一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的制作方法

[0001]
本发明涉及航空航天壳体制造领域，特别是涉及一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置。


背景技术：

[0002]
航空与航天是20世纪人类认识和改造自然进程中最活跃、最有影响的科学技术领域，也是人类文明高度发展的重要标志。航空指飞行器在地球大气层内的航行活动，航天指飞行器在大气层外宇宙空间的航行活动。人类在征服大自然的漫长岁月中，早就产生了翱翔天空、遨游宇宙的愿望；航空航天壳体时的光滑程度决定了整个航天器在飞翔过程中与空气摩擦的剧烈程度，传统的光滑度处理装置一般都是利用抛光机来对航空航天壳体进行打磨抛光处理，但是一般的航空航天壳体均为曲面的锥形结构，因此传统的抛光处理装置在进行抛光处理时，抛光轮不能完全的贴合在航空航天壳体外侧，进而会影响抛光效果，同时目前大部分的抛光处理过程，一般都采用人工进行抛光处理，这就会使得整个抛光效率降低。


技术实现要素：

[0003]
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置。
[0004]
本发明通过以下技术方案来实现上述目的：
[0005]
一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置，包括用于带动圆锥型曲面的航空航天壳体在光滑度处理时转动的转动机构、移动机构、顶压气缸、机架、顶压座，所述转动机构设置在所述机架一侧，所述顶压气缸设置在所述机架另一侧，所述顶压座安装在所述顶压气缸伸缩部，所述移动机构设置在所述机架前后两侧，还包括调节机构和抛光机构，所述调节机构包括调节气缸、旋转架、调节电机、调节齿轮、齿圈，所述旋转架连接所述移动机构，所述齿圈安装在所述旋转架外侧的中间位置，所述调节气缸固定部安装在所述旋转架两侧，所述调节电机连接所述移动机构，所述调节齿轮安装在所述调节电机转动部；所述抛光机构包括抛光电机、调节架、抛光架、抛光座、抛光轮，所述调节架安装在所述调节气缸伸缩部，所述抛光电机安装在所述调节架上且位于两个所述调节气缸之间，所述抛光架安装在所述调节架上且位于所述旋转架内侧，所述抛光轮位于所述调节气缸内侧，所述抛光座一端位于所述抛光架内侧，所述抛光座另一端安装在所述抛光轮靠近所述调节气缸的一侧。
[0006]
优选的：所述转动机构包括转动电机、转动座、带轮、皮带，所述转动电机通过螺栓连接在所述机架外侧的一端，所述转动座通过轴承连接在所述机架内侧的一端，所述带轮通过键连接在所述转动电机转动部和所述转动座一侧，所述皮带设置在所述带轮外侧。
[0007]
如此设置，利用所述转动电机转动部带动所述带轮进行转动，通过所述带轮和所述皮带的传动来带动所述转动座进行转动。
[0008]
优选的：所述转动机构包括转动电机、转动座、主动齿轮、从动齿轮，所述转动电机通过螺栓连接在所述机架外侧的一端，所述转动座通过轴承连接在所述机架内侧的一端，所述主动齿轮通过键连接在所述转动电机转动部，所述从动齿轮通过键连接在所述转动座一侧。
[0009]
如此设置，利用所述转动电机转动部带动所述主动齿轮进行转动，通过所述主动齿轮和所述从动齿轮的传动来带动所述转动座进行转动。
[0010]
优选的：所述移动机构包括移动电机、丝杠、滑轨、滑块、支撑架，所述移动电机通过螺栓连接在所述机架一端的前后两侧，所述丝杠两端通过轴承连接在所述机架前后两侧，所述滑轨通过螺栓连接在所述机架内侧，所述滑轨位于所述丝杠下方，所述支撑架位于所述机架中间位置，所述滑块通过螺栓连接在所述支撑架下端。
[0011]
如此设置，利用所述移动电机转动部带动所述丝杠进行转动，通过所述丝杠的转动来带动所述支撑架进行两侧移动，同时利用所述滑轨和所述滑块来对所述支撑架进行支撑。
[0012]
优选的：所述顶压气缸固定部通过螺栓连接在所述机架另一侧，所述顶压座通过轴承连接在所述顶压气缸伸缩部。
[0013]
如此设置，利用所述顶压气缸伸缩部推动所述顶压座向一侧移动，通过所述顶压座来对圆锥型的曲面航空航天壳体进行支撑。
[0014]
优选的：所述齿圈与所述旋转架通过焊接连接，所述调节气缸固定部与所述旋转架通过螺栓连接，所述调节齿轮与所述调节电机转动部通过键连接。
[0015]
如此设置，利用所述调节电机转动部带动所述调节齿轮进行转动，通过所述调节齿轮和所述齿圈的传动来带动所述旋转架进行转动。
[0016]
优选的：所述调节架与所述调节气缸伸缩部通过螺纹连接，所述抛光电机与所述调节架通过螺栓连接，所述抛光架与所述调节架通过轴承连接。
[0017]
