时，可实现 8通道化学镀膜同时进行），各杯座321相对于纵向螺杆31中心对称，确保转盘32的平衡 度、以及稳定性，便于人们对杯架3的整体安装、整体调节、整体取下以及整体移动。
[0043] 本实施例的样品杯4由惰性材料制成，该惰性材料与溶液不发生反应。譬如该样 品杯430由PTFE (聚四氟乙烯）（或PFA(氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物）、 PEEK (聚醚醚酮）等惰性材料）制成。
[0044] 作为本实施例的示意，可以但不限于在横臂11上固定一电机12,电机12的转轴 水平伸出，电机12的转轴通过第一螺纹帽13与旋接在纵向螺杆31的第二螺纹帽14配合， 在电机12驱动下，转轴旋转，转轴带动第二螺纹帽14沿纵向螺杆31旋转，以调节纵向螺杆 31升降。使杯架3的升降调节更加人性化，省时省力，易于操作。
[0045] 由上可见，应用本实施例技术方案，在进行化学镀膜实验时，可以分别在各个样品 杯4的密封下盖43顶部放置镀膜基片5,由于密封下盖43与杯体41底部开口的密封配合 使镀膜基片5的底面密封覆盖在密封下盖43顶部而禁止与溶液接触，只有顶面露出在杯体 41的内腔内与溶液接触，可见利用本实施例技术方案可以方便地实现镀膜基片5的单面镀 膜，且单面镀膜的镀膜基片5安装方便，且采用本实施例技术方案确保镀膜基片5的镀膜面 时刻与溶液完全接触，有利于确保确保镀膜的均匀性。
[0046] 另外，本实施例在进行化学镀膜实验时，可以将多个样品杯4(各样品杯4内均装 有溶液以及镀膜基片5)装在同一个转盘32上，在装好后将转盘32上的纵向螺杆31固定 在托架1的横臂11上，然后调节纵向螺杆31的升降使各样品杯4的下部如图1所示地浸 泡在水槽2的液体中，利用水槽2内的高温液体加热各样品杯4内的溶液，提高各样品杯4 内的化学镀膜反应效率，确保各样品杯4的化学镀膜实验环境的均一性。同时，在实验时， 启动水槽2中的超声波发生器，超声波发生器基于水槽2内的液体以及样品杯4内的溶液 以超声波能量，加剧液体以及溶液的的微观粒子运动，避免溶液在镀膜基片5表面形成液 面镜或者钝化膜而影响化学镀效果，另外，实验证明，由于在化学镀膜过程中溶液的微观粒 子高速运动，溶液在镀膜基片5表面的活跃度大幅度提升，使在镀膜基片5表面形成的镀膜 光滑度大大提升，达到抛光的效果。具体实验结果对比参见实验数据分析所示。
[0047] 在化学镀膜完成后，升起纵向螺杆31，使转盘32如图2所示地离开水槽2位于水 槽2上方，然后将纵向螺杆31从托架1的立柱10上取下即可将多个样品杯4同时取下，实 验操作更加方便、省时省力，应用本实施例仪器可以一次同时进行多组化学镀膜实验，确保 了各组化学镀膜的均一性，有利于提高实验效果，且本实施例仪器操作灵活方便，更加人性 化，应用起来省时省力。
[0048] 作为本实施例的示意，可以在杯体41的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸 棱411，当样品杯4置于杯座321上时杯体41的凸棱411凸出在杯座321的顶部，通过凸棱 411与杯座321的配合，使样品杯4由于重力的作用被垂直悬挂在杯座321内，样品杯4的 大部分悬挂在杯座321的下方，使使样品杯4在转盘32上的放置更加稳固，且不易于翻转， 相对于其他的平台型放置的杯座321结构，采用本实施例技术方案进一步方便实验人员操 作，且样品杯4的固定更加平稳而不易于翻转，其实验效果更加稳定。
[0049] 作为本实施例的示意，在本实施例的杯体41的底部设置有一向杯体41的内腔凹 进的凹位，在凹位的中心设置有与杯体41的内腔连通的通孔412,通孔412的宽度小于凹位 的宽度。相应地，在密封下盖43的顶面设置一向下凹进的凹台431，将安装镀膜基片5时， 具体将镀膜基片5密封覆盖在该凹台431的顶面内，然后将密封下盖43的上部塞入杯体41 底部的凹位内，使密封下盖43进入杯体41凹位内的外壁与杯体41的凹位的内壁面对面密 封接触，而在密封下盖43顶部的镀膜基片5杯密封紧固在通孔412的底部与密封下盖43 之间，此时即禁止镀膜基片5的底面与溶液接触，实现镀膜基片5的单面镀膜，采用本实施 例的镀膜基片5安装结构，结构简单，便于实验安装。
