一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，包括下盖板、下模板、中模板、上模板、上盖板、陶瓷管、磁流变液和线圈绕组，所述下盖板置于流体抛光机的底座上并与流体抛光机底座密封对接；在所述下盖板上面装配下模板，在所述下模板上面装配中模板，所述中模板均匀满布有中模磁料孔，每个中模磁料孔可装配多个陶瓷管，所述的中模板圆周外侧设置有夹层结构，所述的夹层内设置有线圈绕组，所述的线圈绕组通过绕组引线与外部控制器连接；在所述中模板上装配上模板，在所述上模板上装配上盖板，所述上盖板和下盖板均与流体抛光机顶座与底坐密封对接；本新型可大批量抛光、简单方便、劳动强度小、生产效率高、抛光精度优良。
【专利说明】一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及超硬耐磨陶瓷零部件抛光【技术领域】，具体涉及一种陶瓷管流体抛光设备，特别涉及一种陶瓷管内表面磁流变磁抛光装置。
【背景技术】
[0002]随着结构陶瓷技术的发展，高科技对超硬耐磨陶瓷零部件的需求逐年增大，质量品质不断提高；客户对硬质陶瓷成型产品零部件，特别是管件的内外表面光洁度要求越来越高，超硬耐磨材料制造企业必须进一步提高表面质量以满足人们的需要。
[0003]磁流变抛光技术是一种新型的零件研磨抛光加工方法，其将电磁学、流体动力学、分析化学理论相结合，利用磁流变抛光液在磁场中的固液相相互转化的特性，通过控制外磁场对磁流变抛光液的剪切屈服应力和局部形状来进行实时控制，创造一个能够与被加工零部件表面相吻合的柔性抛光模，实现对陶瓷零部件等结构材料的研磨、抛光修整加工。这种技术具有去除函数稳定，亚表面损伤小，抛光精度高等显著优点。
[0004]目前国内有不少研究所对其进行了研究，如清华大学(中国专利03153996.3，发明名称:电磁方式磁流变抛光头)、西安工业大学(中国专利200610043079.1，发明名称:磁流变柔性精磨抛光设备和方法)、国防科技大学(中国专利200810030898.1，发明名称:用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置)、厦门大学(中国专利200610037426.X，发明名称:参数可调式磁流变抛光轮)。现有的磁流变抛光技术存在共同的缺点:1)抛光接触区域中的抛光痕迹为有序的条纹状，增大了工件表面粗糙度；2)对于零部件中管件内表面的抛光缺少有效的技术手段。
[0005]硬质陶瓷管件类的内孔抛光能够增强耐腐蚀性和耐磨性，减少运转阻力，降低了由于局部过载而产生裂纹和脱落的危险等。为了获得镜面级陶瓷零部件表面，后续的抛光整形加工方法与技术成为必不可少的重要工艺；目前陶瓷管内孔的抛光主要由手工操作和机械抛光完成，不仅效率低(用时约占整个零部件制造时间的40%-50%)，劳动强度大，而且难于保证形面精度和稳定的抛光品质。鉴于现有抛光方式效率低、质量低和成本高等方面的缺点，研究针对陶瓷管内孔抛光的高效、高表面质量批量抛光方法及装置，对于提高超硬耐磨陶瓷管件的制造效率和质量具有重要的意义。
[0006]现有技术中，常用机械抛光方法及装置有抛光轮、抛光轴和抛光砂轮、超声抛光、超声波-电化学抛光等，劳动强度大，抛光效率低；零部件表面的形面精度和稳定的抛光品质等缺陷。
实用新型内容
[0007]为解决上述常规技术方法和磁流变技术方法在超硬耐磨陶瓷管件研磨抛光上的缺陷问题，本实用新型提供了一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，利用磁流变液，设计带有可控磁场线圈绕组的批量抛光陶瓷管内孔的装置，实现操作简单，劳动强度低，抛光效率高，同时提升陶瓷管成品的抛光精度和表面品质。[0008]为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下:一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，包括下盖板、下模板、中模板、上模板、上盖板、陶瓷管、磁流变液和线圈绕组，其特征在于:
