1.一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，采用磁控溅射法先后在钛合金表面依次沉积钛薄膜、碳氮化钛薄膜和类金刚石薄膜，建立起Ti/TiCN/DLC复合膜层，其中，钛薄膜作为金属粘结层，碳氮化钛薄膜作为承载层，类金刚石薄膜作为表面减摩耐磨层。
2.根据权利要求1所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，钛薄膜沉积环境氛围为高纯氩，钛靶提供钛源。
3.根据权利要求1所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，碳氮化钛薄膜沉积环境氛围为高纯氩和高纯氮，使用钛靶和石墨靶作为钛源和碳源，通过共溅射的方式得到碳氮化钛薄膜。
4.根据权利要求1所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，类金刚石薄膜是在高纯氩氛围下溅射石墨靶得到。
5.根据权利要求1所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，具体包括以下步骤：
a.将钛合金工件装入工件架上，对溅射腔抽真空；
b.将氩气通入真空腔，保持真空环境的稳定，开启工件架转动，开启离子源，对工件和靶材表面进行阳离子清洗；
c.分别调节钛靶和石墨靶与工件架的距离，准备开始镀膜；
d.气源持续供气，保持氩气氛围稳定，开启钛靶材溅射电源，在工件表面进行钛薄膜沉积；
e.当钛薄膜沉积一定时间后通入氮气，调节溅射压力，并开启石墨靶溅射电源，在钛薄膜之上沉积碳氮化钛薄膜；
f.当碳氮化钛薄膜沉积一定时间后，关闭氮源，停止通入氮气，调整氩气环境压力，并关闭钛靶材溅射电源，只保留石墨靶作为碳源，开始沉积类金刚石薄膜；
g.沉积一定时间后，关闭石墨靶，Ti/TiCN/DLC复合膜层沉积完成，停止工件架转动，关闭气路，封闭工作腔，等待工件架温度降低后取出工件。
6.根据权利要求5所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，所述真空腔的真空压力为溅射镀膜的背底真空压力，低于3.0×10-4Pa。
7.根据权利要求1或2或5所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，钛薄膜沉积过程采用直流磁控溅射方式，通入氩气流量为10～30sccm，使用的溅射压力为0.2～1.0Pa，溅射功率为150～300W，负偏压-150～0V，沉积时间为5～30min。
8.根据权利要求1或3或5所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，采用反应共溅射的方式在钛薄膜上沉积碳氮化钛薄膜，通入氮气流量为10～30sccm，溅射压力维持在0.2～1.5Pa，钛靶参数不变，石墨靶采用射频溅射，功率在30～100W，碳氮化钛薄膜沉积时间5～60min。
9.根据权利要求1或4或5所述的一种钛合金表面超硬减摩耐磨复合膜层的覆层方法，其特征在于，采用射频溅射石墨靶的方式沉积类金刚石薄膜，功率在30～100W，沉积时间5～60min。
10.一种钛合金材料，其特征在于，包括钛合金基体，及在钛合金基体表面依次沉积的钛薄膜、碳氮化钛薄膜和类金刚石薄膜。