玻璃板淬火设备的制作方法

文档序号:26305641发布日期:2021-08-17 13:47阅读:41来源:国知局
玻璃板淬火设备的制作方法

相关申请的交叉引用

本申请要求2019年1月10日提交的美国临时申请第62/790,976号的权益,该申请的公开内容通过引用整体并入本文。

本公开涉及一种用于对玻璃板进行淬火的淬火设备。



背景技术:

成形玻璃板可进行淬火来增强它们的机械性能。这种成形玻璃板可用作车辆的侧窗和后窗,以及诸如建筑应用的其他应用。通过引用整体并入本文的美国专利第8,074,473号公开了示例性的淬火方法和装置。



技术实现要素:

根据本公开,一种用于对玻璃板进行淬火的淬火设备可包括具有上部主淬火头和下部主淬火头的主淬火站、位于主淬火站下游的第一下部副淬火头、位于第一下部副淬火头下游的第二下部副淬火头以及定位在第一下部副淬火头和第二下部副淬火头上方的上部副淬火系统。该淬火设备还可包括位于第二下部副淬火头上方的传送机、用于接收玻璃板的淬火环以及致动器,该致动器被构造为使淬火环定位在主淬火站的上部主淬火头与下部主淬火头之间并且使淬火环移动到第一下部副淬火头上方的位置。主淬火站可操作为在玻璃板被定位在淬火环上并且位于上部主淬火头与下部主淬火头之间时冷却玻璃板。致动器可操作为随后使淬火环移动到第一下部副淬火头上方的位置,从而可以在第一下部副淬火头与上部副淬火系统之间进行对玻璃板的进一步冷却。淬火设备可操作为将玻璃板定位在第二下部副淬火头上方,从而可以在第二下部副淬火头与上部副淬火系统之间进行对玻璃板的进一步冷却。传送机可操作为随后使玻璃板远离第二下部副淬火头移动。此外,第一下部副淬火头、第二下部副淬火头和上部副淬火系统中的至少一个可以基于玻璃板的尺寸或主淬火头的尺寸而朝向和远离主淬火站横向移动,以帮助冷却主淬火站下游的玻璃板。

根据本公开,一种用于在淬火设备中对成形的玻璃板进行淬火的方法可包括使淬火环移动到折弯站中以接收加热且成形的玻璃板、使玻璃板在淬火环上从折弯站移动到主淬火站从而使玻璃板被定位在主淬火站的上部主淬火头与下部主淬火头之间以及供应冷却流体穿过上部主淬火头和下部主淬火头以冷却玻璃板。该方法还可包括使玻璃板在淬火环上移动到第一下部副淬火头与上部副淬火系统之间的位置,其中第一下部副淬火头位于主淬火站的下游,并且供应冷却流体穿过第一下部副淬火头和上部副淬火系统以进一步冷却玻璃板。另外,该方法可包括使玻璃板移动到第二下部副淬火头与上部副淬火系统之间的位置,其中第二下部副淬火头位于第一下部副淬火头的下游,并且供应冷却流体穿过第二下部副淬火头和上部副淬火系统以进一步冷却玻璃板。该方法还可包括通过转移传送机使玻璃板远离第二下部副淬火头移动。此外,第一下部副淬火头、第二下部副淬火头和上部副淬火系统中的至少一个可以基于玻璃板的尺寸或主淬火头的尺寸而朝向和远离主淬火站横向移动,以帮助冷却主淬火站下游的玻璃板。

虽然示出了公开了示例性实施方式,但是这种公开不应认为是对权利要求进行限制。可预想到可在不脱离本公开的范围的情况下做出各种修改和替代设计。

附图说明

图1是玻璃加工系统的示意图,其包括用于加热玻璃板的加热站、用于折弯玻璃板的折弯站以及根据本公开的用于对加热且成形的玻璃板进行淬火的淬火设备,其中该淬火设备包括主淬火站以及在玻璃板的传送方向上位于主淬火站下游的副淬火站,并且其中主淬火站被表示为具有第一尺寸的上部主淬火头和下部主淬火头;

图2是副淬火站的第一下部副淬火头的立体图,其中该第一下部副淬火头包括第一下部副淬火头主体以及定位在第一下部副淬火头主体的相对两侧上的两个翼部;

图3是图2所示的第一下部副淬火头的正视图,其中翼部各自可从实线表示的平面位置移动到虚线表示的升高位置;

图4是淬火设备的流体供应系统的一部分的剖视图,其包括可动伸缩部分;

图5是图1的玻璃加工系统的示意图,但是其中主淬火站包括比第一尺寸更小的第二尺寸的上部主淬火头和下部主淬火头,以用于对传送方向上的尺寸比图1所示的主淬火站所淬火的玻璃板的对应尺寸更小的玻璃板进行淬火,其中副淬火站被表示为朝向折弯站移动,以补偿主淬火头的更小的尺寸;

图6a是玻璃加工系统的示意图,其包括用于加热玻璃板的加热站、用于折弯玻璃板的折弯站以及根据本公开的用于对加热且成形的玻璃板进行淬火的淬火设备的第二实施方式,其中该淬火设备包括主淬火站以及在玻璃板的传送方向上位于主淬火站下游的副淬火站,并且其中主淬火站被表示为具有第一尺寸的上部主淬火头和下部主淬火头;