[0009]所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，简称为磁抛光装置；其装配顺序为将下盖板置于流体抛光机的底座上，所述的下盖板下面带有下盖凸台，所述的下盖凸台与流体抛光机底座密封对接；在所述下盖板上面装配下模板，所述的下模板下面带有的凸台与下盖板上的凹台匹配密封对接；在所述的下模板上面装配中模板，所述的中模板均匀满布有中模磁料孔，中模磁料孔中装配待抛光的陶瓷管件，每个中模磁料孔可装配多个陶瓷管。
[0010]所述的中模板圆周外侧设置有夹层结构，所述的夹层内设置有线圈绕组，所述的线圈绕组通过绕组引线与外部控制器连接，通过所述的控制器调节线圈绕组的电流强度和变化频率，由于线圈绕组通电后，在中模板内部形成电场，其电场磁力线方向与中模板轴向平行，这样就使磁流变液中的磁化粒子在轴向形成粘滞柱形流动，从而迫使磁流变液中的非磁化抛光粒子集中在陶瓷管的内表面层，并增加整体磁流变液的粘度与陶瓷管径向的剪切力，从而对超硬耐磨陶瓷管件内表面实现研磨与抛光作用。
[0011]在所述中模板上装配上模板，在所述上模板上装配上盖板，上盖板上带有的凸台与流体抛光机顶座密封对接；所述下盖板与上盖板设置有下盖板孔和上盖板孔，均与流体抛光机相通，磁流变液通过所述通孔被压送进入磁抛光装置中的陶瓷管内径中，在流体抛光机压力、流体速度、双向流动的抛光粒子作用下，磁流变液中的磨料对陶瓷管内孔实施抛光作业。
[0012]所述中模板下部带有的凸台与下模板上的凹台匹配密封对接；所述的中模板上部带有的凸台与上模板上的凹台匹配密封对接；所述下模板上设置有二个定位孔，下模左孔与下模右孔，所述的二个定位孔孔径不同，所述中模板上部与下部左右各分别设置有二个定位销，中模左下销、中模左上销的位置和尺寸与下模左孔和上模左孔的位置和尺寸匹配；中模右下销、中模右上销的位置和尺寸与下模右孔和上模右孔的位置和尺寸匹配；所述上模板、下模板定位孔与中模上的相匹配的定位销锁定装配，从而确定上模板、中模板和下模板的装配位置，确保三件模板上的磁料孔对齐通顺。
[0013]所述下模板、中模板和上模板中，设置有位置与数量相对应的磁料孔，所述下模板与上模板上的磁料孔孔径小于所述的中模板上的磁料孔孔径；所述的中模板上的磁料孔孔径与陶瓷管外径相匹配，待抛光陶瓷管恰好可以装入中模板的磁料孔中；所述的中模板磁料孔设置有多个，满布于模板平面内，每个磁料孔可装入多只陶瓷管，每批抛光数量为:所设置的磁料孔数量*每根磁料孔装填的陶瓷管数量*中模板的块数；可见如果增加中模板的装配数量，每批数量将会成倍增加。
[0014]磁抛光装置工作流程为:流体抛光机将磁料仓A中的磁流变液加压，并经过密封管道输送进入下盖板通孔，磁流变液经过下盖板通孔，经由下模板上的下模磁料孔，平均分配进入到中模板的各个中模磁料孔中，由于中模磁料孔中充满了待抛光陶瓷管，所述磁流变液只能经过待抛光陶瓷管的内孔；进入中模板的磁流变液，在线圈绕组所形成的电场作用下，磁流变液发生磁化，磁性粒子集中于流体的中心，沿轴向磁力线方向形成柱状体，而非磁性粒子则集中于陶瓷管的内表面层，并且磁流变液的粘度快速增加，在流体流动压力的作用下，磁流变液在陶瓷管内的径向剪切力快速增加，因此对陶瓷管内表面进行高效的研磨与抛光；磁流变液穿过陶瓷管内孔后，磁场作用消失，磁流变液中的磁性粒子失去磁场作用后，恢复原来的流体状态，进入到上模板的上模磁料孔中，经过上模磁料孔后，磁流变液经过上盖板孔，进入流体抛光机的回程管道，最后回到磁料仓B中。整个流程完成后，流体抛光机反向操作，磁流变液反方向从磁料仓B,经过磁抛光装置逆向各环节回到磁料仓A中。流体抛光机反复进行运作，多次实施对陶瓷管内孔的研磨与抛光作业，直到陶瓷管内孔抛光达到工艺要求标准为止。
