1.一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括壳体，该壳体具有顶部开口的圆柱形腔体(10)，且腔体(10)的高度不小于4m；其中，
腔体(10)内的底部设置有转动装置，其与设置在壳体外的传动装置连接，转动装置上设置有用于放置工件的工件架；腔体(10)内壁上沿其轴向安装有若干对靶座底盘(20)，每对靶座底盘(20)均包括呈180°相对布置的两个靶座底盘(20)，每个靶座底盘(20)上均分布有多个靶座(210)，每个靶座(210)上均用于安装靶材，每对靶座底盘(20)旁边均设置有用于更换靶材的腔门(110)，靶座(210)上设置有遮挡板(220)，以遮挡靶材；壳体顶部设置有气体进出装置和高压空气出气口；工作时，靶材通过座电极连接外电路负极，工件架通过座电极连接外电路正极。
2.根据权利要求1所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，壳体包括由外至内依次设置的起坚硬保护作用的外层金属层，其绝缘作用的中间陶瓷层和起封闭磁力线、阻隔富能粒子的内层金属层。
3.根据权利要求1所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，靶座底盘(20)所在的腔体(10)母线关于工件架中心轴呈二次或者四次或者六次对称分布。
4.根据权利要求1所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，每个靶座底盘(20)上均设置有6个对称分布的靶座(210)。
5.根据权利要求1所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，靶材为纯金属靶、合金靶或陶瓷靶。
6.根据权利要求1所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，转动装置包括转轴(30)，转轴(30)的一端穿过壳体与传动转置连接，另一端连接有行星转盘(310)，工件架设置在行星转盘(310)上。
7.根据权利要求6所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，工件架包括工件托盘(320)和立柱(330)，若干工件托盘(320)分别与行星转盘(310)上对应的行星轮连接，每个工件托盘(320)上均设置有一个立柱(330)，工作时，工件套装在对应的立柱(330)上，行星转盘(310)转动时，工件架带动上面安装的工件绕工件架中心轴公转，转轴(30)上的工件托盘(320)带动其上面安装的工件绕工件架中心轴公转的同时，也绕行星转轴自转。
8.根据权利要求6所述的一种用于长外包壳管的立式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，传动装置包括自转电机和联轴器，自转电机的输出轴通过联轴器与转动装置的转轴连接。