胺、苯并脈胺等将酪核连接 而得的多元酪化合物）、含烷氧基的芳香环改性酪醒清漆树脂(用甲醒将酪核及含烷氧基的 芳香环连接而得的多元酪化合物)等酪醒树脂。
[0140] 前述其他含酪性径基的树脂中，从形成灵敏度高、耐热性也优异的感光性树脂组 合物的方面出发，优选甲酪酪醒清漆树脂或甲酪与其他酪性化合物的共缩酪醒清漆树脂。 甲酪酪醒清漆树脂或甲酪与其他酪性化合物的共缩酪醒清漆树脂具体而言是W选自由邻 甲酪、间甲酪及对甲酪组成的组中的至少巧巾甲酪和醒化合物作为必需原料、适当组合使用 其他酪性化合物而得到的酪醒清漆树脂。
[0141] 前述其他酪性化合物例如可W举出苯酪;2，3-二甲苯酪、2，4-二甲苯酪、2，5-二甲 苯酪、2，6-二甲苯酪、3，4-二甲苯酪、3，5-二甲苯酪等二甲苯酪;邻乙基苯酪、间乙基苯酪、 对乙基苯酪等乙基苯酪;异丙基苯酪、下基苯酪、对叔下基苯酪等下基苯酪;对戊基苯酪、对 辛基苯酪、对壬基苯酪、对枯基苯酪等烷基苯酪;氣苯酪、氯苯酪、漠苯酪、舰苯酪等面代苯 酪;对苯基苯酪、氨基苯酪、硝基苯酪、二硝基苯酪、Ξ硝基苯酪等1取代苯酪；1-糞酪、2-糞 酪等缩合多环式酪；间苯二酪、烷基间苯二酪、连苯Ξ酪、邻苯二酪、烷基邻苯二酪、对苯二 酪、烷基对苯二酪、间苯Ξ酪、双酪A、双酪F、双酪S、二径基糞等多元酪等。所述其他酪性化 合物可W分别单独使用，也可W组合使用巧巾W上。使用所述其他酪性化合物时，关于其用 量，优选相对于甲酪原料的总计1摩尔、该其他酪性化合物为0.05~1摩尔的范围的比例。
[0142] 另外，前述醒化合物例如可W举出：甲醒、多聚甲醒、Ξ氧杂环己烧、乙醒、丙醒、聚 甲醒、Ξ氯乙醒、六亚甲基四胺、慷醒、乙二醒、正下醒、己醒、丙締醒(allyl aldehyde)、苯 甲醒、下締醒、丙締醒(aero 1 e in )、苯基乙醒、邻甲苯甲醒、水杨醒等，可W分别单独使用，也 可W组合使用巧巾W上。其中，从反应性优异的方面出发，优选甲醒，也可W将甲醒和其他醒 化合物组合使用。将甲醒和其他醒化合物组合使用时，相对于甲醒1摩尔，其他醒化合物的 用量优选为0.05~1摩尔的范围。
[0143] 对于制造酪醒清漆树脂时的酪性化合物与醒化合物的反应比率，从能够得到灵敏 度和耐热性优异的感光性树脂组合物的方面出发，相对于酪性化合物1摩尔，醒化合物优选 为0.3~1.6摩尔的范围、更优选为0.5~1.3的范围。
[0144] 前述酪性化合物与醒化合物的反应可W举出如下方法:在酸催化剂存在下、在60 ~140°C的溫度条件下进行，接着在减压条件下去除水、残存单体。此处使用的酸催化剂例 如可W举出草酸、硫酸、盐酸、苯酪横酸、对甲苯横酸、醋酸锋、醋酸儘等，可W分别单独使 用，也可W组合使用巧中W上。其中，从催化剂活性优异的方面出发，优选草酸。
[0145] W上详细叙述的甲酪酪醒清漆树脂、或甲酪与其他酪性化合物的共缩酪醒清漆树 脂中，优选单独使用了间甲酪的甲酪酪醒清漆树脂、或并用了间甲酪和对甲酪的甲酪酪醒 清漆树脂。另外，后者中，从形成灵敏度与耐热性的均衡性优异的感光性树脂组合物的方面 出发，间甲酪与对甲酪的反应摩尔比[间甲酪/对甲酪]优选为10/0~2/8的范围，更优选为 7/3~2/8的范围。
