1.一种铝合金材料,其特征在于,包括铝合金基体、经化学反应和/或电化学反应形成在所述铝合金基体的表面的转换膜以及形成在所述转换膜上的PVD膜层，所述转换膜的硬度大于所述铝合金基体的硬度。
2.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述铝合金基体为铸造铝合金、轧制铝合金和挤压铝合金中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述转换膜为铝合金氧化膜或者钝化膜。
4.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述铝合金氧化膜为普通阳极氧化膜、硬质阳极氧化膜或者微弧氧化膜。
5.根据权利要求3所述的铝合金材料，其特征在于，所述转换膜为铝合金氧化膜，所述铝合金氧化膜为不封孔状态的氧化膜或者经封孔后镜面抛光的氧化膜。
6.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述PVD膜层为金属氮化物和金属碳氮化物中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述PVD膜层为TiCN氧化膜、TiN氧化膜、CrN氧化膜、TiN氧化膜、AlCrN氧化膜和AlTiN氧化膜中的至少一种或者多层复合膜。
8.根据权利要求3所述的铝合金材料，其特征在于，所述铝合金氧化膜通过普通阳极氧化制备而成，所述铝合金氧化膜的硬度为280-500Hv。
9.根据权利要求3所述的铝合金材料，其特征在于，所述铝合金氧化膜通过硬质阳极氧化制备而成，所述铝合金氧化膜的硬度为400-1000Hv。
10.根据权利要求3所述的铝合金材料，其特征在于，所述铝合金氧化膜通过微弧氧化制备而成，所述铝合金氧化膜的硬度为1000Hv以上。
11.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述PVD膜层的硬度大于所述转换膜的硬度。
12.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述转换膜的厚度为8-200μm。
13.根据权利要求1所述的铝合金材料，其特征在于，所述PVD膜层的厚度为1-10μm。
14.一种铝合金材料的制备方法，其特征在于，包括：
经化学反应和/或电化学反应在铝合金基体的表面上形成转换膜，所述转换膜的硬度大于所述铝合金基体的硬度；
在所述转换膜上进行物理气相沉积，以形成PVD膜层。