专利名称：红外窗口片的双面加工工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体行业及红外光学仪器用红外窗口片，尤其是一种红外窗口 片的双面加工工艺。
背景技术：
锗、硅、硒化锌是透红外光的几种特殊材料，其主要用在半导体行业及各种红外光 学仪器上，例如各种红外测温仪，各种红外热成像仪，夜视仪及大功率二氧化碳激光器上。 广泛应用于高端科技、国防、航空等领域，具有极重要的作用。如果客户需要双平片镜片，按照以往的抛光工艺，我们是要分两次抛光，即正面抛 好后再抛反面。按照这样的方法进行生产，不但效率低，而且在抛另一面的时候很容易损伤 已抛好的那一面，而且平片的平行度根本就无法得到保证。有经验的工人可能平行度控制 的好一点，经验少的工人这方面就欠缺的多了，所以另外寻找一种新的抛光方法已经刻不容缓。
发明内容
为了克服以上缺陷，本发明要解决的技术问题是提出一种高效研磨抛光又能保 证产品平行度的红外窗口片的双面加工工艺。本发明所采用的技术方案为一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机 进行研磨，采用双面抛光机抛光，先进行研磨后进行抛光，该工艺步骤如下精磨，把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁平模上进行初级研磨，达到质量要求 后再进行精磨，精磨时采用特制盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置， 使红外窗口片在研磨中调整自身的精度；粗抛，把精磨好的红外窗口片用氧化铅在抛光盘上进行粗磨，使得红外窗口片表 面达到要求精度；精抛，把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，通 过精确修正，然后用抛光粉对红外窗口片表面进行抛光。根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括所述粗抛 后红外窗口片质量指标为光洁度60/40，光圈面形误差为4个圈，平行度< 10"。根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括所述精抛 后红外窗口片纸浆指标为光洁度40/20，光圈面形误差为0. 5 1个圈，平行度< 5〃。根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括在精抛过 程中，红外窗口片表面温度控制在20 35°C，红外窗口片转动速度为10 20r/min，红外 窗口片的表面压力为0. 3 0. 5Mpa。根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括采用行星 式研磨抛光机进行双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行单面精抛光。本发明的有益效果是通过本发明能够明显提高红外窗口片的平行度，节省了工序，降低了操作难度和劳动强度，提高了产量和效率，克服了认为操作因素，便于工艺的调 整和工艺的稳定性。
具体实施例方式现在结合附图
和优选实施例对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的 示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机进行研磨，采用抛光机抛光，先 进行研磨后进行抛光，该工艺步骤如下精磨，把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁手模上进行初级研磨，达到质量要求 后再进行精磨，精磨时采用手盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置，使 红外窗口片在研磨中调整自身的精度；粗抛，把精磨好的红外窗口片用氧化铅在抛光盘上进行粗磨，使 得红外窗口片表 面达到要求精度，所述粗抛后红外窗口片质量指标为光洁度60/40，光圈面形误差为4个 圈，平行度< 10"。精抛，把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，通 过精确修正，然后用抛光粉对红外窗口片表面进行抛光。在精抛过程中，红外窗口片表面 温度控制在20 35 °C，红外窗口片转动速度为10 20r/min，红外窗口片的表面压力为 0. 3 0. 5Mpa,而精抛后红外窗口片质量指标为光洁度40/20，光圈面形误差为0. 5 1个 圈，平行度< 5"。本发明优选采用行星式研磨抛光机进行双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行 单面精抛光。以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完 全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术 性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
权利要求
一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机进行研磨，采用双面抛光机抛光，先进行研磨后进行抛光，其特征在于，该工艺步骤如下精磨，把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁平模上进行初级研磨，初级研磨时间为25分钟～35分钟，通过检测红外窗口片达到质量要求后再进行精磨，精磨时采用特制平盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置，使红外窗口片在研磨过程中通过不断的调整，达到精度；粗抛，把精磨好的红外窗口片用氧化铅在抛光盘上进行粗磨，使得红外窗口片表面达到要求精度；精抛，把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，该抛光盘需通过精确修正，然后用特制抛光粉对红外窗口片表面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的红外窗口片的双面抛光工艺，其特征在于，所述粗抛后红外 窗口片质量指标为光洁度60/40，光圈面形误差为4个圈，平行度< 10"。
3.根据权利要求1所述的红外窗口片的双面加工工艺，其特征在于，所述精抛后红外 窗口片质量指标为光洁度40/20，光圈面形误差为0. 5 1个圈，平行度< 5"。
4.根据权利要求1所述的红外窗口片的双面加工工艺，其特征在于，在精抛过程中，红 外窗口片表面温度控制在20 35°C，红外窗口片转动速度为10 20r/min，红外窗口片的 表面压力为0. 3 0. 5Mpa。
5.根据权利要求1所述的红外窗口片的双面加工工艺，其特征在于，采用行星式研磨 抛光机进行双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行单面精抛光。
全文摘要
本发明涉及一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机进行研磨，采用双面抛光机抛光，先进行研磨后进行抛光，该工艺步骤如下把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁平模上进行初级研磨，检测红外窗口片达到质量要求后再进行精磨，精磨时采用特种平盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置；把精磨好的红外窗口片在聚胺酯抛光盘上进行粗抛，使得红外窗口片表面达到要求精度；把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，通过精确修正来保证所加工产品的质量。本工艺能使红外窗口片提高光洁度质量，提高平行度质量，提高加工效率。
文档编号B24B29/02GK101829946SQ20101018578
公开日2010年9月15日 申请日期2010年5月28日 优先权日2010年5月28日
发明者李爽, 陈国清 申请人:江苏南晶红外光学仪器有限公司