图6b是图6a所示的玻璃加工系统的放大部分,示出了淬火环和对应的淬火滑梭相对于图6a中所示的这些部件的位置向下游移动;并且

图7是图6a的玻璃加工系统的示意图,但是其中主淬火站包括比第一尺寸更小的第二尺寸的上部主淬火头和下部主淬火头,以用于对传送方向上的尺寸比图6a所示的主淬火站所淬火的玻璃板的对应尺寸更小的玻璃板进行淬火,其中副淬火站被表示为朝向折弯站移动,以补偿主淬火头的更小的尺寸。

具体实施方式

根据需要,本文公开了详细的实施方式;但是,应理解所公开的实施方式仅仅是是理性的,并且可以采用变化的和替代的形式。附图不一定按比例绘制;某些特征可以被放大或缩小以显示出特定部件的细节。因此,本文公开的具体的结构性和功能性细节不应认为是限制,而仅仅是作为用于教导本领域技术人员的代表性基础。

在诸如用于太阳能收集应用的玻璃镜面板、车辆后窗、侧窗或任何其他合适的产品的玻璃板产品的制造期间,可能需要对加热的玻璃板进行淬火来增强机械性能。例如,玻璃板可以经过淬火来提供钢化或强化。在本公开中,提供了用于有效地对玻璃板进行淬火从而改进玻璃加工的方法和装置。

参考图1,示出了用于对玻璃板g进行加工的玻璃加工系统10。系统10包括:用于加热玻璃板g的加热装置或加热站,例如熔炉12;用于将每片玻璃板g成形或折弯成所需形状的成形站或折弯站14;被构造为冷却每片玻璃板g的冷却设备,例如淬火系统或淬火设备16;以及用于控制熔炉12、折弯站14和淬火设备16的操作的控制系统18。

熔炉12可具有用于加热玻璃板g的任何合适的构造。例如,熔炉12可包括任何合适的加热元件20,其定位在可用于在传送方向c上输送玻璃板g穿过熔炉12的传送机22(即,辊式传送机系统)的上方和/或下方。更详细地举例来说,加热元件20可包括诸如电子加热器的辐射加热元件和/或诸如热气体或热空气分配器的对流加热元件。

同样地,折弯站14可具有用于将每片玻璃板g成形或折弯成特定形状的任何合适的构造。例如,折弯站14可具有:传送机(未示出),其可以是独立的传送机系统或传送机22的一部分,以用于接收加热的玻璃板g;以及图1中示意性示出的折弯装置24,其用于折弯玻璃板g。折弯装置24可包括一个或多个合适的模具,例如上部压模和下部外周压环。折弯装置24还可包括一个或多个致动器,以用于在压模与压环彼此对齐时使压模相对于压环垂直移动和/或使压环相对于压模垂直移动。通过这种构造,玻璃板g例如可在上部压模的弯曲表面与压环之间被压弯。在整体通过引用并入本文的美国专利第4,282,026号、第4,661,141号、第7,958,750号、第8,132,428号以及第9,452,948号中公开了示例性成形或折弯站的额外细节。

淬火设备16被构造为从折弯站14中接收每片玻璃板g,并且对每片玻璃板g进行淬火从而例如进行热强化或钢化或者简单地冷却每片玻璃板g。在图1所示的实施方式中,淬火设备16包括主要的或主淬火站26以及在传送方向c上位于主淬火站26下游的副淬火站28。

主淬火站26包括分别安装在淬火头支座34上的下部主淬火头30和上部主淬火头32,淬火头支座可动地附接至支撑结构,从而使主淬火头30、32可在实线表示的闭合位置与虚线部分地表示的打开位置之间移动。例如,主淬火头30、32各自可以连接至用于使主淬火头30、32朝向和远离主淬火头30、32中的另一个移动的致动器35。此外,在所示的实施方式中,主淬火头30、32各自具有与要进行淬火的每片玻璃板g相同的总体形状,并且主淬火头30、32各自具有用于向玻璃板g提供冷却流体的多个出口。

副淬火站28分别包括下部副淬火系统36和上部副淬火系统37。下部副淬火系统36包括在传送方向c上位于主淬火站26下游的第一下部副淬火头38、例如第一下部喷射头,以及在传送方向c上位于第一下部副淬火头38下游的第二下部副淬火头40、例如第二下部喷射头。上部副淬火系统37分别定位在第一下部副淬火头38和第二下部副淬火头40上方,并且上部副淬火系统37被构造为与下部副淬火头38和40协作来进一步冷却每片玻璃板g。在图1所示的实施方式中,上部副淬火系统37包括延伸跨过下部副淬火头38和40的单一的上部副淬火头44,并且副淬火头38、40、44中的每一个都具有用于向每片玻璃板g提供冷却流体的多个出口。此外,副淬火头38、40、44中的每一个都可具有面对要进行淬火的玻璃板g的总体上平面的淬火表面,并且上部副淬火头44可与下部副淬火头38和40间隔开约19至23cm(例如,21.6cm)。作为另一个例子,副淬火头38、40、44中的一个或多个可具有弯曲的淬火表面,其与要进行淬火的玻璃板g的总体形状相同。

