技术特征：
技术总结
本发明涉及一种抑制前体流和衬底区外等离子体以抑制衬底处理系统寄生沉积的衬底处理系统，其包括喷头，所述喷头包括底部和杆部并且所述喷头传输前体气体到室。轴环，所述轴环将喷头连接到室的上表面。所述轴环围绕喷头的杆部设置，所述轴环包括多个槽，并且将前体气体引导通过多个槽导入喷头的底部和室的上表面之间的区域。
技术研发人员：夏春光;拉梅什·钱德拉赛卡兰;道格拉斯·凯尔;爱德华·J·奥古斯蒂内克;卡尔·利泽
受保护的技术使用者：诺发系统公司
技术研发日：2013.06.25
技术公布日：2017.12.05