一种可控条件的单晶培养装置的制造方法
【专利摘要】一种可控条件的单晶培养装置，单晶培养装置箱体前面安装有箱门，单晶培养装置箱体顶部安装有增压口和减压口，单晶培养装置箱体内部安装有温度传感器、压力传感器、红外灯条、摄像头和单晶培养瓶托盘，单晶培养瓶托盘上放置有单晶培养瓶，单晶培养装置箱体的底部安装有制冷器，单晶培养装置箱体侧面安装有微处理器、触摸显示屏和无线收发模块，微处理器分别与温度传感器、压力传感器、红外灯条、制冷器、摄像头、触摸显示屏、无线收发模块连接。本实用新型提供了一种可以控制单晶培养环境的装置，该单晶培养装置能够控制单晶培养温度、压力条件，用户可以远程监控单晶生长情况，使用非常方便。
【专利说明】
一种可控条件的单晶培养装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及实验仪器技术领域，尤其涉及一种可控条件的单晶培养装置。【背景技术】
[0002]单晶在配位化学、无机材料化学、金属有机化学等领域的结构解析中有着广泛的应用，使用单晶衍射仪解析晶体结构，必须培养出良好的单晶，因此单晶培养对于化合物结构解析具有重要的意义。
[0003]在实验室中常用的单晶培养方法有冷却法、两相扩散法、挥发结晶法、溶胶凝胶法等，晶体生长受到多种外界因素的影响，温度、溶剂挥发的气压、温度变化速度等因素对晶体生长都有重要影响。但通常实验室培养单晶外部条件很难精确控制，培养单晶的成功率较低，培养的单晶通常存在晶体缺陷，影响单晶结构解析，实验再现性差。
【发明内容】
[0004]本实用新型针对上述问题，提供一种能够控制单晶培养温度、压力条件，方便监控单晶生长情况的单晶培养装置。
[0005]本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案如下:
[0006]—种可控条件的单晶培养装置，包括单晶培养装置箱体、箱门、增压口、减压口、温度传感器、压力传感器、红外灯条、制冷器、摄像头、微处理器、触摸显示屏、无线收发模块、 单晶培养瓶托盘、单晶培养瓶，所述的单晶培养装置箱体前面安装有箱门，单晶培养装置箱体顶部安装有增压口和减压口，单晶培养装置箱体内部安装有温度传感器、压力传感器、红外灯条、摄像头和单晶培养瓶托盘，单晶培养瓶托盘上放置有单晶培养瓶，单晶培养装置箱体的底部安装有制冷器，单晶培养装置箱体侧面安装有微处理器、触摸显示屏和无线收发模块，微处理器分别与温度传感器、压力传感器、红外灯条、制冷器、摄像头、触摸显示屏、无线收发模块连接。
[0007]优选的，所述的微处理器与温度传感器、压力传感器之间设有A/D转换电路。
[0008]优选的，所述的微处理器与红外灯条、制冷器之间设有控制电路。
[0009]优选的，所述的增压口内部安装有过滤网，增压口上设有阀门I。
[0010]优选的，所述的减压口上设有阀门n。
[0011]本实用新型具有如下有益效果:一种可控条件的单晶培养装置，通过红外灯条和制冷器能够程序精确控制温度升降，通过增压口接入高压空气瓶，增加单晶培养装置内的气压，减慢溶液挥发速度;或通过减压口接入真空栗，降低单晶培养装置内的气压，加快溶液挥发速度;通过控制相应条件达到培养不同单晶需要的最佳条件，同时摄像头可以采集晶体的生长的图像，将单晶生长情况和单晶培养装置的工作状态数据通过无线收发模块实时传输给用户，节约人力资源，操作简单，提高单晶培养效率和质量。【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的结构示意图。
[0013]图2为本实用新型的控制结构示意图。
[0014]图中:卜单晶培养装置箱体;2-箱门；3-增压口； 4-减压口； 5-温度传感器;6-压力传感器；7-红外灯条；8-制冷器;9-摄像头；10-微处理器；11-触摸显示屏；12-无线收发模块;13-单晶培养瓶托盘;14-单晶培养瓶;15-过滤网；16-阀门I; 17-阀门II。【具体实施方式】
[0015]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面将结合附图来详细说明本实用新型的实施方式。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
[0016]在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、 “前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0017]在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接;可以是机械连接，也可以是电连接;可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0018]如图1、图2所示，一种可控条件的单晶培养装置，包括单晶培养装置箱体1、箱门2、 增压口 3、减压口 4、温度传感器5、压力传感器6、红外灯条7、制冷器8、摄像头9、微处理器10、 触摸显示屏11、无线收发模块12、单晶培养瓶托盘13、单晶培养瓶14,单晶培养装置箱体1前面安装有箱门2,单晶培养装置箱体1顶部安装有增压口 3和减压口 4,单晶培养装置箱体1内部安装有温度传感器5、压力传感器6、红外灯条7、摄像头9和单晶培养瓶托盘13,单晶培养瓶托盘13上放置有单晶培养瓶14,单晶培养装置箱体1的底部安装有制冷器8,单晶培养装置箱体1侧面安装有微处理器10、触摸显示屏11和无线收发模块12,微处理器10分别与温度传感器5、压力传感器6、红外灯条7、制冷器8、摄像头9、触摸显示屏11、无线收发模块12连接。
