1.一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法，其特征在于，包括：
确定多层膜膜系光控整体划分；
根据多层膜数据按膜类型划分出若干非灵敏单层膜；
针对每个单层膜配置对应的监控波长；
根据单层膜对应的监控信号灵敏度确定是否为光控中的非灵敏层；
将所述非灵敏层按照自身厚度和光控信号位置划分为晶振控制沉积层和光控控制沉积层；
对所述晶振控制沉积层进行晶控沉积控制；
当所述晶振控制沉积层完成晶控沉积后，对剩余的非灵敏层进行光控沉积，直至达到光控沉积目标值，得到所述光控控制沉积层；
依次完成对多层膜膜系中非灵敏膜的非灵敏区的沉积操作。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，达到光控沉积目标值时，所述光控控制沉积层的光学信号处于灵敏区。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在进行晶振控制是振动频率与晶振控制沉积层质量成反比。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述晶控沉积采用石英晶体的压电效应和质量负荷效应对膜层进行监控。
5.一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制装置，其特征在于，包括：
第一确定单元，用于确定多层膜膜系光控整体划分；
第一划分单元，用于根据多层膜数据按膜类型划分出若干非灵敏单层膜；
配置单元，用于针对每个单侧膜配置对应的监控波长；
第二确定单元，用于根据每层单层膜对应的监控波长确定多层膜系中的非灵敏层；
第二划分单元，用于将所述非灵敏层按照自身厚度和光控信号位置划分为晶振控制沉积层和光控控制沉积层；
第一沉积单元，用于对所述晶振控制沉积层进行晶控沉积控制；
第二沉积单元，用于当所述晶振控制沉积层完成晶控沉积后，对剩余的非灵敏层进行光控沉积，直至达到光控沉积目标值，得到所述光控控制沉积层；
执行单元，用于依次完成对每非灵敏单层膜的非灵敏区的沉积操作。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，达到达到光控沉积目标值时，所述光控控制沉积层的光学信号处于灵敏区。
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，在进行晶振控制是振动频率与晶振控制沉积层质量成反比。
8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述晶控沉积采用石英晶体的压电效应和质量负荷效应对膜层进行监控。