参考图2和3,副淬火头38、40、44中的一个或多个可包括用于改变对应的淬火表面的形状的可动翼部。在图2和3所示的实施方式中,第一下部副淬火头38包括第一下部副淬火头主体46和可动翼部48,并且可动翼部48枢转地附接在第一下部副淬火头主体46的相对两侧上并且在传送方向c上延伸。参考图3,每个翼部48都可围绕在传送方向c上延伸的轴线从实线表示的平面位置枢转到虚线表示的升高位置,从而在与传送方向c垂直的方向上改变第一下部副淬火头38的淬火表面的形状。例如,当翼部48各自处于升高位置时,第一下部副淬火头38可具有平面的主要部分和倾斜的侧部。第二下部副淬火头40和/或上部副淬火头44可同样具有类似构造。

参考图1,第一下部副淬火头38、第二下部副淬火头40和上部副淬火系统37(例如,上部副淬火头44)中的至少一个可基于要进行淬火的玻璃板g的尺寸和/或主淬火头30和32的尺寸朝向和远离主淬火站26横向移动,以帮助冷却主淬火站26下游的玻璃板g。在所示的实施方式中,副淬火头38、40和44全都被可动地安装在一个或多个支撑结构上,使得副淬火头38、40和44可朝向和远离主淬火站26移动。例如,下部副淬火头38和40可被牢固地连接在一起并且连接至使下部副淬火头38和40一起地并且相对于支撑结构朝向和远离主淬火站26移动的致动器50。此外,上部副淬火头44可被连接至用于使上部副淬火头44相对于支撑结构朝向和远离主淬火站26移动的致动器52。在另一个实施方式中,可使用一个或多个致动器来使副淬火头38、40和44整体地移动。

淬火设备16还包括一个或多个运动促进系统,例如滑行和承载系统或辊子系统,以用于使第一下部副淬火头38、第二下部副淬火头40和上部副淬火系统37(例如,上部副淬火头44)中的至少一个朝向和远离主淬火站26横向移动。在所示的实施方式中,淬火设备16包括用于下部副淬火头38、40和上部副淬火头44中的每一个的一个或多个辊子系统54,从而能够使副淬火头38、40、44朝向和远离主淬火站26移动。作为一个更具体的例子,每个辊子系统54都可包括:旋转地附接至副淬火头38、40、44的一个或多个辊子56;以及对应的引导件58,例如轨道或导轨,其附接至固定支撑结构60以用于引导辊子56的运动。在另一个实施方式中,每个辊子系统54都可包括附接至支撑结构的一个或多个辊子以及附接至副淬火头38、40、44且可相对于辊子移动的对应引导件。

另外,淬火设备16包括一个或多个流体供应系统,其用于将诸如空气的冷却流体供应至主淬火站26和副淬火站28。在所示的实施方式中,淬火设备16包括用于向主淬火头30、32中的每一个供应冷却流体的主流体供应系统62、用于向下部副淬火头38和40供应冷却流体的下部副流体供应系统64以及用于向上部副淬火头44供应冷却流体的上部副流体供应系统66。

下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66中的至少一个可包括可动部分68,其被构造为调节流体供应系统64、66的构造,以补偿对应的一个或多个副淬火头38、40、44的运动。在所示的实施方式中,下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66各自包括被构造为调节对应的副流体供应系统64、66的长度的可动部分68,以适应下部副淬火头38、40和上部副淬火头44的运动。

每个可动部分68都可具有任何合适的构造,例如是波纹管部分或伸缩部分。在图1所示的实施方式中,下部副流体供应系统64包括波纹管部分70,并且上部副流体供应系统66包括伸缩部分72。在另一个实施方式中,下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66可各自包括波纹管部分70或者伸缩部分72。

在图4中更详细地示出了伸缩部分72的例子。在该实施方式中,伸缩部分72包括连接至特定的副流体供应系统64、66的第一部分76(例如,第一管道部分)的覆盖部分74,并且该覆盖部分74被构造为覆盖副流体供应系统64、66的、具有比副流体供应系统64、66的第一部分76更小的尺寸(例如,直径或周长)的第二部分78(例如,第二管道部分)。伸缩部分72还包括附接至覆盖部分74的气动密封件80。气动密封件80连接至流体供应源(未示出),该流体供应源可操作为在副流体供应系统64、66的第一部分76和第二部分78分别相对于彼此处于所需位置时使气动密封件80膨胀,并且为了允许部分76、78中的一个相对于部分76、78中的另一个移动而使气动密封件80收缩,以调节副流体供应系统64、66的长度。在所示的实施方式中,副流体供应系统64、66的第二部分78被伸缩地容纳在副流体供应系统64、66的第一部分76中。

回到图1,淬火设备16还可包括一个或多个运动促进系统,例如滑行和承载系统或辊子系统,以帮助副流体供应系统64、66的运动。在所示的实施方式中,淬火设备16包括用于下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66中的每一个的辊子系统84,以实现副流体供应系统64、66的运动。作为一个更具体的例子,每个辊子系统84都可包括:旋转地附接至特定的副流体供应系统64、66的一个部分(例如,管道部分)的一个或多个辊子86;以及一个或多个对应的引导件88,例如轨道,其附接至固定支撑结构90以用于引导辊子86的运动。在另一个实施方式中,每个辊子系统84都可包括附接至支撑结构的一个或多个辊子以及附接至特定的副流体供应系统64、66的一个部分(例如,管道部分)且可相对于辊子移动的对应引导件。此外,副流体供应系统64、66中的每一个的一部分可被构造为基于对应的副淬火头38、40、44的运动而移动。在另一个实施方式中,淬火设备16可包括一个或多个另外的致动器,其被构造为使副流体供应系统64、66中的每一个的一个部分相对于副流体供应系统64、66的另一个部分移动。

