一种化妆品容器口磨平装置的制作方法

文档序号:11416572阅读:290来源:国知局

本实用新型涉及一种化妆品容器加工设备,具体是一种化妆品容器口磨平装置。



背景技术:

化妆品是指以涂抹、喷洒或者其他类似方法,散布于人体表面的任何部位,如皮肤、毛发、指趾甲、唇齿等,以达到清洁、保养、美容、修饰和改变外观,或者修正人体气味,保持良好状态为目的的化学工业品或精细化工产品。化妆品生产完成之后往往会用容器进行封装,常用的化妆品容器多为塑料和玻璃的,这些化妆品容器的生产大多为一体注塑而成的,而了解一体注塑的人都应该知道,注塑完成之后容器的瓶口往往会存在着很多余料,因此需要进行二次加工进行打磨,传统的打磨大多为认为手工打磨,这样比较容易控制力度,但是却浪费了很多人力和时间,而发展到现在的砂轮打磨设备,虽然比较机械化,但是单一的砂轮是很不容易作用于瓶口的,往往只能作用于瓶口的单一位置,因此还是需要认为的进行调节砂轮与瓶口的相对位置,也是很麻烦,需要改进。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种化妆品容器口磨平装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种化妆品容器口磨平装置,包括底座,所述底座上端左右两侧安装有支柱,支柱的上端固定安装有横板,横板的中心安装有液压缸,液压缸的下端安装有伸缩轴,伸缩轴穿过横板连接有升降板,升降板上沿中心左右对称开设有滑孔,滑孔内滑动设有第一电机,滑孔内壁设有滑槽,第一电机外壁上设有与滑槽相对应的滑块,所述第一电机的下端设有第一转轴,第一转轴的下端安装有打磨砂轮,所述升降板的左右两端开设有导向孔,导向孔内穿设有导向杆,导向杆的上端固定安装在横板的下端;所述升降板的正下方设有转台,转台安装在第二转轴上,第二转轴安装在第二电机上,第二电机竖直安装在底座内部中心处,所述转台的下端边侧安装有安装架,安装架上安装有滚轮,所述底座上开设有与滚轮相配合的滚槽,滚槽呈环形设置。

作为本实用新型进一步的方案:所述升降板上还设有用于控制第一电机滑动的定位装置。

作为本实用新型再进一步的方案:所述转台上端设有卡板。

作为本实用新型再进一步的方案:所述安装架设有三个,相应的滚轮也设有三个。

作为本实用新型再进一步的方案:所述底座的下端设有防滑垫。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单合理,使用快捷方便,可以针对不同口径大小的容器进行瓶口的打磨,也可以根据不同高度的容器进行相应的调节,打磨简单方便,适用范围广,适合推广使用。

附图说明

图1为化妆品容器口磨平装置的结构示意图;

图中:1-底座、2-支柱、3-横板、4-液压缸、5-伸缩轴、6-升降板、7-滑孔、8-第一电机、9-滑槽、10-滑块、11-第一转轴、12-打磨砂轮、13-导向孔、14-导向杆、15-转台、16-第二转轴、17-第二电机、18-安装架、19-滚轮、20-滚槽、21-卡板、22-防滑垫。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

请参阅图1,一种化妆品容器口磨平装置,包括底座1,所述底座1上端左右两侧安装有支柱2,支柱2的上端固定安装有横板3,横板3的中心安装有液压缸4,液压缸4的下端安装有伸缩轴5,伸缩轴5穿过横板3连接有升降板6,升降板6上沿中心左右对称开设有滑孔7,滑孔7内滑动设有第一电机8,滑孔7内壁设有滑槽9,第一电机8外壁上设有与滑槽9相对应的滑块10,所述第一电机8的下端设有第一转轴11,第一转轴11的下端安装有打磨砂轮12,所述升降板6的左右两端开设有导向孔13,导向孔13内穿设有导向杆14,导向杆14的上端固定安装在横板3的下端,通过液压缸4可以控制升降板6的高低,第一电机8带动旋转打磨砂轮12,同时升降板6的高低升降便可以使打磨砂轮12升降,实现高低调节,而且第一电机8可以在滑孔7内左右滑动,便可以实现两个打磨砂轮12的水平位置调节,以便应对不同口径大小的容器。

所述升降板6上还设有用于控制第一电机8滑动的定位装置(图未示)。

所述升降板6的正下方设有转台15,转台15安装在第二转轴16上,第二转轴16安装在第二电机17上,第二电机17竖直安装在底座1内部中心处,所述转台15的下端边侧安装有安装架18,安装架18上安装有滚轮19,所述底座1上开设有与滚轮19相配合的滚槽20,滚槽20呈环形设置。将待磨口的容器放置在转台15上,通过第二电机17可以带动容器旋转,而转台15下端的滚轮19则可以使转台15旋转的更加平稳。

所述转台15上端设有卡板21,卡板21用以对容器卡紧。

所述安装架18设有三个,相应的滚轮19也设有三个。

所述底座1的下端设有防滑垫22。

上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明,但是本专利并不限于上述实施方式,在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本专利宗旨的前提下做出各种变化。

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