1.一种具有牺牲层的镀腔内壁构件，其特征在于，包括镀腔内壁构件和形成于所述镀腔内壁构件表面的牺牲层，所述牺牲层的材质为zno，所述牺牲层在清洗过程中被去除。
2.根据权利要求1所述的具有牺牲层的镀腔内壁构件，其特征在于，所述牺牲层的表面粗糙度约为5nm～20nm。
3.根据权利要求1所述的具有牺牲层的镀腔内壁构件，其特征在于，所述牺牲层的厚度为100nm～250nm。
4.根据权利要求1所述的具有牺牲层的镀腔内壁构件，其特征在于，所述镀腔内壁构件的材质为铝、铝合金、钛或不锈钢。
5.一种具有牺牲层的镀腔内壁构件的制备方法，其特征在于，包括以下过程：
提供镀腔内壁构件；
在所述镀腔内壁构件的表面形成牺牲层，所述牺牲层的材质为zno，所述牺牲层在清洗过程中被去除。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，采用射频磁控溅射法形成所述牺牲层。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述射频磁控溅射法中，先采用100w～150w的低功率溅射形成覆盖所述镀腔内壁构件表面的至少一层所述牺牲层，然后采用200w～250w的高功率溅射。
8.一种如权1～4任意一项所述的具有牺牲层的镀腔内壁构件的清洗方法，其特征在于，对被杂质层污染后的所述具有牺牲层的镀腔内壁构件用酸清洗剂进行清洗，所述清洗过程中，所述杂质层和所述牺牲层均被去除，得到清洗后的镀腔内壁构件。
9.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述酸清洗剂中h+的浓度为0.2mol/l～0.3mol/l。
10.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述酸清洗剂为稀盐酸、稀硫酸和稀硝酸中的一种或两种以上组合。