技术总结
本实用新型描述了用于涂覆可移动基板(20)的沉积源(100、200、300、400)和沉积设备(500)。所述沉积源包括：源外壳(120)，通过可以在沉积期间移动基板(20)经过工艺腔室的敞开的前侧的方式而固定到所述工艺腔室；气体入口(130)，用于将工艺气体引入到所述源外壳的涂覆处理区域(125)中；以及抽空出口(140)，用于将所述工艺气体从所述源外壳的泵送区域去除。抽空分割单元(150)布置在所述涂覆处理区域(125)与所述泵送区域(126)之间，所述抽空分割单元具有至少一个开口或具有多个开口(152)，所述至少一个开口或多个开口界定从所述涂覆处理区域(125)到所述泵送区域(126)中的工艺气流路径(155)。
技术研发人员：F·里斯;T·高尔
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201620739121
技术研发日：2016.07.14
技术公布日：2017.05.24