技术特征：
技术总结
本发明提供一种化学机械(CMP)抛光垫，其具有顶部表面、经调适以接收端点检测窗口的一个或多个孔口、具有凹陷部分且具有一个或多个凸缘端点检测窗口(窗口)的下侧，每个窗口具有经调适以紧密地装配到所述抛光层的下侧的凹陷部分中的凸缘，所述凸缘具有略微小于所述抛光层的凹陷部分的深度的厚度(以允许粘着剂)，具有紧密地装配到所述抛光层中的孔口中的检测区域以使得其顶部表面大体上与所述抛光层的所述顶部表面齐平。
技术研发人员：S·G·皮斯克拉克;J·J·亨德伦
受保护的技术使用者：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
技术研发日：2018.08.20
技术公布日：2019.03.22