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用于铜基金属层的蚀刻剂组合物及用其制造显示设备的阵列基板的方法与流程
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用于铜基金属层的蚀刻剂组合物及用其制造显示设备的阵列基板的方法与流程
技术特征:
技术总结
公开了用于铜基金属层的蚀刻剂组合物,包括预定量的过氧化氢、唑类化合物、分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐、乙酸盐、多元醇表面活性剂和水。还提供了使用所述蚀刻剂组合物制造用于显示设备的阵列基板的方法。
技术研发人员:
梁承宰;朴昇煜;李恩远
受保护的技术使用者:
东友精细化工有限公司
技术研发日:
2016.10.19
技术公布日:
2017.10.10
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