[0015]所述的下模板和上模板上所设计的定位孔与中模板上设计的定位销，其左侧定位孔与左侧定位销尺寸匹配，右侧定位孔与右侧定位销尺寸匹配，如果模板方向错置，由于定位孔与定位销尺寸不匹配而不能装配到位，这样可以确保磁抛光装置装配准确无误。
[0016]所述的磁抛光装置，装配完成后，安装到流体抛光机上，上盖板和下盖板分别与流体抛光机的顶座和底座接口密封对接，通过流体抛光机将磁流变液在一定压力下，以确定的速度压送进入磁料口，通过线圈绕组控制器调节或改变电流强度或电场方向以及变化频率，并在磁抛光装置中来回压送磁流变液，直到对批量陶瓷管内孔表面抛光附合要求为止，所述的磁流变液压送的压力与压送的速度可控，压送磁流变液的方向可控。所述的磁流变液压送流动路径是:
[0017]方向1:磁料仓A、磁料管道A、下盖板孔、下模磁料孔、磁场调控区、中模磁料孔、陶瓷管内孔、上模磁料孔、上盖板孔、磁料管道B、磁料仓B ；
[0018]方向2:磁料仓B、磁料管道B、上盖板孔、上模磁料孔、磁场调控区、陶瓷管内孔、中模磁料孔、下模磁料孔、下盖板孔、磁料管道A、磁料仓A。
[0019]所述的磁流变液的组成、配比与特征:所述的磁流变液由磁性粒子、载液和添加剂组成。
[0020]所述磁性粒子:Fe304，Fe3N, Co, Ni，铁钴合金，纯铁粉和碳基铁粉等微粒；其中的一种或几种的混合物；磁性颗粒的直径为0.1—100 μ m,典型值为3—5 μ m。所述的磁性粒子中磁饱和度最大的微粒是铁钴合金，它的磁饱和度能达到2.4T ;纯铁粉和碳基铁粉的磁饱和度约为2.1T ;其他金属、合金以及氧化物的磁饱和度都要比铁粉的磁饱和度低。
[0021]所述载液:非磁性液体基载液主要有硅油、矿物油、合成油、水和乙二醇中的一种或几种的混合物；所述的载液要求确保颗粒的悬浮稳定性，并增加整个磁流变液的流变学性质，一般需要使用添加剂，如加入各种表面活性剂(如油酸)或保护性胶体物质(如硅胶、硅氧化物等)，防止磁性颗粒沉淀及不可逆转的海绵状絮凝困。
[0022]所述添加剂:添加剂包括分散剂和防沉降剂等，其作用主要是改善磁流变液的沉降稳定性、再分散性、零场黏度和剪切屈服强度。
[0023]所述分散剂为:油酸及油酸盐、环烷酸盐、磺酸盐(或酯)、磷酸盐(或酯)、硬脂酸及其盐、单油酸丙三醇、脂肪醇、二氧化硅等。
[0024]所述防沉降剂为:高分子聚合物、亲水的硅树脂低聚物(如硅烷偶连剂)、有机金属硅共聚物、超细无定形硅胶以及有机黏土等。
[0025]所述的磁流变液:其母液的密度一般为lg/cm3左右，其悬浮颗粒的密度为7_8g/cm3,由于磁性颗粒的密度远远大于母液的密度而造成的磁性颗粒的沉降一直是很难解决的问题之一。此外，悬浮颗粒的直径一般仅为几个微米，比表面积大，也容易团聚而沉降。所以采用最为有效的方法添加不同类型的表面活性剂来解决此问题，一般是亲油基和亲水基这两种性质不同的结构组成的低聚物，它的亲水基可以吸附在磁性颗粒的表面，而亲油基像“鞭梢”一样扩散在母液当中。磁性颗粒吸附表面活性剂以后，由于亲油基的“鞭梢”相互缠绕及排斥，一方面会增加颗粒的体积，减少它们相互吸引碰撞的机会；另一方面会在母液内部形成一个相互作用的三维骨架，从而降低由于颗粒与母液的密度差而造成的颗粒沉降。
[0026]所述磁流变液的特征:
[0027]Al黏度:当施加一定磁场时，磁流变液的表观粘度陡然增大两个数量级，液体渐渐缺乏流动性，当磁场强度大到一定值时，磁流变液转化成类固态；当撤去外磁场时，又可变成流动的液体。
[0028]A2屈服剪应力磁流变液在磁场作用下固化后可以承受机械力。像其他固体材料一样，使磁流变液发生破坏的应力称为屈服应力，此时微粒链断裂，材料开始流动。在240kA/m时可达IOOkPa,通常在3080KPa。
[0029]A3温度范围与高强度的屈服应力同等重要的是，磁流变液的工作温度范围较宽，它能在-40150°C的范围内工作。
