精密金属遮罩及遮罩组件的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种精密金属遮罩及遮罩组件。

背景技术：

在目前的图案化制程中，往往通过多个遮罩条所组成的遮罩搭配镀膜制程来形成各种图案化膜层。在此，遮罩(mask)是金属薄板通过蚀刻(etching)的方式制作多条细长的金属线，利用这些金属线之间的空隙作为镀膜制程时的开口区。由于金属线相当细长，易扭曲变形，因此需要将遮罩条固定至网框上进行拉伸，使金属线横向绷紧，这个过程称为张网过程。

请参见图1，传统的精密金属遮罩100’上通常包括至少一个图案区域110’，而图案区域110’的图形通常为矩形。然而，在精密金属遮罩(FMM，Fine Metal Mask)的张网过程中，上述有效显示区域在拉伸过程中会产生应力集中的问题，导致拉伸应变不均匀，容易在精密金属遮罩的表面出现褶皱，而幅度过大的褶皱还会导致在后续制程中精密金属遮罩与基板之间贴合差，给后续的测量、焊接以及成品良率带来了不良影响。

技术实现要素：

基于此，有必要针对传统的精密金属遮罩的表面易出现褶皱的问题，提供一种表面不易出现褶皱的精密金属遮罩。

一种精密金属遮罩，包括图案区域，所述图案区域的外轮廓线包括若干条间隔连接的直线段，相邻两条所述直线段非平行，且相邻两条所述直线段之间设置有用以避免应力集中的倒角结构。

上述精密金属遮罩中，由于相邻两条非平行的直线段之间设置有用以避免应力集中的倒角结构，则能够降低或者避免在相邻两条非平行的直线段之间形成应力集中，使精密金属遮罩张网过程中的应力均匀分布在倒角结构上，从而使得张网之后的精密金属遮罩的表面不易出现褶皱。

在其中一个实施例中，所述倒角结构为倒斜角。

在其中一个实施例中，所述倒斜角的角度为30°～60°。

在其中一个实施例中，所述倒角结构为多次连续倒斜角。

在其中一个实施例中，所述倒角结构为倒弧角。

在其中一个实施例中，所述倒角结构为倒圆角。

在其中一个实施例中，所述外轮廓线为顶角处设置有倒斜角的矩形。

在其中一个实施例中，所述外轮廓线为顶角处设置有倒圆角的矩形。

在其中一个实施例中，所述矩形的相对两条长边之间的距离为4cm～25cm，所述矩形的相对两条短边之间的距离为4cm～50cm，所述倒圆角的半径为0.1mm～5mm。

此外，还提供一种遮罩组件，包括网框和上述的精密金属遮罩，所述精密金属遮罩固定在所述网框上。

上述遮罩组件中，由于精密金属遮罩的图案区域的外轮廓线上相邻两条非平行的直线段之间设置有用以避免应力集中的倒角结构，因此，能够降低或者避免在相邻两条非平行的直线段之间形成应力集中，使精密金属遮罩张网过程中的应力均匀分布在倒角结构上，从而使得张网之后的精密金属遮罩的表面不易出现褶皱。

附图说明

图1为传统的精密金属遮罩的示意图；

图2为实施例1的精密金属遮罩的示意图；

图3为实施例2的精密金属遮罩的示意图；

图4为实施例3的精密金属遮罩的示意图；

图5为实施例4的精密金属遮罩的示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

为了解决传统的精密金属遮罩的表面易出现褶皱的问题，本实用新型提供一种表面不易出现褶皱的精密金属遮罩。

本实用新型的精密金属遮罩包括图案区域。图案区域指的是若干个紧密排布的用于后续蒸镀用的小图案所组成的区域。精密金属遮罩上可以只设置有一个图案区域，亦可设置有两个或者两个以上个数的图案区域。当精密金属遮罩上设置有两个或者两个以上个数的图案区域时，相邻两个图案区域之间具有明显的界线，即每个图案区域的外轮廓线是清晰的。

本实用新型的精密金属遮罩中，每个图案区域的外轮廓线包括若干条间隔连接的直线段，相邻两条直线段非平行，且相邻两条直线段之间设置有用以避免应力集中的倒角结构。需要说明的是，上述倒角结构是相对于直线段来说的，上述外轮廓线中，直线段的长度远大于倒角结构的长度。

这种倒角结构能够降低或者避免在相邻两条非平行的直线段之间形成应力集中，使精密金属遮罩张网过程中的应力均匀分布在倒角结构上，从而使得张网之后的精密金属遮罩的表面不易出现褶皱，精密金属遮罩在后续蒸镀过程中在磁场作用下受到的磁力更均匀。

本实用新型的精密金属遮罩的倒角结构可以为若干形式，例如可以为倒斜角、多次连续倒斜角、倒弧角或者倒圆角等，当然，亦可为其他形式的倒角结构。下面结合具体实施例以及附图对本实用新型的精密金属遮罩进行进一步的说明。

