1.一种氧化皮自动清理装置，应用于淬火设备中，所述淬火设备包括壳体和设于所述壳体下部的淬火槽，其特征在于，包括输送部、排屑部及电控部，所述输送部安装于所述淬火槽内，所述排屑部设于所述壳体的内侧壁上，所述输送部将淬火槽内产生的氧化皮输送至所述排屑部，所述排屑部将氧化皮排出所述淬火设备，所述电控部控制所述输送部与所述排屑部的运作与停止。
2.如权利要求1所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，还包括输送部驱动系统与排屑部驱动系统，所述电控部通过所述输送部驱动系统对所述输送部进行控制，所述电控部通过所述排屑部驱动系统对所述排屑部进行控制。
3.如权利要求1所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，还包括安全网，所述安全网设于所述淬火槽内部且位于所述输送部的上方。
4.如权利要求1所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，所述排屑部包括排屑装置、收集槽及排屑口，所述收集槽收集所述输送部输送的氧化皮，所述排屑装置将所述收集槽内的氧化皮输送至所述排屑口，所述排屑口设于所述壳体上。
5.如权利要求4所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，所述排屑装置包括排屑带与设于所述排屑带上的排屑单元。
6.如权利要求1或4所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，所述输送部位于所述淬火槽底部，所述输送部包括输送带及设于所述输送带上的输送单元。
7.如权利要求6所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，所述输送单元为刮板。
8.如权利要求7所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，所述排屑单元为提升料斗。
9.如权利要求8所述的氧化皮自动清理装置，其特征在于，还包括带有高压喷嘴的吹扫装置，所述高压喷嘴伸入所述壳体内，对所述提升料斗进行吹扫。
10.一种淬火设备，其特征在于，具有权利要求1～9任一项所述的氧化皮自动清理装置。