1.一种固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、取原料sio2、al2o3、cao、tio2、zro2、ceo2、na2o、b2o3和模拟放射性废物混合均匀，得到混合物；所述模拟放射性废物为moo3；
步骤二、将混合物装到氧化铝坩埚中，将装有混合物的氧化铝坩埚置于高温炉中，升温至1350～1400℃，保温2～4h，将得到的熔体倒入水中，获得初步玻璃；
步骤三、将初步玻璃粉碎，装入新的氧化铝坩埚中，再升温至1450～1500℃，保温2～4h，然后将氧化铝坩埚马上转移到另一个已经提前加热至740～780℃的炉子中，保温1.5～2.5h，最后直接取出氧化铝坩埚，放在空气中冷却，得到萤石基玻璃陶瓷基材。
2.如权利要求1所述的固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，所述步骤一中，各原料的用量比例为：sio228～31wt％、al2o38～9.5wt％、cao15～16.5wt％、tio212.5～14wt％、zro28.5～9.5wt％、ceo24.5～5.5wt％、na2o5～6wt％、b2o39～10wt％和moo30～6wt％。
3.如权利要求1所述的固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，所述步骤二中，升温的的过程为：以10℃/min的速度升温至550～650℃，保温10min，然后以5℃/min的速度升温至800～1000℃，保温30min，然后以2℃/min的速度升温至1350～1400℃，保温2～4h。
4.如权利要求1所述的固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，所述步骤三中，升温的的过程为：以10℃/min的速度升温至800～1000℃，保温30min，然后以1℃/min的速度升温至1450～1500℃，保温2～4h。
5.如权利要求1所述的固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，所述步骤三中，对得到的萤石基玻璃陶瓷基材进行激光冲击处理，其过程为：在萤石基玻璃陶瓷基材的表面粘贴吸收层，然后使用高能脉冲激光器进行冲击处理。
6.如权利要求1所述的固化含钼高放核废的萤石基玻璃陶瓷基材的制备方法，其特征在于，所述高能脉冲激光器的激光能量为5～10j、激光波长为1064nm、脉冲宽度为20～30ns、圆形光斑直径为3～5mm，激光冲击处理时，用厚度为2mm的流动水膜作为约束层；所述吸收层为黑色的聚四氟乙烯胶带。