弯曲， 而来自被处理物面的高度也被维持在当初的高度。S卩，可知对于被处理物 面可维持均匀的紫外线照射。
一方面，作为比较例，准分子灯是使用与本发明者相同的东西，用仅 推压以不具有旋转滚子的移动限制构件的构成，在经过累计点灯时间3000 小时的时刻，确认有没有电极的摩擦所致的剥离或是发生粒子。其结果， 虽然可防止准分子灯的弯曲，但可看到认为是电极的剥离所致的粒子发生。
权利要求
1.一种准分子灯装置，具有金属制的筐体；以及准分子灯，所述准分子灯与该筐体分离地被保持于该筐体的下方侧，在向短边方向与长边方向延伸的放电室的外面配设有电极部，在上述放电室的上述筐体侧内面具备紫外线反射膜；该准分子灯装置将从该准分子灯所放射的紫外线照射在被处理物上，其特征为上述放电室的一方端部被固定保持于上述筐体，另一方的端部在长边方向移动自如地被保持于上述筐体，在上述筐体与位于该筐体下方的上述准分子灯之间具备限制上述准分子灯相对于上述筐体向上方移动的移动限制体，该移动限制体具备可旋转地设于上述准分子灯的长边方向的旋转滚子。
2. 如权利要求1所述的准分子灯装置，其特征为上述移动限制体具有剖面为向上述准分子灯侧开放的大致3形状的 基体；设于该基体的大致3形状的开口部，防止上述旋转滚子脱落的脱落 防止构件；以及在间隙配合于该脱落防止构件的状态下被保持，仅可抵接 于上述基体的大致3形状的开口部底面与上述准分子灯地设置的上述旋转滚子。
3. 如权利要求1或2所述的准分子灯装置，其特征为上述旋转滚子的周面被覆有釉药经烧成而构成。
4. 如权利要求1至3中任一项所述的准分子灯装置，其特征为上述放电室形成为由上壁与下壁及四个侧壁所分隔的剖面为扁平的矩 形管状，在该放电室封入有准分子发光气体，上述紫外线反射膜以二氧化 硅作为主成分，在上述放电室的上壁外面及下壁外面形成有相对的上述电 极部。
全文摘要
本发明提供一种准分子灯装置，具备抑制准分子灯的弯曲的移动限制构件，对于被照射物维持均匀的紫外线照射，同时防止来自放电室的电极部的粒子落下。该准分子灯装置，具有金属制的筐体(2)；及准分子灯(3)，所述准分子灯(3)与筐体(2)分离地被保持于筐体(2)的下方侧，在放电室(31)的外面配设有电极部(32)，在放电室(31)的筐体侧内面具备紫外线反射膜；将从准分子灯(3)所放射的紫外线照射在被处理物(7)上，其特征为放电室(31)的一方端部被固定保持于筐体(2)，另一方的端部在长边方向移动自如地被保持于筐体(2)，在筐体(2)与位于筐体(2)下方的准分子灯(3)之间，具备限制准分子灯(3)对于筐体(2)向上方移动的移动限制体(5)，移动限制体(5)具备可旋转地设于准分子灯(3)的长边方向的旋转滚子(51)。
文档编号H01J65/00GK101685759SQ20091017862
公开日2010年3月31日 申请日期2009年9月24日 优先权日2008年9月27日
发明者后藤祥规, 石原肇 申请人:优志旺电机株式会社