技术特征：
技术总结
本发明提供了一种LPCVD工艺腔匀气装置，包括上隔离板、匀流板和下隔离板；匀流板上开设有上导流槽和下导流槽；上导流槽具有第一进气端和第一出气端，下导流槽具有第二进气端和第二出气端；第一进气端与第一气源相通；第二进气端与第二气源相通；第一出气端和第二出气端通过匀流板上开设的出气孔相通；下隔离板上设置有第一出气通孔，第一出气通孔与出气孔相通。本发明提供的LPCVD工艺腔匀气装置保证了气体扩散的均匀性，提高了CIGS薄膜电池的薄膜成型质量。
技术研发人员：袁世成
受保护的技术使用者：君泰创新（北京）科技有限公司
技术研发日：2017.07.14
技术公布日：2017.11.07