如此设置，利用抛光电机转动部带动所述抛光架进行转动，通过所述滑轨的转动来带动所述抛光轮进行高速转动，从而来对航空航天壳体进行打磨抛光。
[0018]
优选的：所述支撑架上端中间开设有圆形限位槽，所述齿圈位于所述支撑架上侧的限位槽内，所述支撑架下端前后两侧开设有螺纹孔。
[0019]
如此设置，利用所述支撑架圆形限位槽来让所述调节机构在其内侧转动。
[0020]
优选的：所述旋转架两侧的内部各焊接有三个凹型的固定架，所述旋转架固定架中间位置开设有矩形开口，并在所述旋转架固定架的矩形两侧各开设有一个圆孔。
[0021]
如此设置，利用所述旋转架内的固定架来对所述调节气缸进行支撑固定。
[0022]
优选的：所述抛光架靠近所述旋转架中心位置的一端上开设有限位槽，所述抛光座位于所述抛光架限位槽内。
[0023]
如此设置，利用所述抛光座在所述抛光架的限位槽内进行往复移动。
[0024]
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
[0025]
1、利用抛光架来带动五个抛光座和抛光轮进行转动，同时利用抛光座在抛光架上的相对移动，从而可以使得抛光轮更加的贴合曲面壳体；
[0026]
2、利用旋转架来带动抛光机构围绕航空航天壳体转动，从而可以圆锥型曲面的航空航天壳体进行打磨抛光处理。
附图说明
[0027]
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]
图1是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的实施例1结构示意图；
[0029]
图2是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的实施例2结构示意图；
[0030]
图3是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的转动机构实施例1局部零件图；
[0031]
图4是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的转动机构实施例2局部零件图；
[0032]
图5是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的抛光机构局部零件图；
[0033]
图6是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的调节机构局部零件图；
[0034]
图7是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的调节机构局部剖视图；
[0035]
图8是本发明所述一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置的调节电机局部零件图。
[0036]
附图标记说明如下：
[0037]
1、转动机构；2、移动机构；3、调节机构；4、抛光机构；5、顶压气缸；6、机架；7、顶压座；11、转动电机；12、转动座；13、带轮；14、皮带；113、主动齿轮；114、从动齿轮；21、移动电机；22、丝杠；23、滑轨；24、滑块；25、支撑架；31、调节气缸；32、旋转架；33、调节电机；34、调节齿轮；35、齿圈；41、抛光电机；42、调节架；43、抛光架；44、抛光座；45、抛光轮。
具体实施方式
[0038]
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0039]
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是
两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0040]
下面结合附图对本发明作进一步说明：
[0041]
一种用于航空航天壳体制造的光滑度处理装置，包括用于带动圆锥型曲面的航空航天壳体在光滑度处理时转动的转动机构1、移动机构2、顶压气缸5、机架6、顶压座7，转动机构1设置在机架6一侧，顶压气缸5设置在机架6另一侧，顶压座7安装在顶压气缸5伸缩部，移动机构2设置在机架6前后两侧，还包括调节机构3和抛光机构4，调节机构3包括调节气缸31、旋转架32、调节电机33、调节齿轮34、齿圈35，旋转架32设置在支撑架25上端的内侧，齿圈35安装在旋转架32外侧的中间位置，调节气缸31固定部安装在旋转架32两侧，调节电机33安装在支撑架(25)下端的中间位置，调节齿轮34安装在调节电机33转动部；抛光机构4包括抛光电机41、调节架42、抛光架43、抛光座44、抛光轮45，调节架42安装在调节气缸31伸缩部，抛光电机41安装在调节架42上且位于两个调节气缸31之间，抛光架43安装在调节架42上且位于旋转架32内侧，抛光轮45位于调节气缸31内侧，抛光座44一端位于抛光架43内侧，抛光座44另一端安装在抛光轮45靠近调节气缸31的一侧。