淬火设备16还包括用于在折弯站14处接收玻璃板g的淬火环92,以及连接至或关联至淬火环92并被构造为使淬火环92在折弯站14、主淬火站26和副淬火站28之间移动的致动器94。例如,致动器94可连接至支撑淬火环92的淬火环滑梭,并且致动器94可操作为将淬火环92定位在折弯装置24的压模下方(虚线位置)以在折弯操作之后接收玻璃板g。致动器94可随后使淬火环92与支撑在其上的玻璃板g一起移动穿过折弯站14的壁部中的开口(其在图1中被表示为被门95盖住)并且移动到主淬火站26的下部主淬火头30与上部主淬火头32之间的位置来启动淬火操作。接下来,致动器94可使淬火环92与支撑在其上的玻璃板g一起移动到第一下部副淬火头38上方的位置(以虚线表示),从而可以在第一下部副淬火头38与上部副淬火系统37(例如,上部副淬火头44)之间进行玻璃板g的进一步冷却。

另外,淬火设备16包括定位在上部副淬火头44与第一下部副淬火头38和第二下部副淬火头40之间的上部传送机96以及位于第二下部副淬火头40上方的下部传送机97。上部传送机96被构造为如下面详细描述的那样使玻璃板g从第一下部副淬火头38上方的位置移动到第二下部副淬火头40上方的位置,从而可以在第二下部副淬火头40与上部副淬火头44之间进行玻璃板g的进一步冷却。下部传送机97可操作为随后使玻璃板g远离第二下部副淬火头40移动以进行进一步的冷却,或者使得玻璃板g可以从下部传送机97上卸下从而例如进行储存或进一步的加工。

在所示的实施方式中,上部传送机96是有孔的皮带传送机,其被构造为使玻璃板g在传送方向c上移动,并且上部传送机96附接至上部副淬火系统37(例如,上部副淬火头44)或由其支撑。此外,下部传送机97是辊子传送机,其被构造为使玻璃板g在与传送方向c垂直的方向上移动(例如,在图1所示的实施方式中移入或移出纸面),并且下部传送机97附接至第二下部副淬火头40或由其支撑。在另一个实施方式中,上部传送机96和下部传送机97各自可以是任何合适的传送机系统(例如,辊子传送机或皮带传送机)。此外,下部传送机97可被构造为使玻璃板g在任何合适的方向上移动(例如,在与传送方向c平行的方向上)。

下部副淬火系统36和上部副淬火系统37可以各自包括相应的副淬火头以及所有的关联部件。例如,下部副淬火系统36可包括下部副淬火头38和40、辊子系统54、下部副流体供应系统64、关联的辊子系统84以及下部传送机97。同样地,上部副淬火系统37可包括上部副淬火头44、关联的辊子系统54、上部副流体供应系统66、关联的辊子系统84以及上部传送机96。

上文所述的控制系统18可包括成捆的连接件,以用于与玻璃加工系统10的多个部件进行连接,例如熔炉12(例如,加热元件20和传送机22)、折弯站14(例如,折弯装置24以及关联的致动器和滑梭)以及淬火设备16(例如,致动器35、50、52和94、流体供应系统62、64和66、传送机96和97等等)。此外,控制系统18可包括用于控制上述部件的操作的任何合适的硬件和/或软件,以执行每片玻璃板g的压制成形和淬火(例如,执行本文所述的功能所代表的特定算法)。例如,控制系统18可包括一个或多个处理器,其与包含有可通过一个或多个处理器来执行的计算机可读程序指令的一个或多个存储装置或存储器单元通信,使得控制系统18可控制熔炉12、折弯站14、淬火设备16等等的操作。控制系统18可以另外地或替代地包括一个或多个专用集成电路、可编程门阵列、可编程逻辑器件和/或数字信号处理器。代替连接件,控制系统18可替代地无线连接至一个或多个上述部件。

现在将更详细地描述玻璃加工系统10的操作。首先,基于要在淬火设备16中进行淬火的每片玻璃板g的尺寸(例如,每片玻璃板g在传送方向c上的高度或尺寸),相应尺寸的下部主淬火头30和上部主淬火头32可以分别被选择和安装在图1所示的主淬火站26的支座34上。在这方面,主淬火头30、32可以各自具有与要进行淬火的每片玻璃板g的尺寸和形状匹配的特定的尺寸和形状。

在安装主淬火头30、32期间,副淬火站28可远离主淬火站26移动。在主淬火头30和32已被安装在支座34上之后,副淬火站28可朝向主淬火站26移动,使得第一下部副淬火头38和上部副淬火头44分别被定位在下部主淬火头30和上部主淬火头32附近(例如,距离相应的主淬火头30、32约5至7.5cm)。例如,下部副淬火头38和40以及上部副淬火头44可使用致动器50和52以及辊子系统54朝向或远离主淬火站26移动。如上所述,流体供应系统64、66还可被构造为帮助这种运动。例如,流体供应系统64、66各自的可动部分70、72可允许流体供应系统64、66基于关联的副淬火头38、40、44的运动来调节长度,并且辊子系统84可帮助特定的流体供应系统64、66的一个部分相对于流体供应系统64、66的另一个部分进行移动。

