技术总结
本发明实施例公开了一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置，利用晶控法制备薄层灵敏度高的优点，控制制备非灵敏层前端部分，使剩余光控沉积厚度部分落在最佳灵敏位置监控，减少光控信号不灵敏带来的监控误差，利用光控法制备非灵敏层后端部分，使剩余光控沉积厚度部分落在最佳灵敏位置监控，可以同时补偿晶控部分及光控本身控制沉积所带来的制备误差，采用光控与晶控结合的方式沉积多层膜薄膜元件中非灵敏层薄膜层，避免了只采用光控法制备非敏感层所带来的控制误差，显著提高了光控系统中非灵敏层的沉积精度。
技术研发人员：靳京城;李春;邓文渊;金春水
受保护的技术使用者：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
文档号码：201611133633
技术研发日：2016.12.10
技术公布日：2017.05.31