[0042]
实施例1
[0043]
如图1、图3、图5、图6、图7、图8所示，转动机构1包括转动电机11、转动座12、带轮13、皮带14，转动电机11通过螺栓连接在机架6外侧的一端，转动座12通过轴承连接在机架6内侧的一端，带轮13通过键连接在转动电机11转动部和转动座12一侧，皮带14设置在带轮13外侧，利用转动电机11转动部带动带轮13进行转动，通过带轮13和皮带14的传动来带动转动座12进行转动；移动机构2包括移动电机21、丝杠22、滑轨23、滑块24、支撑架25，移动电机21通过螺栓连接在机架6一端的前后两侧，丝杠22两端通过轴承连接在机架6前后两侧，滑轨23通过螺栓连接在机架6内侧，滑轨23位于丝杠22下方，支撑架25位于机架6中间位置，滑块24通过螺栓连接在支撑架25下端，利用移动电机21转动部带动丝杠22进行转动，通过丝杠22的转动来带动支撑架25进行两侧移动，同时利用滑轨23和滑块24来对支撑架25进行支撑；顶压气缸5固定部通过螺栓连接在机架6另一侧，顶压座7通过轴承连接在顶压气缸5伸缩部，利用顶压气缸5伸缩部推动顶压座7向一侧移动，通过顶压座7来对圆锥型的曲面航空航天壳体进行支撑；齿圈35与旋转架32通过焊接连接，调节气缸31固定部与旋转架32通过螺栓连接，调节齿轮34与调节电机33转动部通过键连接，利用调节电机33转动部带动调节齿轮34进行转动，通过调节齿轮34和齿圈35的传动来带动旋转架32进行转动；调节架42与调节气缸31伸缩部通过螺纹连接，抛光电机41与调节架42通过螺栓连接，抛光架43与调节架42通过轴承连接，利用抛光电机41转动部带动抛光架43进行转动，通过滑轨23的转动来带动抛光轮45进行高速转动，从而来对航空航天壳体进行打磨抛光；支撑架25上端中间开设有圆形限位槽，齿圈35位于支撑架25上侧的限位槽内，支撑架25下端前后两侧开设有螺纹孔，利用支撑架25圆形限位槽来让调节机构3在其内侧转动；旋转架32两侧的内部各焊接有三个凹型的固定架，旋转架32固定架中间位置开设有矩形开口，并在旋转架32固定架的矩形两侧各开设有一个圆孔，利用旋转架32内的固定架来对调节气缸31进行支撑固定；抛光架43靠近旋转架32中心位置的一端上开设有限位槽，抛光座44位于抛光架43限位槽内。
[0044]
工作原理：在使用时，通过移动电机21转动部带动22进行转动，在滑轨23和滑块24
的支撑和丝杠22的转动下，支撑架25向一侧移动，进而当支撑架25移动到机架6内侧一端位置时，将需要光滑处理的航空航天壳体放入到转动座12和顶压座7之间位置，此时利用顶压气缸5伸缩部推动顶压座7向一侧移动，进而来通过顶压座7将航空航天壳体顶压在转动座12上，从而来对航天航空壳体进行支撑固定；随后转动电机11转动部带动带轮13进行转动，通过带轮13和皮带14的转动来带动转动座12进行转动，进而通过转动座12的转动来带动固后的航空航天壳体进行转动；与此同时，利用调节电机33转动部带动调节齿轮34进行转动，通过调节齿轮34和旋转架32外侧的齿圈35啮合，从而来带动旋转架32进行转动，随即带动抛光机构4在航空航天壳体外侧进行转动，同时在调节机构3进行转动的同时，利用调节气缸31伸缩部推动调节架42进行伸长，从而来将抛光轮45贴合在航空航天壳体的外侧，在抛光轮45贴合在航空航天壳体外侧曲面时，抛光座44位于抛光架43内侧的弹簧相对的压缩，从而来调整五个抛光座44的不同伸出长度，进而使得抛光轮45更加贴合在航空航天壳体的外侧曲面上，当抛光轮45完全贴合在航空航天壳体的曲面上时，通过抛光电机41转动部带动抛光架43进行转动，通过抛光架43的高速转动来带动抛光轮45进行转动，从而来对航空航天壳体曲面进行抛光打磨处理；在进行抛光处理时，利用移动电机21转动部带动丝杠22进行反向转动，从而来使得支撑架25向另一侧缓慢的移动，从而来对航空航天外壳进行打磨抛光。
[0045]
实施例2
[0046]
如图2、图4所示，实施例2和实施例1的区别在于，转动机构1包括转动电机11、转动座12、主动齿轮113、从动齿轮114，转动电机11通过螺栓连接在机架6外侧的一端，转动座12通过轴承连接在机架6内侧的一端，主动齿轮113通过键连接在转动电机11转动部，从动齿轮114通过键连接在转动座12一侧，利用转动电机11转动部带动主动齿轮113进行转动，通过主动齿轮113和从动齿轮114的传动来带动转动座12进行转动。
[0047]
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。