[0050] 作为本实施例的示意，本实施例的密封下盖43,特别是密封下盖43的顶部采用弹 性惰性材料制成，在进行密封下盖43安装时，使得密封下盖43与杯体41底面的接触处于 略微弹性挤压状态，更有利于确保杯体41底部的密封性以及镀膜基片5的底面密封性禁止 接触溶液。
[0051] 其中，本实施例的惰性材料为与样品杯4杯内的溶液不发生反应的物质。譬如该 样品杯430由PTFE(聚四氟乙烯）或PFA(氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物）、 PEEK (聚醚醚酮）等惰性材料制成。
[0052] 作为本实施例的示意，本实施例可以但不限于使设置在密封下盖43顶部的凹台 431的宽度沿由下往上方向逐渐变宽，这样即使各镀膜基片5的尺寸与凹台431的尺寸略微 有偏差，均可确保镀膜基片5完全装在在该顶部的凹台431内，且与凹台431的边缘配合紧 密，确保单面镀膜的进行，提高本实施例仪器的应用灵活性。
[0053] 作为本实施例的示意，优选将密封下盖43顶部的凹台431的内沿呈设计为圆弧 状，即使其凸起呈圆弧状的凸起边缘，进一步提高密封下盖43顶部与杯体41底部的配合紧 密型，确保单面镀膜效果。
[0054] 作为本实施例的示意，还可以在各样品杯4中还分别设置有搅拌部件6,该搅拌部 件6位于密封下盖43的上方，可在样品杯4内运动，在进行化学镀膜时，搅拌部件6运动而 搅拌样品杯4内的溶液，避免溶液在镀膜基片5顶部静止过久而在镀膜基片5的顶部形成 的液面镜或者钝化膜而影响镀膜效率以及镀膜效果，采用该搅拌部件6有利于提高化学镀 膜效率以及提高化学镀膜效果，提高在镀膜基片5顶面形成的镀膜的均匀性。
[0055] 作为本实施例的示意，本实施例的搅拌部件6为磁性搅拌部件6,相应地，在转盘 32的下方（譬如可以安装在水槽2的底部）安装有磁性物质7,使磁性物质7与磁性搅拌 部件6发生相对运动时，通过磁性作用力而使样品杯4内的磁性搅拌部件6在样品杯4内 运动，搅拌溶液。
[0056] 作为本实施例的示意，可以但不限于采用电机12驱动转盘32,使得转盘32可沿 纵向螺杆31水平旋转，相应地在水槽2内固定一个或者多个磁性物质7,在转盘32旋转过 程中，对任一样品杯4而言，每当该样品杯4经过一磁性物质7,在该磁性物质7对样品杯4 内的磁性搅拌部件6的作用力下，该磁性搅拌部件6在样品杯4内运动，搅拌溶液。其中固 定的磁性物质7在转盘32的旋转轨迹上，位于样品杯4下方。
[0057] 作为本实施例的示意，也可以使转盘32静止不动，在水槽2的底部设置一个或者 多个搅拌机（记为第一搅拌机，图中未画出），在各第一搅拌机的转臂上分别固定有磁性物 质（图中未画出），启动第一搅拌机使转臂带动磁性物质水平旋转，磁性物质主动带动样品 杯4内的磁性搅拌部件6跟随运动，搅拌溶液。其中各第一搅拌机分别设置在各样品杯4 的下方，可以在每一样品杯4的下方设置一该第一搅拌机。
[0058] 需要说明的是，该第一搅拌机的运动既可以带动磁性物质从而带动样品杯4内的 磁性搅拌部件6运动外，还搅拌水槽2内的水，提高水槽2各处水的温度均一性，确保转盘 32上各样品杯4的实验均一性。
[0059] 作为本实施例的示意，本实施例的磁性搅拌部件6可以为悬挂在样品杯4的上盖 42下方的磁性吊球。具体第，可以在上盖42上设置有一通孔412,在通孔412内贯穿有一 吊绳8,在吊绳8位于杯体41内腔的底端连接一吊球，在吊绳8位于上盖42顶部的的顶部 固定一悬挂块，该悬挂块的体积大于该通孔412而覆盖在上盖42的顶部。采用上述结构即 可实现磁性吊球的安装，且在调节时，可以通过升降悬挂块而调节磁性吊球在样品杯4内 的高度，调节方便，易于随时操作。
[0060] 作为本实施例的示意，本实施力的磁性搅拌部件6还可以为一自由平放在样品杯 4内腔的磁性搅拌珠（图中未画出），该磁性搅拌珠的水平直径大于镀膜基片5上方的通孔 412的口径，而只能在通孔412上方运动而不能与镀膜基片5的顶面接触。
[0061] 作为本实施例的示意，不管是否设置上述的第一搅拌机，还可以在水槽2内放置 一用于搅拌水槽2内的水的搅拌机（记为第二搅拌机），在电机的驱动下，第二搅拌机运动， 搅拌水槽2内的水，使各处水的温度均匀，提高转盘32上各样品杯4的实验均一性。
[0062] 作为本实施例的示意，本实施例用于驱动第一搅拌机、第二搅拌机的电机优选为 变向电机，从而使实现变向搅拌，提高搅拌的强度，进一步避免在镀膜基片5表面形成镜面