[0146] 使用前述其他碱溶性树脂的情况下，本发明的改性径基糞酪醒清漆树脂与其他碱 溶性树脂的配混比例可W根据期望的用途任意调整。其中，从充分表现出本发明所起到的 光灵敏度、分辨率及碱显影性高且耐热性及耐吸湿性也优异的效果的方面出发，相对于本 发明的改性径基糞酪醒清漆树脂和其他碱溶性树脂的总和，优选使用60质量％ ^上、更优 选使用80质量％ W上的本发明的改性径基糞酪醒清漆树脂。
[0147] 本发明的感光性组合物进一步可W含有通常的抗蚀材料所使用的感光剂。此处使 用的感光剂例如可W举出具有酿二叠氮基的化合物。作为具有酿二叠氮基的化合物的具体 例，例如可W举出芳香族(多巧圣基化合物与具有酿二叠氮基的横酸的完全醋化合物、部分 醋化合物、酷胺化物或部分酷胺化物等。
[0148] 前述芳香族(多巧圣基化合物例如可W举出：2,3,4-Ξ径基二苯甲酬、2,4,4'-Ξ径 基二苯甲酬、2,4,6-Ξ径基二苯甲酬、2,3,6-Ξ径基二苯甲酬、2,3,4-Ξ径基-2'-甲基二苯 甲酬、2,3,4,4'-四径基二苯甲酬、2,2'，4,4'-四径基二苯甲酬、2,3'，4,4'，6-五径基二苯 甲酬、2,2'，3,4,4'-五径基二苯甲酬、2,2'，3,4,5-五径基二苯甲酬、2,3'，4,4'，5'，6-六径 基二苯甲酬、2,3,3'，4,4'，5'-六径基二苯甲酬等多径基二苯甲酬化合物；
[0149] 双(2，4-二径基苯基）甲烧、双(2，3，4-Ξ径基苯基）甲烧、2-(4-径基苯基)-2-(4 ' - 径基苯基）丙烷、2-( 2，4-二径基苯基)-2-(2 '，4 ' -二径基苯基）丙烷、2-( 2，3，4-Ξ径基苯 基)-2-(2'，3'，4'-Ξ径基苯基）丙烷、4,4'-{1-[4-〔2-(4-径基苯基）-2-丙基）苯基]乙叉 基}双酪、3,3'-二甲基-U-[4-〔2-(3-甲基-4-径基苯基)-2-丙基)苯基]乙叉基}双酪等双 [(多)径基苯基]烧控化合物；
[0150] ^(4-径基苯基）甲烧、双（4-径基-3,5-二甲基苯基）-4-径基苯基甲烧、双（4-径 基-2,5-二甲基苯基)-4-径基苯基甲烧、双(4-径基-3,5-二甲基苯基)-2-径基苯基甲烧、双 (4-径基-2，5-二甲基苯基)-2-径基苯基甲烧、双(4-径基-2，5-二甲基苯基)-3，4-二径基苯 基甲烧、双(4-径基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二径基苯基甲烧等^巧圣基苯基）甲烧化合物或 其甲基取代物；