加工玻璃板g可包括按序地将玻璃板g装载在熔炉12的传送机22上,并且随着玻璃板g在传送方向c上被输送穿过熔炉12而对它们进行加热。接下来,相应的玻璃板g可被转移到折弯站14,它们在此处可通过闭合折弯装置24而被压制或成形为所需形状。当折弯装置24随后打开时(例如,上部压模和下部压环远离彼此移动),玻璃板g可例如通过施加于上部压模的真空而被保持在上部压模上。淬火环92可随后在上部压模与下部压环之间移动(参见淬火环92的虚线部分),并且可以减少真空来允许玻璃板g从上部压模转移到淬火环92上。

接下来,淬火环92可通过致动器94被移动到主淬火头30与32之间的位置,并且主淬火头30和32可朝向彼此移动,使得主淬火头30、32各自被定位为距玻璃板g约40至60mm(例如,50mm),从而执行主淬火操作。例如,如果玻璃板g在离开折弯站14之后具有3.8mm的厚度以及643℃的初始温度,则可以通过对应的主流体供应系统62向主淬火头30、32中的每一个供应温度范围为26至45℃的空气(例如,环境工厂空气)以及范围为25至30英寸水柱(iwc)的初始压力,使得主淬火头30和32可在约0.5至1秒(例如,月0.75秒)内使空气指向玻璃板g,从而对玻璃板g进行初始冷却。初始空气压力可被选择为保持范围约为14至20mpa的临时玻璃板表面张力,因为超过必要的空气压力会由于玻璃板g中较高的玻璃破碎率和可能更明显的应力斑而不利地影响淬火设备16的性能。这种初始冷却可称为第一淬火阶段。

接下来,可以在2至2.75秒(例如,2.2至2.5秒)内将主淬火头30和32中以及从其中离开的空气压力增大20%至100%(例如,50%至100%),以增大玻璃板g的冷却速率,从而在不会由于玻璃板g中较高的玻璃破碎率和可能更明显的应力斑而不利地影响淬火设备16的性能的情况下减少淬火时间。例如,如果玻璃板g具有3.8mm的厚度,则离开主淬火头30和32时的空气压力可被增大至范围为40至60iwc的压力。主淬火站26中的这种进一步的冷却可称为第二淬火阶段。

主淬火头30和32可随后移动到打开位置,并且将玻璃板g支撑在其上的淬火环92可转移到第一下部副淬火头38与上部副淬火头44之间的位置(以虚线表示),从而可以在第一下部副淬火头38与上部副淬火系统37之间进行玻璃板g的进一步冷却。例如,玻璃板g可如下面详细描述的那样冷却2.4至3.4秒,使得玻璃板g在无干扰的情况下连续地进行冷却。

接下来,淬火设备16可操作为将玻璃板g定位在副淬火站28的第二下部副淬火头40上方,从而可以在第二下部副淬火头40与上部副淬火系统37之间进行玻璃板g的进一步冷却。例如,玻璃板g可如下面详细描述的那样在第二下部副淬火头40与上部副淬火头44之间冷却2.7至7.3秒,使得玻璃板g达到400℃以下的温度。

在图1所示的实施方式中,下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66被构造为进行协作来在淬火环92定位在第一下部副淬火头38上方时帮助将玻璃板g从淬火环92转移到上部传送机96,使得上部传送机96可以随后操作为使玻璃板g移动到第二下部副淬火头40与上部副淬火头44之间的位置以进行进一步冷却。下部副流体供应系统64和上部副流体供应系统66还被构造为进行协作来在玻璃板g已经移动到第二下部副淬火头40上方的位置之后帮助将玻璃板g从上部传送机96转移到下部传送机97,使得下部传送机97可随后使玻璃板g远离第二下部副淬火头40移动以进行进一步冷却,或者使得玻璃板g可以从下部传送机97上卸下从而进行储存或进一步的加工。

作为一个更具体的例子,通过上部副流体供应系统66供应给上部副淬火头44的流体的压力可以保持恒定。例如,上部副淬火头44中的流体压力可以在5至7iwc的范围内,例如6iwc。然而,下部副流体供应系统64例如可使用阻尼器98将下部副淬火头38和40中的流体压力控制为不同的压力。在所示的实施方式中,下部副流体供应系统64包括分别连接至第一下部副淬火头38和第二下部副淬火头40的第一流体供应部和第二流体供应部,并且每个流体供应部都包括用于针对相应的下部副淬火头30、40来改变流体压力的一个或多个阻尼器98。在这方面,下部副流体供应系统64中的流体压力例如可以在20至35iwc(例如,26至30iwc)的范围内,但是阻尼器98可被控制到不同的打开位置或闭合位置来调节或改变下部副淬火头38和40中的压力。在一个实施方式中,例如,第一下部副淬火头38中的流体压力可以从4iwc改变到35iwc(例如,6iwc到30iwc),并且第二下部副淬火头40中的流体压力可以从0iwc改变到35iwc(例如,0iwc到30iwc)。当淬火环92上的玻璃板g被转位到第一下部副淬火头38上方的位置时,上部副淬火头44中以及从其中离开的压力可以为5至7iwc(例如,6iwc),并且第一下部副淬火头38中以及从其中离开的压力也可以为5至7iwc(例如,6iwc),使得玻璃板g将会保持在淬火环92上。在玻璃板g完全定位在第一下部副淬火头38上方时,第一下部副淬火头38中以及从其中离开的压力随后可以例如增大到26至30iwc,使得玻璃板g可从淬火环92上被抬到上部传送机96上,以允许淬火环92返回到折弯站14来接取下一片玻璃板。这种压力差足以将玻璃板g抬到上部传送机96上并且连续地冷却玻璃板g的顶表面和底表面。玻璃板g可在第一下部副淬火头38上方的位置处保持3.2秒,以允许下游的玻璃板(如果有的话)从上部传送机96转移到下部传送机97并且从第二下部副淬火头40上方移走。例如,第二下部副淬火头40中以及从其中离开的流体压力随后可以升高到26至30iwc,使得上部传送机96可将玻璃板g转移到第二下部副淬火头40上方的位置,从而在第二下部副淬火头40与上部副淬火头44之间进行进一步冷却。一旦玻璃板g从第一下部副淬火头38处移走,第一下部副淬火头38中以及从其中离开的流体压力就可减小到5至7iwc(例如,6iwc),以接收进入副淬火站28的下一片玻璃板。此外,一旦玻璃板g已经在第二下部副淬火头40与上部副淬火头44之间进行了充分的冷却,第二下部副淬火头40中以及从其中离开的流体压力就可被减小(例如,减小到或接近0iwc),从而将玻璃板g从上部传送机96转移到下部传送机97,使得下部传送机97可将玻璃板g从第二下部副淬火头40处移走。

