1.一种磁控溅射设备靶材，其包括：
靶材，所述靶材包括一溅射面和一安装面；
背板，与所述靶材对应地设置，其包括一上表面和一下表面，所述上表面与所述安装面配合安装；
其特征在于：
所述靶材的所述安装面上设置有凸楞，所述背板的所述上表面上设置有凹槽，所述凹槽与所述凸楞配合设置；
在所述背板内还设置有冷却水路。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述凸楞和所述凹槽的截面为多边形。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述凸楞和所述凹槽的截面为梯形。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述冷却水路为在所述背板内分布的蛇形通道。
5.根据权利要求4所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述蛇形通道具有一个进水口和一个出水口。
6.根据权利要求1所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述冷却水路包括在所述背板内所述凹槽附近设置的沿凸楞方向延伸的多个冷却通道。
7.根据权利要求6所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述冷却通道为两个。
8.根据权利要求1-7任意一项所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述凸楞靠近所述靶材的边缘设置。
9.根据权利要求1-7中任意一项所述的磁控溅射设备靶材，其特征在于：所述背板通过焊接介质与所述靶材焊接固定。