1.一种物理气相沉积腔室，包括：
腔室本体；
承载底座，设置于所述腔室本体内，经配置用以承载基板；以及
加热模块，设置于所述腔室本体内并位于所述承载底座与所述基板之间，用以对所述基板进行加热，
其特征在于，所述加热模块包括加热灯管，所述加热灯管经配置分布以构成加热区域，且所述加热区域于一投影方向上的投影覆盖所述基板，所述加热灯管包括加热段以及非加热段，所述加热段对应所述加热区域，所述非加热段位于所述加热区域之外,且所述加热段包括加热丝；所述加热区域包括多个子区；
所述物理气相沉积腔室还包括加热控制系统，所述加热控制系统包括：
单个测温器，经配置用以检测所述基板任一位置的实时温度；
温度控制器；
调节控制器；以及
多个功率控制器，各所述功率控制器分别对应一个所述子区中的所述加热灯管，用以调节所述子区中的所述加热灯管的加热功率；其中
所述测温器经配置用以将所述实时温度发送至所述温度控制器；
所述温度控制器经配置用以根据由所述测温器发送来的所述实时温度以及预设目标温度生成控制信号，并将所述控制信号发送至所述调节控制器；
所述调节控制器经配置用以根据所述控制信号以及加热权重函数获得子控制信号，并将所述子控制信号发送所述功率控制器；所述加热权重函数包括：
在Tmeas<Tp-T时，Un＝U；以及
在Tmeas≥Tp-T时，Un＝fn(U)＝knU+b；
其中，n为大于0，且小于或等于N的整数，N表示所述子区的数目；
Un表示与第n个子区相对应的所述子控制信号；
U表示所述控制信号；
fn(U)表示与第n个子区相对应的预设对应规则；
Tp为预设目标温度；
Tmeas为由所述测温器检测到的实时温度；
T为预设阈值温度；
kn表示与第n个子区相对应的权重系数；以及
b为常数；
所述功率控制器经配置用以调节所述加热灯管的加热功率。
2.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述承载底座包括基座以及支撑件，所述支撑件设置于所述基座上并经配置用以支撑所述基板，且所述加热模块设置于所述基板与所述基座之间。
3.如权利要求2所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，在所述基座内设置有冷却通道，经配置用以对所述基座进行冷却。
4.如权利要求2所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述支撑件包括多个支撑柱。
5.如权利要求2所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述支撑件包括支撑环。
6.如权利要求2所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述加热模块还包括热辐射屏蔽组件，所述热辐射屏蔽组件经配置用以屏蔽由所述加热灯管朝向所述基板以外的方向辐射出的热量。
7.如权利要求6所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述热辐射屏蔽组件包括：
第一屏蔽件，包括第一水平部及第一竖直部，所述第一水平部位于所述加热灯管的下方，所述第一竖直部与所述第一水平部连接并环绕在所述加热灯管的周围，且所述第一竖直部的顶部高于所述加热灯管；以及
第二屏蔽件，包括第二水平部及第二竖直部，所述第二竖直部环绕在所述基板的周围，所述第二竖直部的顶部高于所述基板，所述第二水平部环绕在所述第二竖直部的外侧，且所述第二水平部所在平面高于所述第一竖直部及所述加热灯管。
8.如权利要求7所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述热辐射屏蔽组件包括多个第一屏蔽件，所述第一屏蔽件的所述第一竖直部互相间隔排布，且所述第一屏蔽件的所述第一水平部互相间隔排布。
9.如权利要求7所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述第一水平部、所述第一竖直部、所述第二水平部以及所述第二竖直部包括朝向所述加热灯管的反射面。
10.如权利要求9所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述反射面包括经抛光或涂镀处理的表面。
11.如权利要求9所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述第一水平部、所述第一竖直部、所述第二水平部以及所述第二竖直部的所述反射面包括平面或曲面。
12.如权利要求6所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，还包括：
两个电极，设置在所述基座上，且位于靠近所述基座的中心位置处，各所述电极的上端及下端分别位于所述基座的上方及下方；以及
两个电连接件，位于所述热辐射屏蔽组件与所述基座之间，各所述电连接件的第一端与所述加热灯管电连接，且各所述电连接件的第二端分别与各所述电极电连接。
13.如权利要求12所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，还包括：
第一电屏蔽件，其环绕设置在所述基座上，所述第一电屏蔽件具有第一封闭空间，用于屏蔽在所述电连接件的所述第一端及所述加热灯管的连接处产生的电场；以及
第二电屏蔽件，其包覆所述电连接件的所述第二端并形成第二封闭空间，所述第二封闭空间用于分别屏蔽在所述电极与所述电连接件的所述第二端的连接处产生的电场。
14.如权利要求2所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，还包括：
多个动支撑柱；
连接件，所述动支撑柱设置在所述连接件上，且沿所述基座的周向间隔分布，且所述动支撑柱的顶端用于支撑所述基板；
提升轴，其竖直设置，所述提升轴的上端与所述连接件连接，且所述提升轴的下端向下延伸至所述腔室本体的外部；以及
驱动机构，其设置在所述腔室本体的底部，且所述驱动机构与所述提升轴连接，用于通过所述提升轴驱动所述动支撑柱上升或下降。
15.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述测温器设置于所述承载底座中。
16.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述加热模块包括多个加热灯管，所述加热灯管位于所述子区中，且位于不同的所述子区中的所述加热灯管彼此电性分离。
17.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述加热权重函数是在预设阶段根据所述基板的温度分布情况并通过试凑方法建立。
18.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，还包括真空泵，所述真空泵经配置用以在所述腔室本体中形成真空状态。
19.如权利要求18所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述真空泵包括冷凝泵，且所述物理气相沉积腔室还包括设置于所述冷凝泵与所述加热模块之间的保护件。
20.如权利要求1所述的物理气相沉积腔室，其特征在于，所述物理气相沉积腔室为氮化铝物理气相沉积腔室，经配置用以在所述基板上形成氮化铝薄膜。