一种偏心式多工位抛光机的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种偏心式多工位抛光机，包括机架、设在机架上的抛光盘、工件盘、工位盘和加压系统；所述抛光盘置于机架上端；所述工位盘上设有按圆周分布的若干所述工件盘；设有工件盘的工位盘至少为两个，它们置于所述抛光盘的下方且相对于抛光盘的中心线偏心对称分布，使得工位盘上的部分工件盘被所述抛光盘覆盖；所述加压系统通过气缸驱动所述抛光盘升降施压于工件盘上的工件。本发明采用一个抛光盘对应多个偏心的工位盘结构，在抛光工作时，抛光盘覆盖每个工位盘的部分工件盘，没有被覆盖的工件盘可用于下料和上料的周转，可以实现不停机的情况下连续抛光的目的。本发明可以大幅度提高设备的利用率和生产产能。
【专利说明】
一种偏心式多工位抛光机
技术领域
[0001]本发明属于研磨抛光设备，特别是涉及一种偏心式多工位抛光机。
技术背景
[0002]目前，研磨抛光机的工作原理均为上下研磨抛光盘同轴心式结构，工件盘5安装在工位盘6上，或者采用多个上抛光盘2与多个工件盘5—一对应，如图1、图2所示，或者采用一个上抛光盘2与多个工件盘5对应，如图3、图4所示。工作时，上抛光盘2在加压气缸3的作用下，压紧工件盘5上的工件，工件盘5与上抛光盘2以反向旋转运动实现抛光，可以看出，由于上抛光盘2全部覆盖在工件盘5上，工件的上、下料只能等待抛光结束后停机进行。此种结构沿用至今，受其结构的限制，当抛光节拍循环时，每次需停机等待工件盘5上的工件下料、上料(每次上、下料时间约5分钟)，设备的利用率极其低下，生产产能无法提升。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于提供一种可以在不停机的情况下连续抛光的偏心式多工位抛光机。
[0004]实现本发明目的采用的技术方案如下:
本发明提供的一种偏心式多工位抛光机，包括机架、设在机架上的抛光盘、工件盘、工位盘和加压系统;所述抛光盘置于机架上端;所述工位盘上设有按圆周分布的若干所述工件盘;设有工件盘的工位盘至少为两个，它们置于所述抛光盘的下方且相对于抛光盘的中心线偏心对称分布，使得工位盘上的部分工件盘被所述抛光盘覆盖;所述加压系统通过气缸驱动所述抛光盘升降施压于工件盘上的工件。
[0005]所述工件盘的旋转由回转主轴连接伺服电机。
[0006]有益效果
本发明米用一个抛光盘对应多个偏心的工位盘结构，在抛光工作时，抛光盘覆盖每个工位盘的部分工件盘，没有被覆盖的工件盘可用于下料和上料的周转，既能满足人工上、下料，也能满足自动化上、下料，因此，可以实现不停机的情况下连续抛光的目的。本发明可以大幅度提尚设备的利用率和生广广能。
[0007]下面结合附图进一步说明本发明的技术方案。
【附图说明】
[0008]图1、图3分别是现有抛光机的结构示意图。
[0009]图2、图4分别是图1、图3的俯视图。
[0010]图5是本发明的结构图示意图。
[0011]图6是图5的俯视图。
【具体实施方式】
[0012]见图5、图6，本发明提供的偏心式多工位抛光机，包括机架4、设在机架上的抛光盘
2、工件盘5、工位盘6、7和加压系统3;所述抛光盘2置于机架上端;所述工位盘6、7上均设有按圆周分布的若干所述工件盘5;设有工件盘5的两个工位盘6、7置于所述抛光盘2的下方且相对于抛光盘2的中心线偏心对称分布，使得工位盘6、7上的部分工件盘5被所述抛光盘2覆盖;所述加压系统3通过气缸驱动所述抛光盘2升降施压于工件盘5上的工件，所述工件盘5的旋转由回转主轴连接伺服电机。
[0013]抛光作业时，抛光盘2通过加压系统3下降后覆盖于工位盘6和工位盘7上的多个安装有工件8的工件盘5(虚线)，抛光盘2和工件盘5的相反旋转运动实现抛光；同时，抛光盘2覆盖范围之外的工位盘6和工位盘7上分别有用于下料或上料的周转工件盘5;节拍循环时，抛光盘2通过加压系统3升起，工位盘6和工位盘7快速公转，将已经抛光的载有工件8的工件盘5和载有工件待抛光的工件盘5进行不停机快速切换，实现不停机连续抛光。
【主权项】
1.一种偏心式多工位抛光机，包括机架、设在机架上的抛光盘、工件盘、工位盘和加压系统；其特征是所述抛光盘置于机架上端;所述工位盘上设有按圆周分布的若干所述工件盘;设有工件盘的工位盘至少为两个，它们置于所述抛光盘的下方且相对于抛光盘的中心线偏心对称分布，使得工位盘上的部分工件盘被所述抛光盘覆盖;所述加压系统通过气缸驱动所述抛光盘升降施压于工件盘上的工件。2.根据权利要求1所述的偏心式多工位抛光机，其特征是所述工件盘的旋转由回转主轴连接伺服电机。
【文档编号】B24B41/02GK105945721SQ201610470056
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年6月26日
【发明人】许亮, 唐湘平, 尹荆州
【申请人】宇环数控机床股份有限公司