副淬火站28中的所有的进一步冷却都可称为第三淬火阶段。此外,副流体供应系统64、66各自供应的流体(例如,空气)可以是环境温度的或经过温度调节的流体。例如,副流体供应系统64、66各自可供应温度范围为26至45℃的空气。另外,下部副流体供应系统64可包括用于向下部副淬火头38和40提供不同的流体压力的任何合适的装置。例如,下部副流体供应系统64可针对下部副淬火头38、40中的每一个包括单独的流体供应源。

参考图5,在需要对尺寸比图1所示的玻璃板g更小(例如,在传送方向c上具有更小的高度或尺寸)的玻璃板g’进行处理的情况下,主淬火站26可分别设置有下部主淬火头130和上部主淬火头132,它们的尺寸针对玻璃板g’适当地设置。为了替换主淬火头,副淬火头38、40和44可首先远离淬火站26移动。在已经将主淬火头130和132安装在支座34上之后,副淬火站28可朝向主淬火站26移动,使得第一下部副淬火头38和上部副淬火头44分别定位在下部主淬火头130和上部主淬火头132附近(例如,距离相应的主淬火头130、132约5至7.5cm)。

如图5所示,还可使用更小的淬火环192来在折弯站14、主淬火站26和副淬火站28之间输送玻璃板g’。随后可以通过与上面针对图1所述的类似的方式来进行玻璃加工系统10的操作。

通过根据本公开的淬火设备16,可以在不考虑主淬火站26中使用的主淬火头的尺寸的情况下在主淬火站26与副淬火站28之间保持恒定的间隔。因此,可以在不考虑要进行淬火的玻璃板的尺寸并且在玻璃板在主淬火站26与副淬火站28之间进行输送时不会经受升高的玻璃温度的情况下充分且有效地进行淬火操作。因此,可以在淬火站26和28中以及它们之间进行玻璃板的连续冷却,从而可以实现改进的回火(例如,可以实现足够的颗粒计数测试结果)。此外,通过使回火程序可以在主淬火站26中开始并且在副淬火站28中结束的上述构造,在淬火站26和28中进行连续冷却并且不干扰淬火站26与28之间的冷却的情况下,与常规淬火时间相比可以减少实现完全回火所需的淬火时间。例如,用于特定玻璃板的回火程序可以从12秒缩短至10秒。

图6a和6b示出了根据本公开的玻璃加工系统的第二实施方式10’。玻璃加工系统10’包括:加热站,例如可以与上述熔炉12相同或相似的熔炉12’;折弯站14’,其可以与上述折弯站14相同或相似;根据本公开的第二实施方式的淬火设备16’;以及控制系统18’,其可以与上述控制系统18相同或相似,用于控制熔炉12’、折弯站14’和淬火设备16’的操作。

淬火设备16’包括主要的或主淬火站26’以及在传送方向c上位于主淬火站26’下游的副淬火站28’。主淬火站26’与上面针对淬火设备16所述的主淬火站26相同或相似,并且相似的部件用相似的附图标记表示,但是这些相似的附图标记在图6a和6b中各自包括单引号。

副淬火站28’分别包括下部副淬火系统36’和上部副淬火系统37’。下部副淬火系统36’可以与上面针对淬火设备16所述的下部副淬火系统36相同或相似,并且相似的部件用相似的附图标记表示,但是这些相似的附图标记在图6a和6b中各自包括单引号。但是,在图6a所示的实施方式中,下部副流体供应系统64’包括被构造为伸缩部分72’而不是图1所示的波纹管部分70的可动部分。

