技术总结
本实用新型公开了一种压力浸渍设备，炉体内部设置有保温层，保温层包括上盖保温层和筒体保温层，上盖保温层包裹在上盖壳体内，筒体保温层包裹在筒体壳体内；上盖壳体设置在筒体壳体上，筒体壳体底部设置在炉壳底部上方，炉壳底部与筒体壳体接触用于承托筒体壳体。本实用新型公开的压力浸渍设备，通过其结构设计，能够有效减少或避免保温层受到污染。
技术研发人员：戴煜;胡祥龙;胡高健;蒋博
受保护的技术使用者：湖南顶立科技有限公司
文档号码：201621396185
技术研发日：2016.12.19
技术公布日：2017.08.22