1的下表面21a即可，因而该气道210可为倾斜路径或弯曲路径，并无特别限制。
[0059]另外，该欲抛光件9直接固定于该固定装置21上，且其种类繁多，如晶圆、玻璃等，并无特别限制。
[0060]所述的抛光装置22设于该机台本体20的第二侧20b上并位于该容置空间S中，使该欲抛光件9位于该抛光装置22与该固定装置21之间。
[0061]于进行抛光作业时，一并参考图2C，先将该欲抛光件9吸附(如图所示的吸力B)于该固定装置21的下表面21a上，使该欲抛光件9固定于该固定装置21上，且该固定装置21与该抛光装置22之间具有间隙t，之后以该抛光装置22配合浆液(如图2C所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的外露表面9a，此时该气道210会提供一向下气流D朝该端口210a排出而形成阻挡力，以阻挡浆液渗入该固定区A。
[0062]因此，本实用新型通过该气道210的设计，可提供足够的气墙式阻挡力，以避免该浆液渗入该固定区A，且可避免该浆液受该固定装置21的吸力B吸引，故可确保该固定装置21的吸附能力，且能避免浆液破坏该固定装置21或该机台本体20的内部构件。
[0063]图3为本实用新型的抛光设备3的第二实施例的剖面示意图。本实施例与第一实施例的差异在于固定装置的变化及新增元件，故相同结构可参考上述及其相关标号，因而不再赘述相同处。
[0064]如图3所示，该固定装置31包含相邻接的一作用部311及一延伸部312，且该抛光设备3还包括一承载装置33，其结合于该固定装置31上并位于该固定装置31与该抛光装置22之间的容置空间S中。
[0065]所述的作用部311相对该延伸部312朝该第二侧20b的方向凸出。
[0066]于本实施例中，该作用部311为盘体(可参考图4B)，其为真空式吸附结构，例如具有多个孔道，使该固定装置31成为吸附装置，但不限于上述。于其它实施例中，该固定装置31也可为粘贴装置或卡固装置等，故该固定装置31的种类繁多，并不限于上述。
[0067]所述的延伸部312为卡制该作用部311的环体(可参考图4B)，以环绕该作用部311，且该延伸部312设有多个气道310。
[0068]于本实施例中，该气道310于该固定装置31 (即该延伸部312)的下表面31a形成流体出口，且该气道310可为直立路径、倾斜路径或弯曲路径，并无特别限制。
[0069]所述的承载装置33包含一承载部330、及一设于该承载部330上的支撑部331。
[0070]于本实施例中，该承载部330为具粘性的贴膜，其用以粘结承载该欲抛光件9，但应可理解地，用以承载该欲抛光件9的结构种类繁多，故该承载部330不限于上述。
[0071]此外，该支撑部331为金属环体(如铁环)，其与该延伸部312 (或该气道310)之间具有间隙t。
[0072]又，于其它实施例中，该延伸部312可为磁力式吸附结构，以吸附该支撑部331。如图4A及图4B所示，该延伸部312具有多个相互间隔的磁性件41，且该气道310可位于该作用部311与该磁性件41之间。具体地，该延伸部312具有多个未连通该延伸部312的下表面31a的开孔40，使该磁性件41未露出该延伸部312的下表面31a，但该磁性件41因提供足够磁力，故该磁性件41仍可间隔该延伸部312而悬浮吸引该支撑部331。或者，如图4C所示，该开孔40’也可连通该延伸部312的下表面31a，使该磁性件41露出该延伸部312的下表面31a，以磁浮地或接触地吸附该支撑部331。
[0073]另外，该延伸部312也可为粘贴装置或卡固装置等，但该延伸部312与该支撑部331之间仍会产生间隙t，并不限于上述。
[0074]于进行抛光作业时，先将该欲抛光件9粘贴于该承载部330上，再以该作用部311吸附(如图3所示的吸力B)该承载部330，使该承载装置33固定于该固定装置31的下表面31a上，且该支撑部331与该延伸部312之间会产生间隙t，而该承载部330与该抛光装置22之间也会产生间隙t’。之后以该抛光装置22配合浆液(如图3所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的外露表面9a，此时该气道310会提供一向下气流D，以阻挡浆液渗入该作用部311。