上部副淬火系统37’包括一些与上部副淬火系统37相似的部件,并且这些相似的部件在图6a和图6b中具有各自包括单引号的相同附图标记。在图6a和6b所示的实施方式中,上部副淬火系统37’分别包括第一上部副淬火头100和第二上部副淬火头102,它们可被牢固地连接在一起,使得它们可一起通过致动器52’进行移动。第一上部副淬火头100和第二上部副淬火头102可以分别与第一下部副淬火头38’和第二下部副淬火头40’间隔开约9至20cm(例如,17cm)。此外,上部副淬火系统37’包括如下面详细描述的那样的定位在上部副淬火头100、102中的每一个与对应的下部副淬火头38’、40’之间的一个或多个上部支撑构件104,例如支撑管或支撑杆,以用于接收玻璃板g。例如,多个上部支撑构件104可以附接至上部副淬火头100、102中的每一个,使得上部支撑构件104在上部副淬火头100、102的对应的淬火表面下方延伸。

上部副淬火系统37’还具有用于向上部副淬火头100、102供应流体的上部副流体供应系统106。与下部副流体供应系统64’类似,上部副流体供应系统106可使用阻尼器108或任何其他合适的装置将上部副淬火头100、102中的流体压力控制为不同的压力。在所示的实施方式中,上部副流体供应系统106包括分别连接至第一上部副淬火头100和第二上部副淬火头102的第一流体供应部和第二流体供应部,并且每个流体供应部都包括用于针对相应的上部副淬火头100、102来改变流体压力的一个或多个阻尼器108。

淬火设备16’还包括安装在与致动器94’连接的淬火滑梭93’上的淬火环92’。在图6a和6b所示的实施方式中,淬火滑梭93’包括如下面详细描述的那样的一个或多个下部支撑构件110,例如支撑管或支撑杆,其附接至滑梭93’的位于淬火环92’下游的部分,以用于接收玻璃板g。

现在将参考图6a和6b来更详细地描述玻璃加工系统10’的操作。玻璃板g可以首先通过与上面针对玻璃加工系统10所述的类似的方式进行加工。当在主淬火站26’中在玻璃板g上执行了主淬火操作之后,第一玻璃板g可通过淬火环92’被转移到第一下部副淬火头38’上方的位置以进行进一步冷却,如图6b所示。第一玻璃板g可以随后从淬火环92’上被向上吹动或抬到第一上部副淬火头100上的上部支撑构件104上。接下来,淬火环92’可返回到折弯站14’来接收第二玻璃板。在第二玻璃板在淬火环92’上移动到主淬火头30’与32’之间的淬火位置之后,第一玻璃板g可以被吹落或降低到淬火滑梭93’上的下部支撑构件110上。随后,随着淬火环92’将第二玻璃板从主淬火站26’移动到第一下部副淬火头38’上方的位置,第一玻璃板g可以同时通过淬火滑梭93’从第一下部副淬火头38’上方的位置移动到第二下部副淬火头40’上方的位置来进行进一步冷却。当第一玻璃板g被定位在第二下部副淬火头40’与第二上部副淬火头102之间时,第一玻璃板g被向上吹动或抬到第二上部副淬火头102上的固定的上部支撑构件104上。在淬火环92’返回到折弯站14’拾取第三玻璃板时,第一玻璃板g被保持在第二上部副淬火头102上的上部支撑构件104上。在淬火滑梭93’上的下部支撑构件110清空了第二下部副淬火头40’之后,第一玻璃板g通过增加第二上部副淬火头102中的流体压力或流动的流体而被吹落或降低到下部传送机97’上。随后,在淬火滑梭93’使第二玻璃板在第二下部副淬火头40’上移动之前,第一玻璃板g可以在下部传送机97’上被输送远离第二下部副淬火头40’以用于进一步的冷却,或者第一玻璃板g可以从下部传送机97’上卸下从而例如进行储存或进一步的加工。

副流体供应系统64’和106可彼此协作来帮助将每片玻璃板g转移到上述与副淬火站28’相关的多个位置。例如,通过增大特定的下部副淬火头38’、40’与对应的上部副淬火头100、102之间的相对压力差,可以向上抬起玻璃板g。同样地,通过减小特定的下部副淬火头38’、40’与对应的上部副淬火头100、102之间的相对压力差,可以降低玻璃板g。此外,由于副流体供应系统64’和106都能够向对应的副淬火头38’和40’或100和102供应可变的流体压力,因此可以优化玻璃板的运动。

作为一个更具体的例子,副流体供应系统64’和106各自中的流体压力可以在20至35iwc(例如,26至30iwc)的范围内,但是对应的阻尼器98’、108可被控制到不同的打开位置或闭合位置来调节对应的副淬火头38’、40’或100、102中的压力。在一个实施方式中,例如,第一下部副淬火头38’中的流体压力可以从20iwc改变到35iwc(例如,26iwc到30iwc),第二下部副淬火头40’中的流体压力可以从5iwc改变到25iwc(例如,12iwc到17iwc),第一上部副淬火头100中的流体压力可以从4iwc改变到35iwc(例如,6iwc到30iwc),并且第二上部副淬火头102中的流体压力可以从0iwc改变到20iwc(例如,3iwc到16iwc)。

