技术总结
本发明提供一种薄膜沉积设备及薄膜沉积方法，主要包括一腔体、一进气口、一载台、一冷却气体输入管线、一挡件及一升降装置。载台及挡件位于腔体的容置空间内，而冷却气体输入管线位于载台内，并将冷却气体输送至载台与基板之间。升降装置会驱动载台及挡件相互靠近，使得挡件接触并固定载台上的基板，而后经由冷却气体输入管线将冷却气体输送至容置空间。在进行沉积步骤之前，冷却气体输入管线停止输送冷却气体，升降装置驱动载台及挡件相互远离，而后进行沉积步骤，以避免挡件接触基板，而造成基板表面沉积的薄膜的厚度不均。基板表面沉积的薄膜的厚度不均。基板表面沉积的薄膜的厚度不均。
技术研发人员：林俊成
受保护的技术使用者：鑫天虹(厦门)科技有限公司
技术研发日：2020.10.29
技术公布日：2021/3/5