[0019]进一步的，所述的微处理器10与温度传感器5、压力传感器6之间设有A/D转换电路。
[0020]进一步的，所述的微处理器10与红外灯条7、制冷器8之间设有控制电路。[0021 ]进一步的，所述的增压口 3内部安装有过滤网15，增压口上设有阀门116。
[0022]进一步的，所述的减压口 4上设有阀门n 17。[〇〇23]本实用新型的【具体实施方式】的工作原理为:结合图1、图2说明本实用新型的工作原理，使用可控条件的单晶培养装置时，将装有培养溶液的单晶培养瓶14放置在单晶培养瓶托盘13上，通过触摸显示屏11设置温度参数，根据单晶培养液的物理性质，可以设为恒定某一温度，也可以设置程序降温或升温。根据触摸显示屏11设置温度参数，微处理器10通过控制电路控制红外灯条7或制冷器8状态，微处理器10接受温度传感器5、压力传感器6检测数据以及摄像头9图像数据，并将数据通过无线收发模块12发送为用户，触摸显示屏11可以显示压力、温度及图像信息。当需要常压条件进行单晶培养时，打开阀门116或阀门II17,使单晶培养装置箱体1内部与外界连通；当单晶培养液为难挥发性溶液时，晶体生长缓慢，或不能生长时，在减压口4上接入真空栗，调节阀门116或阀门II17,保持单晶培养装置箱体1 内压力低于大气压，加速溶液挥发，促进晶体生成；当单晶培养液为易挥发性溶液时，溶液挥发过快，形成多晶或单晶生长缺陷较多时，采用增加单晶培养装置箱体1内的压力，减慢溶液蒸发速度，通过增压口 3接入高压空气瓶，增加单晶培养装置内的气压，通过调节阀门I 16或阀门II17，使单晶培养装置箱体1内部气压高于室内气压。
[0024]可控条件的单晶培养装置，通过红外灯条和制冷器能够程序精确控制温度升降， 通过增压口接入高压空气瓶，增加单晶培养装置内的气压，减慢溶液挥发速度;或通过减压口接入真空栗，降低单晶培养装置内的气压，加快溶液挥发速度;通过控制相应条件达到培养不同单晶需要的最佳条件，同时摄像头可以采集晶体的生长的图像，将单晶生长情况和单晶培养装置的工作状态数据通过无线收发模块实时传输给用户，节约人力资源，操作简单，提高单晶培养效率和质量。
[0025]以上描述了本实用新型的实施方式，但所述的内容仅为便于理解本实用新型技术方案而采用的实施方式，本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制， 在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【主权项】
1.一种可控条件的单晶培养装置，包括单晶培养装置箱体(1)、箱门(2)、增压口(3)、减 压口(4)、温度传感器(5)、压力传感器(6)、红外灯条(7)、制冷器(8)、摄像头(9)、微处理器 (10)、触摸显示屏(11)、无线收发模块(12)、单晶培养瓶托盘(13)、单晶培养瓶(14)，其特征 在于:所述的单晶培养装置箱体(1)前面安装有箱门(2)，单晶培养装置箱体(1)顶部安装有 增压口(3)和减压口(4)，单晶培养装置箱体(1)内部安装有温度传感器(5)、压力传感器 (6)、红外灯条(7)、摄像头(9)和单晶培养瓶托盘(13)，单晶培养瓶托盘(13)上放置有单晶 培养瓶(14)，单晶培养装置箱体(1)的底部安装有制冷器(8)，单晶培养装置箱体(1)侧面安 装有微处理器(10)、触摸显示屏(11)和无线收发模块(12)，微处理器(10)分别与温度传感 器(5)、压力传感器(6)、红外灯条(7)、制冷器(8)、摄像头(9)、触摸显示屏(11)、无线收发模 块(12)连接。2.根据权利要求1所述的一种可控条件的单晶培养装置，其特征在于:所述的微处理器 (10)与温度传感器(5)、压力传感器(6)之间设有A/D转换电路。3.根据权利要求1所述的一种可控条件的单晶培养装置，其特征在于:所述的微处理器 (10 )与红外灯条(7 )、制冷器(8 )之间设有控制电路。4.根据权利要求1所述的一种可控条件的单晶培养装置，其特征在于:所述的增压口(3)内部安装有过滤网(15)，增压口上设有阀门1(16)。5.根据权利要求1所述的一种可控条件的单晶培养装置，其特征在于:所述的减压口(4)上设有阀门II (17)。
【文档编号】C30B7/02GK205662622SQ201620576464
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年6月16日
【发明人】杨剑锐, 李婷, 沈宗尧, 丁振林, 李鹏慧
【申请人】哈尔滨理工大学