一种低温烧结SiO2基微波介质陶瓷材料及其制备方法与流程

文档序号:15570428发布日期:2018-09-29 04:20阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种低温烧结SiO2基微波介质陶瓷材料,由以下质量比组分原料烧结制成:非晶SiO2粉末︰MgF2粉末︰MnCO3粉末=1︰(0.05‑x)︰x,0.015≤x≤0.03,所述低温烧结SiO2基微波介质陶瓷材料的主物相是晶态SiO2。本发明还公开了低温烧结SiO2基微波介质陶瓷材料的制备方法,S1、按比例混合MgF2粉末和MnCO3粉末,并进行加热保温处理得到复合助烧剂粉末;S2、按比例混合复合助烧剂粉末与非晶SiO2粉末进行湿法球磨得到混合物;S3、烘干步骤S2获得的混合物并造粒压制成坯料,将坯料进行烧结得到陶瓷材料。本发明低温烧结SiO2基微波介质陶瓷材料原料来源广泛、制备方法简便,获得的陶瓷材料介电常数低,品质因数高,烧结温度低,可广泛应用于微波基板、导弹天线罩等微波器件的制造。

技术研发人员:王哲飞;余磊;周杰;王大伟;王旭红;殷仕龙;姚霞喜
受保护的技术使用者:常熟理工学院
技术研发日:2018.04.18
技术公布日:2018.09.28
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