[0030]A4响应时间:磁流变液的响应时间为毫秒数量级。例如一个磁流变液，施加外磁场后，在3—lOms内可以达到流变平衡。磁场产生的速度是影响响应时间的关键因素。
[0031]所述的磁流变液具有如下特点:①零磁场粘度低，在磁场作用下同等剪切屈服强度增长时具有更宽的调节范围；②强磁场下剪切屈服强度高，至少可达到30kPa以上，这是衡量磁流变液性能的主要指标之一；③抗沉降稳定性好，长时间存放应基本不分层，或即使略有分层，也可以在轻微外扰动情况下迅速恢复均匀分散的状态。此外还具有无毒、不挥发、无异味、温度使用范围宽以及响应速度快等特征。
[0032]抛光陶瓷种类:氧化物陶瓷管件、碳化物陶瓷管件等结构陶瓷管类零部件。
[0033]通过上述技术方案，本实用新型技术方案的有益效果是:利用磁流变液和受控线圈绕组的磁场影响，在磁流变液压力输送驱动力作用下，实现了大批量的超硬耐磨陶瓷管件内孔表面磁流变研磨与抛光，使用流体磁流变液抛光方法，简化了零部件外表面抛光装置和操作技术，增加了磁流变技术应用的新方向，减少了劳动强度，提高了抛光零部件的生产效率，降低了抛光设备装置的成本，提高了陶瓷零部件的形面精度和抛光品质。磁抛光装置操作简单，劳动强度低，抛光效率高，同时提升陶瓷管成品的抛光精度和表面品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0034]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0035]图1为本实用新型实施例所公开的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置结构示意图；
[0036]图2为本实用新型实施例所公开的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置模板结构示意图；
[0037]图3为本实用新型实施例所公开的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置中板结构示意图。
[0038]图中数字和字母所表示的相应部件名称:
[0039]1.下盖板2.下模板3.下模左孔4.中模左下销
[0040]5.中模板6.中模左上销7.上模左孔8.上盖板
[0041]9.上盖板孔10.上盖凸台11.上模磁料孔12.上模右孔
[0042]13.中模磁料孔14.中模右上销15.中模右下销16.陶瓷管
[0043]17.下模磁料孔18.下模右孔19.下盖凸台20.下盖板孔
[0044]21.上模板22.磁流变液23.线圈绕组24.绕组引线
【具体实施方式】
[0045]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0046]根据图1、图2和图3，本实用新型提供了一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，包括下盖板1、下模板2、中模板5、上模板21、上盖板8、陶瓷管16、磁流变液22、线圈绕组23和绕组引线24，其特征在于:
[0047]所述的一种陶瓷管16内孔批量流体抛光装置，简称为磁抛光装置；其装配顺序为将下盖板I置于流体抛光机的底座上，所述的下盖板I下面带有下盖凸台，所述的下盖凸台与流体抛光机底座密封对接；在所述下盖板I上面装配下模板2，所述的下模板2下面带有的凸台与下盖板上的凹台匹配密封对接；在所述的下模板2上面装配中模板5，所述的中模板5均匀满布有中模磁料孔13，中模磁料孔13中装配待抛光的陶瓷管16件，每个中模磁料孔13可装配多个陶瓷管16，在所述中模板5上装配上模板21，在所述的上模板21上装配上盖板8，上盖板8上带有的凸台与流体抛光机顶座密封对接；所述的下盖板I与上盖板8设置有下盖板孔17和上盖板孔11，均与流体抛光机相通，磁流变液22通过所述下盖板孔17被压送进入磁抛光装置中的陶瓷管16内径中，在线圈绕组23的电场作用下，在流体抛光机压力、流体速度、双向流动的抛光粒子作用下，磁流变液22中的磨料对陶瓷管16内孔实施抛光作业。