实施例1

请参见图2，实施例1的精密金属遮罩100包括图案区域110。从图2中所示，图案区域110的外轮廓线包括4条间隔连接的直线段112，相邻两条直线段112相互垂直，上述4条直线段112构成一个矩形。

上述相邻两条直线段112之间，即上述矩形的顶角处，设置有用以避免应力集中的倒角结构114。如图2所示，本实施例中的倒角结构114为倒斜角。上述倒斜角的角度为45°。在精密金属遮罩100的张网过程中，受到的应力能够均匀分布在上述倒斜角上，从而使得张网之后的精密金属遮罩100的表面不易出现褶皱。

当然，上述倒斜角的角度不以此为限，优选为30°～60°之间的任意角度数值，亦可为其他数值。

实施例2

请参见图3，实施例2的精密金属遮罩200包括图案区域210。从图3中所示，图案区域210的外轮廓线包括4条间隔连接的直线段212，相邻两条直线段212相互垂直，上述4条直线段212构成一个矩形。

上述相邻两条直线段212之间，即上述矩形的顶角处，设置有用以避免应力集中的倒角结构214。如图3所示，本实施例中的倒角结构214为多次连续倒斜角。在精密金属遮罩100的张网过程中，受到的应力能够均匀分布在上述多次连续倒斜角上，从而使得张网之后的精密金属遮罩200的表面不易出现褶皱。

实施例3

请参见图4，实施例3的精密金属遮罩300包括图案区域310。从图4中所示，图案区域310的外轮廓线包括4条间隔连接的直线段312，相邻两条直线段312相互垂直，上述4条直线段312构成一个矩形。

上述相邻两条直线段312之间，即上述矩形的顶角处，设置有用以避免应力集中的倒角结构314。如图4所示，本实施例中的倒角结构314为倒弧角。在精密金属遮罩300的张网过程中，受到的应力能够均匀分布在上述倒弧角上，从而使得张网之后的精密金属遮罩300的表面不易出现褶皱。

实施例4

请参见图5，实施例4的精密金属遮罩400包括图案区域410。从图5中所示，图案区域410的外轮廓线包括4条间隔连接的直线段412，相邻两条直线段412相互垂直，上述4条直线段412构成一个矩形。本实施例中上述矩形的相对两条长边之间的距离为7.1cm，相对两条短边之间的距离为12.9cm。当然，上述矩形的相对两条长边之间的距离和相对两条短边之间的距离均不限于此，相对两条长边之间的距离亦可为4cm～25cm中的任意数值，相对两条短边之间的距离亦可为4cm～50cm中的任意数值。

上述相邻两条直线段412之间，即上述矩形的顶角处，设置有用以避免应力集中的倒角结构414。如图5所示，本实施例中的倒角结构414为倒圆角。本实施例中上述倒圆角的半径为R10mm。当然，上述倒圆角的半径不限于此，亦可根据实际使用需求进行选择。

在精密金属遮罩400的张网过程中，精密金属遮罩400受到的应力能够均匀分布在上述倒圆角上，从而使得张网之后的精密金属遮罩400的表面不易出现褶皱。

性能测试

在精密金属遮罩的张网过程中，将与实施例4尺寸相同(指的是相对两条长边之间的距离和相对两条短边之间的距离相同)的传统的精密金属遮罩100作为对比例，分别对对比例和实施例4的精密金属遮罩400施加6N的拉力，测试结果如表1所示：

表1测试结果

从表1可以看出，当对相同尺寸的传统的精密金属遮罩100和实施例4的精密金属遮罩400施加同样数值(6N)的拉力时，实施例4的精密金属遮罩400的边角位置的应力最大值为传统的精密金属遮罩100的边角位置的应力最大值的一半左右。上述测试结果表明，对精密金属遮罩的图案区域进行倒圆角处理之后，能够显著降低边角位置的应力，避免了应力集中，从而使应力均匀分布。

本实用新型的上述实施例1～实施例4中精密金属遮罩的图案区域的外轮廓线的形状均以矩形为例，但其不限于此，亦可为其他任意形状，即本实用新型的精密金属遮罩中图案区域的外轮廓线可以为任意符合要求的形状。此外，当同一个精密金属遮罩中包括两个或者两个以上的图案区域时，各个图案区域的外轮廓线的形状可以相同，亦或不同。

此外，本实用新型还提供一种遮罩组件。上述遮罩组件包括包括网框和上述的精密金属遮罩，精密金属遮罩固定在网框上。

上述遮罩组件中，由于精密金属遮罩的图案区域的外轮廓线上相邻两条非平行的直线段之间设置有用以避免应力集中的倒角结构，因此，能够降低或者避免在相邻两条非平行的直线段之间形成应力集中，使精密金属遮罩张网过程中的应力均匀分布在倒角结构上，从而使得张网之后的精密金属遮罩的表面不易出现褶皱。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。