一种真空镀膜机真空室基片架升降机构的制作方法

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体说，是一种真空镀膜机真空室基片架升降机构。

背景技术：

真空镀膜生产线是在同一水平平面上分布有多个真空箱体，被镀玻璃在传送装置的输送下，经过每一个真空箱体进行处理，实现表面镀膜。现有被镀玻璃传送采用的有两种传输方式，一种是采用直线式传输方式，一端进一端出，另一种是采用回传模式，进出都在同一端，但是这两种模式传输的基片进出是在不同的真空室完成的，这样使得真空室的数量增加，相应的真空抽气系统会明显增加。如要实现在同一真空室环境下对多个基片架进行往返独立传输，则需要一种机构能使基片架在真空室内与传输机构脱离。

技术实现要素：

针对上述现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离。

本发明采用的技术方案如下：一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，在真空室底板下方固定有两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。

进一步地，所述支撑杆与密封板之间通过直线轴承连接。

进一步地，在密封板上设有导向杆，在支撑座上设有与导向杆配合的导向板。

进一步地，在支撑座上设有与基片架配合的两条凹槽。

本发明的有益效果是：本发明的升降机构可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离，从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的独立传输，其工作过程平稳，同心度高，真空室外采用波纹管连接，内部升降和外部升降独立分开，气密性好，在整个工作过程中不会造成真空度的变化。

附图说明

图1是本发明的使用状态示意图。

图2是本发明的局部剖面图。

图3是本发明的立体结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。

如图1—图3所示，本实施例的一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，在真空室底板1下方固定有两个气缸2，两个气缸2的活塞杆端连接在同一块端板3上，所述端板3的两端各设有一支撑杆7，所述支撑杆7穿透真空室底板1伸入至真空室内，支撑杆7的顶端连接支撑座5，在支撑座5上设有与基片架配合的两条凹槽，支撑杆7穿过真空室底板1处设有密封板6，支撑杆7与密封板6之间通过直线轴承8连接，在密封板6上设有导向杆9，在支撑座5上设有与导向杆9配合的导向板10。在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管4，所述波纹管4两端分别与密封板6和端板3密闭连接。

本发明的一种真空镀膜机真空室基片架升降机构工作时，两组气缸同时伸出或收缩，带动波纹管拉伸或收缩以及内部支撑杆下降或上升，支撑座沿导向杆上下直线运动，支撑座上升可顶起基片架使基片架与传输机构脱离，支撑座下降则使基片架重新回到传输机构。

在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本发明所属领域的技术人员将会想到本发明的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本发明不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，在真空室底板下方固定有两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。本发明的升降机构可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离，从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的独立传输，其工作过程平稳，气密性好，在整个工作过程中不会造成真空度的变化。

技术研发人员：刘光斗;舒逸;李赞
受保护的技术使用者：湖南玉丰真空科学技术有限公司
技术研发日：2018.07.31
技术公布日：2018.11.09