[0075]因此，本实用新型通过该气道310的设计，可提供足够的气墙式阻挡力，以避免该浆液沿该间隙t渗入该作用部311 (如图3所示的流入方向F’)，且可避免该浆液受该作用部311的吸力B吸引，故可确保该固定装置31的吸附能力，且能避免浆液破坏该固定装置31或该机台本体20的内部构件。
[0076]综上所述，本实用新型的抛光设备2、3，通过该气道210、310提供一阻挡力，以当进行抛光作业时，能阻挡浆液渗入该固定装置21、31之内，故能确保该固定装置21、31的吸附能力，且能避免浆液破坏该固定装置21、31或该机台本体20的内部构件，因而能大幅降低更换该固定装置21、31的频率，且大幅降低修复该固定装置21、31与机台本体20的频率，进而能提高该抛光设备2、3的运作可靠性。
[0077]上述实施例仅用以例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何本领域技术人员均可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修改。因此本实用新型的权利保护范围，应如权利要求书所列。
【主权项】
1.一种抛光设备，其特征为，该抛光设备包括: 机台本体，其具有相对的第一侧与第二侧、及于该第一侧与第二侧之间形成的一容置空间； 具有气道的固定装置，其设于该机台本体的第一侧上并位于该容置空间中，且该气道连通该容置空间；以及 抛光装置，其设于该机台本体的第二侧上并位于该容置空间中。2.如权利要求1所述的抛光设备，其特征为，所述固定装置为吸附装置、粘贴装置或卡固装置。3.如权利要求2所述的抛光设备，其特征为，所述吸附装置为真空式吸附装置或磁力式吸附装置。4.如权利要求1所述的抛光设备，其特征为，所述固定装置包含相邻接的作用部及延伸部，该作用部用以固定欲抛光件，且所述气道形成于该延伸部。5.如权利要求4所述的抛光设备，其特征为，所述作用部相对所述延伸部朝所述第二侧的方向凸出。6.如权利要求4所述的抛光设备，其特征为，所述作用部或所述延伸部为吸附结构。7.如权利要求6所述的抛光设备，其特征为，所述作用部为真空式吸附结构。8.如权利要求6所述的抛光设备，其特征为，所述延伸部为磁力式吸附结构。9.如权利要求4所述的抛光设备，其特征为，所述延伸部具有磁性件，且所述气道位于所述作用部与所述磁性件之间。10.如权利要求1所述的抛光设备，其特征为，所述抛光设备还包括用以承载欲抛光件的承载装置，其结合于该固定装置上，且位于所述固定装置与所述抛光装置之间的容置空间中。11.如权利要求10所述的抛光设备，其特征为，所述承载装置与部分所述固定装置之间具有间隙。12.如权利要求10所述的抛光设备，其特征为，所述承载装置包含用以承载欲抛光件的承载部、及设于该承载部上的支撑部。13.如权利要求1所述的抛光设备，其特征为，所述抛光设备还包括供气装置，其连通所述气道，以向所述容置空间提供气流。
【专利摘要】一种抛光设备，包括：具有容置空间的机台本体、设于该容置空间上侧的固定装置、以及设于该容置空间下侧的抛光装置，且该固定装置具有连通该容置空间的气道，以于进行抛光作业时，通过该气道提供一气流阻挡力，而阻挡浆液渗入该固定装置内。相较于现有技术，本实用新型能确保该固定装置的吸附能力，且能避免浆液破坏该固定装置或该机台本体的内部构件，因而能大幅降低更换该固定装置的频率，且大幅降低修复该固定装置与机台本体的频率，进而能提高该抛光设备的运作可靠性。
【IPC分类】B24B41/06, B24B29/02
【公开号】CN204997521
【申请号】CN201520703994
【发明人】陈孟端
【申请人】正恩科技有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年9月11日