[0048]所述的中模板5圆周外侧设置有夹层结构，所述的夹层内设置有线圈绕组23，所述的线圈绕组23通过绕组引线24与外部控制器连接，通过所述的控制器调节线圈绕组23的电流强度和变化频率，由于线圈绕组23通电后，在中模板5内部形成电场，其电场磁力线方向与中模板5轴向平行，这样就使磁流变液22中的磁化粒子在轴向形成粘滞柱形流动，从而迫使磁流变液22中的非磁化抛光粒子集中在陶瓷管16的内表面层，并增加整体磁流变液22的粘度 与陶瓷管16径向的剪切力，从而对超硬耐磨陶瓷管件内表面实现研磨与抛光作用。
[0049]所述的中模板5下部带有的凸台与下模板2上的凹台匹配密封对接；所述的中模板5上部带有的凸台与上模板21上的凹台匹配密封对接；所述的下模板2上设置有二个定位孔，下模左孔3与下模右孔18，所述的二个定位孔孔径不同，所述的中模板5上部与下部左右各分别设置有二个定位销，中模左下销4、中模左上销6的位置和尺寸与下模左孔3和上模左孔7的位置和尺寸匹配；中模右下销15、中模右上销14的位置和尺寸与下模右孔18和上模右孔12的位置和尺寸匹配；所述上模板21、下模板2定位孔与中模上的相匹配的定位销锁定装配，从而确定上模板21、中模板5和下模板2的装配位置，确保三件模板上的磁料孔对齐通顺。
[0050]所述下模板2、中模板5和上模板21中，设置有位置与数量相对应的磁料孔，所述下模板2与上模板21上的磁料孔孔径小于所述的中模板5上的磁料孔孔径；所述的中模板5上的磁料孔孔径与陶瓷管16外径相匹配，待抛光陶瓷16恰好可以装入中模板5的中模磁料孔13中。
[0051 ] 磁抛光装置工作流程为:流体抛光机将磁料仓A中的磁流变液22加压，并经过密封管道输送进入下盖板通孔20，磁流变液22经过下盖板通孔20，经由下模板2上的下模磁料孔17，平均分配进入到中模板5的各个中模磁料孔13中，由于中模磁料孔13中充满了待抛光陶瓷管16，所述磁流变液22只能经过待抛光陶瓷管16的内孔，进入中模板5的磁流变液22，在线圈绕组23所形成的电场作用下，磁流变液33发生磁化，磁性粒子集中于流体的中心，沿轴向磁力线方向形成柱状体，而非磁性粒子则集中于陶瓷管16的内表面层，并且磁流变液22的粘度快速增加，在流体流动压力的作用下，磁流变液22在陶瓷管16内的径向剪切力快速增加，因此对陶瓷管16内表面进行高效的研磨与抛光；穿过陶瓷管16内孔，进入到上模板21的上模磁料孔11中，经过上模磁料孔11后，磁流变液22经过上盖板孔9，进入流体抛光机的回程管道，最后回到磁料仓B中。整个流程完成后，流体抛光机反向操作,磁流变液22反方向从磁料仓B，经过磁抛光装置逆向各环节回到磁料仓A中。流体抛光机反复进行运作，多次实施对陶瓷管16内孔的研磨与抛光作业，直到陶瓷管16内孔抛光达到工艺要求标准为止。
[0052]所述的下模板2和上模板21上所设计的定位孔与中模板5上设计的定位销，其左侧定位孔与左侧定位销尺寸匹配，右侧定位孔与右侧定位销尺寸匹配，如果模板方向错置，由于定位孔与定位销尺寸不匹配而不能装配到位，这样可以确保磁抛光装置装配准确无误。
[0053]所述的上盖板8与所述的下盖板I具有完全相同的结构、材质与尺寸，可以互换使用；所述的上模板21与所述的下模板2具有完全相同的结构、材质与尺寸，可以互换使用；所述的中模板5具有对称性结构，可以上下方向互换使用。
[0054]所述的磁抛光装置，装配完成后，安装到流体抛光机上，上盖板8和下盖板I分别与流体抛光机的顶座和底座接口密封对接，通过流体抛光机将磁流变液22在一定压力下，以确定的速度压送进入磁料口，并在磁抛光装置中来回压送磁流变液22，直到对批量陶瓷管16内孔表面抛光附合要求为止，所述的磁流变液22压送的压力与压送的速度可控，压送磁流变液22的方向可控。所述的磁流变液22压送流动路径是:
