专利名称：一种pecvd用基板架自动识别装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种PECVD用基板架自动识别装置，特别涉及一种在多腔室进行周转的基板架的识别装置，属于机电设备领域。
背景技术：
PECVD被广泛的应用于半导体行业的薄膜沉积制程中，近年来广泛发展的非晶硅薄膜制一般都选择PECVD工艺，为避免交叉污染和提高生产效率，多室多片型的腔室涉及被认为是主流的发展方向，在这种腔室形式的PECVD生产过程中，玻璃基片要用基板架输送到不同的腔室沉积，每套PECVD设备生产过程中要使用多台基板架以满足产量要求。实际生产中，需要对各基板架编号，人为记录每个基板架行程位置，以便于对沉积质量进行管理和控制，但是在节拍大于每分钟一片的情况下，人为记录每个基板架行程位置是个很繁琐的工作，增加劳动强度且容易发生错误记录，影响生产和质量控制，从而降低生产效率。
发明内容本实用新型为提供一种PECVD用基板架自动识别装置，能够识别并记录不同的基板架及其行程。本实用新型所提供的一种PECVD用基板架自动识别装置，包括基板架，在基片架行程起始位置设置有接近开关，在基片架前端设置有接近体安装位，安装位内可选择安装或不安装接近体，所述的接近开关设置数量大于两个，基片架上的安装位数与接近开光数相对应，所述的接近开关设置数量为六个，所述的接近开关信号接入PLC识别。本实用新型的有益效果是能够自动识别、记录基板架行程，提高记录准确率，降低劳动强度，提高生产效率。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为更好的理解本实用新型，提供具体实施方式
，但本实用新型不受限于该具体的实施例。如附图所示，在基板架1行程的起始位置设置接近开关2，接近开关数量大于两个，本实施例中，共设置六个接近开关，分别为接近开关2、接近开关21、接近开关22、接近开关23、接近开关M、接近开关25，在基板架前端设置接近体安装位，本实施例中共设置有六个接近体安装位，在接近体安装位内选择安装或不安装接近体，本实施例中，六个安装位都安装有接近体，分别是接近体3、接近体31、接近体32、接近体33、接近体34、接近体35， 接近开关信号接入PLC识别。本实用新型的工作过程如下[0010]采用二进制对各台基板架编出8421码，基板架前端设计的六个识别近接体安装孔，分别代表二进制的六个位，单个基板架每个位编码是“1”的安装识别近接体，“0”的不安装，在基板架行程开始的上片台安装一组六个近接开关，分别对应基板架不同的位数，这样在基板架行程开始时，通过近接开关不同位的通、断，传递信号到PLC，再通过程序反馈到终端电脑，人们可以在终端电脑上查出每个基板架在每个时间段的行程位置，2进制的六个位可以对六十三台基板架编码，如需要更多基板架，增加接近开关和接近体的数量即可满足要求。 本实用新型能够自动识别、记录基板架行程，有利于PECVD沉积过程中的溯源工作，并能够提高记录准确率，降低劳动强度，提高生产效率。在详细说明本实用新型的实施方式之后，熟悉该项技术人士可清楚地了解，在不脱离上述申请专利范围与精神下可进行各种变化与修改，凡依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均属于本发明技术方案的范围，且本实用新型亦不受限于说明书中所举实例的实施方式。
权利要求1.一种PECVD用基板架自动识别装置，包括基板架(1)，其特征在于在基片架(1)行程起始位置设置有接近开关(2 )，在基片架(1)前端设置有接近体安装位，安装位内可选择安装或不安装接近体。
2.根据权利要求1所述的一种PECVD用基板架自动识别装置，其特征在于所述的接近开关设置数量大于两个，基片架(1)上的安装位数与接近开光数相对应。
3.根据权利要求1所述的一种PECVD用基板架自动识别装置，其特征在于所述的接近开关设置数量为六个。
4.根据权利要求1所述的一种PECVD用基板架自动识别装置，其特征在于所述的接近开关信号接入PLC识别。
专利摘要本实用新型公布了一种PECVD用基板架自动识别装置，属于机电设备领域，该装置包括基板架，在基片架行程起始位置设置有接近开关，在基片架前端设置有接近体安装位，安装位内可选择安装或不安装接近体，本装置能够自动识别、记录基板架行程，提高记录准确率，降低劳动强度，提高生产效率。
文档编号C23C16/52GK202131369SQ20112021505
公开日2012年2月1日 申请日期2011年6月23日 优先权日2011年6月23日
发明者吉星, 宋文杰, 崔献刚, 李松, 王晖, 白玉峰, 韩永兵 申请人:河南新能光伏有限公司