例如,当上述的第一玻璃板g被支撑在淬火环92’上并且被定位在第一下部副淬火头38’与第一上部副淬火头100之间时,在淬火环92’返回到折弯站14’以用于第二玻璃板之前,通过将第一上部副淬火头100中以及从其中离开的流体压力(例如,空气压力)从28-32iwc改变到4-8iwc(例如,30iwc到6iwc)并且将第一下部副淬火头38’中以及从其中离开的流体压力从24-28iwc改变到28-32iwc(例如,26iwc到30iwc),第一玻璃板g可以从淬火环92’上抬起并且被抬到第一上部副淬火头100上的上部支撑构件104上。换句话说,流体压力可以从28-32iwc或24-28iwc(例如,30iwc或26iwc)改变到4-8iwc或28-32iwc(例如6iwc或30iwc)。随后,随着第二玻璃板到达主淬火站26’中的淬火位置并且在其开始振动之前(例如,从第一玻璃板g被向上吹到第一上部副淬火头100上的上部支撑构件104上起经过约5至6秒),第一玻璃板g可通过将流体压力从4-8iwc或28-32iwc(例如6iwc或30iwc)改回到28-32iwc或24-28iwc(例如,30iwc或26iwc)而被吹落或转移到淬火滑梭93’上的下部支撑构件110上。接下来,在已经在主淬火站26’中完成了第二玻璃板的主淬火之后(例如,从第一玻璃板g被向上吹到第一上部副淬火头100上的上部支撑构件104上起经过约8至9秒),随着淬火环92’使第二玻璃板从主淬火站26’移动到第一下部副淬火头38’上方的位置,第一玻璃板g通过淬火滑梭93’从第一下部副淬火头38’上方的位置移动到第二下部副淬火头40’上方的位置,同时第二上部副淬火头102中的流体压力被控制为14-18iwc(例如,16iwc)并且第二下部副淬火头40’中的流体压力被控制为10-14iwc(例如,12iwc)。因此,可以将副流体供应系统64’、106各自的可用冷却流体引导到对应的第一副淬火头38’、100的部分越大,回火的效果越好(例如,得到更高的颗粒计数)。一旦被定位在第二下部副淬火头40’上方,第一玻璃板g就可通过将第二上部副淬火头102中的14-18iwc或者第二下部副淬火头40’中的10-14iwc(例如16iwc或12iwc)的流体压力改变到1-5iwc或15-19iwc(例如3iwc或17iwc)而被向上吹动或抬到第二上部副淬火头102上的上部支撑构件104上。第一玻璃板g随后在该位置处保持约0.8至2秒,直到淬火滑梭93’上的下部支撑构件110随着淬火环92’返回到折弯站14’以用于第三玻璃板而从第二下部副淬火头40’上方离开为止。此时,第一玻璃板g通过将流体压力从1-5iwc或15-19iwc(例如3iwc或17iwc)改回到14-18iwc或10-14iwc(例如,16iwc或12iwc)而被吹落到下部传送机97’上。第一玻璃板g可以随后在该位置处被保持到最后一刻(例如,约3至5秒),并且随后在淬火滑梭93’后端部上的下部支撑构件110返回到具有第二玻璃板的第二下部副淬火头40’上方之前立即通过下部传送机97’远离第二下部副淬火头40’进行转位。可以继续上述程序,直到所有的所需玻璃板g都进行了加工为止。

通过副流体供应系统64’、106供应的流体(例如,空气)可以是环境温度的或经过温度调节的流体。例如,副流体供应系统64’、106各自可供应温度范围为26至45℃的空气。另外,副流体供应系统64’、106可各自包括用于向相应的副淬火头38’、40’或100、102提供不同的流体压力的任何合适的装置。例如,副流体供应系统64’、106可各自针对相应的副淬火头38’、40’或100、102中的每一个包括单独的流体供应源。

参考图7,当需要对尺寸比图6a所示的玻璃板g更小(例如,在传送方向c上具有更小的高度或尺寸)的玻璃板g’进行处理时,主淬火站26’可分别设置有下部主淬火头130’和上部主淬火头132’,它们的尺寸针对玻璃板g’适当地设置。为了替换主淬火头,副淬火头38’、40’、100、102可首先通过与上面针对淬火设备16的副淬火站28所述的类似的方式远离淬火站26’移动。在已经将主淬火头130’、132’安装在支座34’上之后,副淬火站28’可朝向主淬火站26’移动,使得第一下部副淬火头38’和第一上部副淬火头100分别定位在下部主淬火头130’和上部主淬火头132’附近(例如,距离相应的主淬火头130’、132’约5至7.5cm)。

如图7所示,还可使用更小的淬火环192’来在折弯站14’、主淬火站26’和副淬火站28’之间输送玻璃板g’。随后可以通过与上面针对图6a和6b所述的类似的方式来进行玻璃加工系统10的操作。

再次,通过根据本公开的淬火设备16’,可以在不考虑主淬火站26’中使用的主淬火头的尺寸的情况下在主淬火站26’与副淬火站28’之间保持恒定的间隔。因此,可以在不考虑要进行淬火的玻璃板的尺寸并且在玻璃板在主淬火站26’与副淬火站28’之间进行输送时不会允许冷却被中断的情况下充分且有效地进行淬火操作。此外,通过使回火程序可以在主淬火站26’中开始并且在副淬火站28’中结束的上述构造,在淬火站26’和28’中进行连续冷却并且不干扰淬火站26’与28’之间的冷却的情况下,与常规淬火时间相比可以减少实现完全回火所需的淬火时间。例如,用于特定玻璃板的回火程序可以从12秒缩短至10秒。

虽然上面描述了示例性实施方式,但这些实施方式并非描述了根据本公开的所有可行的形式。在这方面,说明书中使用的词语是说明性而非限制性的词语,并且应理解的是可以在不脱离本公开的精神和范围的情况下做出多种修改。另外,多种实施方式的特征可以组合形成根据本公开的另外的实施方式的特征。

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