技术总结
本实用新型涉及靶面磁场强度可调节的旋转阴极，其特征在于，包括：靶管，所述靶管具有管腔；冷却水管，所述冷却水管设置于所述管腔内；磁铁组件，所述磁铁组件位置可调整地设置于所述管腔内；调整装置，所述调整装置设置于所述管腔内，用于驱动所述磁铁组件移动以调整所述磁铁组件与所述靶管内壁之间的间隙大小。本实用新型实用新型提高耙材的利用率，实现镀膜产品均匀性的要求，节约生产成本。本实用新型实用新型可精确简便调节耙面特定区域和沿整根靶材的长度方向磁场强度，可改变局部区域和整根靶管的溅射离子能量和溅射速率，实现要求的溅射工艺。
技术研发人员：文继志;郭江涛;徐和平
受保护的技术使用者：斡兹真空科技（上海）有限公司
文档号码：201621144611
技术研发日：2016.10.21
技术公布日：2017.05.10