[0055]方向1:磁料仓A、磁料管道A、下盖板孔20、下模磁料孔17、中模磁料孔13、陶瓷管16内孔、上模磁料孔11、上盖板孔9、磁料管道B、磁料仓B ；
[0056]方向2:磁料仓B、磁料管道B、上盖板孔9、上模磁料孔11、陶瓷管16内孔、中模磁料孔13、下模磁料孔17、下盖板孔20、磁料管道A、磁料仓A ;
[0057]所述的磁流变液的组成、配比与特征:所述的磁流变液由磁性粒子、载液和添加剂组成。[0058]优选的，所述的磁性粒子为碳基铁粉微粒；
[0059]优选的，所述的磁性粒子粒径为3—5 μ m ；
[0060]优选的，所述的载液为二甲基硅油；
[0061]优选的，所述的添加剂为:分散剂环烷酸钠；防沉降剂亲水的硅树脂低聚物，硅烷偶连剂；
[0062]优选的，所述的磁流变液，其母液的密度为lg/cm3，悬浮颗粒的密度为7.5g/cm3 ；
[0063]优选的，所述的屈服剪应力为60KPa ；
[0064]优选的，所述的工作温度范围，0—120°C ；
[0065]优选的，所述的响应时间为在6ms内达到流变平衡；
[0066]抛光陶瓷种类:
[0067]优选的，所述的陶瓷材料为氧化锆增韧氧化铝结构陶瓷。
[0068]通过本实用新型的应用，实现了大批量的超硬耐磨陶瓷管件的内孔表面抛光，使用流体磁流变液抛光方法，简化了零部件外表面抛光装置和操作技术，减少了劳动强度，提高了抛光零部件的生产效率，降低了抛光设备装置的成本，提高了陶瓷零部件的形面精度和抛光品质。磁抛光装置操作简单，劳动强度低，抛光效率高，同时提升陶瓷管成品的抛光精度和表面品质。
[0069]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【权利要求】
1.一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，包括下盖板、下模板、中模板、上模板、上盖板、陶瓷管、磁流变液和线圈绕组，装配顺序为将下盖板置于流体抛光机的底座上，所述下盖板下面带有下盖凸台，所述下盖凸台与流体抛光机底座密封对接；在所述下盖板上面装配下模板，所述下模板下面带有的凸台与下盖板上的凹台匹配密封对接；在所述下模板上面装配中模板，所述中模板均匀满布有中模磁料孔，中模磁料孔中装配待抛光的陶瓷管件，每个中模磁料孔可装配多个陶瓷管，在所述中模板上装配上模板，在所述上模板上装配上盖板，上盖板上带有的凸台与流体抛光机顶座密封对接；所述下盖板与上盖板设置有下盖板孔和上盖板孔，均与流体抛光机相通；所述中模板下部带有的凸台与下模板上的凹台匹配密封对接；所述中模板上部带有的凸台与上模板上的凹台匹配密封对接。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述的中模板圆周外侧设置有夹层结构，所述的夹层内设置有线圈绕组，所述的线圈绕组通过绕组引线与外部控制器连接。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述的下模板上设置有二个定位孔，所述的二个定位孔孔径不同，所述中模板上部与下部左右各分别设置有二个定位销，所述的定位孔与定位销匹配定位锁定装配，固定上模板、中模板和下模板的装配位置。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述磁流变液母液的密度为0.6-1.4g/cm3，所述磁流变液悬浮颗粒的密度为6-lOg/cm3 ;屈服剪应力在30-80KPa ;磁流变液的工作温度范围在_40°C至150°C的范围内；磁流变液的响应时间:磁流变液的响应时间为毫秒数量级，磁流变液施加外磁场后，在3-10m s内达到流变平衡。
【文档编号】B24B1/00GK203650137SQ201320837577
【公开日】2014年6月18日 申请日期:2013年12月18日 优先权日:2013年12月18日
【发明者】苏永东 申请人:苏州永佳超硬耐磨材料有限公司