技术特征：
技术总结
本发明公开了一种掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备。该掩膜板包括图案部，所述图案部在第一方向上的边缘设置有第一拉伸配合结构，所述图案部在第二方向上的边缘设置有第二拉伸配合结构，所述第一方向和所述第二方向交叉设置。本发明中在第一方向和第二方向两个方向上对图案部施加拉力，避免了掩膜板在不同方向上的形变不一致的问题，从而避免了掩膜板产生褶皱，进而提高了发光器件的生产良率。
技术研发人员：罗昶;梁逸南;吴海东;吴建鹏
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
技术研发日：2017.06.02
技术公布日：2018.12.11