[0151] 双(3-环己基-4-径基苯基)-3-径基苯基甲烧、双(3-环己基-4-径基苯基)-2-径基 苯基甲烧、双（3-环己基-4-径基苯基)-4-径基苯基甲烧、双（5-环己基-4-径基-2-甲基苯 基)-2-径基苯基甲烧、双巧-环己基-4-径基-2-甲基苯基)-3-径基苯基甲烧、双(5-环己基- 4-径基-2-甲基苯基）-4-径基苯基甲烧、双（3-环己基-2-径基苯基）-3-径基苯基甲烧、双 (5-环己基-4-?基-3-甲基苯基)-4-?基苯基甲烧、双(5-环己基-4-?基-3-甲基苯基)-3- 径基苯基甲烧、双(5-环己基-4-径基-3-甲基苯基)-2-径基苯基甲烧、双(3-环己基-2-径基 苯基)-4-径基苯基甲烧、双(3-环己基-2-径基苯基)-2-径基苯基甲烧、双（5-环己基-2-径 基-4-甲基苯基)-2-径基苯基甲烧、双(5-环己基-2-径基-4-甲基苯基)-4-径基苯基甲烧等 双(环己基径基苯基）（径基苯基）甲烧化合物或其甲基取代物等。
[0152] 作为前述具有酿二叠氮基的化合物，例如可W举出糞酿-1,2-二叠氮-5-横酸、糞 酿-1,2-二叠氮-4-横酸、邻蔥酿二叠氮横酸等。本发明中能够使用的感光剂可W分别单独 使用，也可W组合使用巧巾W上。
[0153] 使用前述感光剂的情况下，对于其配混量，从形成光灵敏度优异的感光性组合物 的方面出发，优选相对于本发明的感光性组合物中的树脂固体成分100质量份W5~30质量 份的范围使用。
[0154] 对于本发明的感光性组合物，出于提高用于抗蚀剂用途时的制膜性、图案的密合 性、减少显影缺陷等目的，可W含有表面活性剂。此处使用的表面活性剂例如可W举出：聚 氧乙締月桂基酸、聚氧乙締硬脂基酸、聚氧乙締十六烷基酸、聚氧乙締油基酸等聚氧乙締烧 基酸化合物、聚氧乙締辛基苯酪酸、聚氧乙締壬基苯酪酸等聚氧乙締烷基芳基酸化合物、聚 氧乙締?聚氧丙締嵌段共聚物、失水山梨醇单月桂酸醋、失水山梨醇单栋桐酸醋、失水山梨 醇单硬脂酸醋、失水山梨醇单油酸醋、失水山梨醇Ξ油酸醋、失水山梨醇Ξ硬脂酸醋等失水 山梨醇脂肪酸醋化合物、聚氧乙締失水山梨醇单月桂酸醋、聚氧乙締失水山梨醇单栋桐酸 醋、聚氧乙締失水山梨醇单硬脂酸醋、聚氧乙締失水山梨醇Ξ油酸醋、聚氧乙締失水山梨醇 Ξ硬脂酸醋等聚氧乙締失水山梨醇脂肪酸醋化合物等非离子系表面活性剂;具有氣脂肪族 基的聚合性单体与[聚(氧化締）](甲基)丙締酸醋的共聚物等分子结构中具有氣原子的氣 系表面活性剂;分子结构中具有有机娃结构部位的有机娃系表面活性剂等。它们可W分别 单独使用，也可W组合使用巧巾W上。
[0155] 关于运些表面活性剂的配混量，相对于本发明的感光性组合物中的树脂固体成分 100质量份，优选W0.001~2质量份的范围使用。
[0156] 在将本发明的感光性组合物用于光致抗蚀剂用途的情况下，除了前述改性径基糞 酪醒清漆树脂、光产酸剂之外，进一步根据需要加入有机碱化合物、其他树脂、感光剂、表面 活性剂、染料、填料、交联剂、溶解促进剂等各种添加剂，溶解于有机溶剂，由此可W制备抗 蚀材料。可W将该抗蚀材料直接作为正型抗蚀剂溶液使用，或者可W将该抗蚀材料涂布成 薄膜状并使其脱溶剂从而作为正型抗蚀薄膜使用。作为抗蚀薄膜使用时的支撑薄膜可W举 出聚乙締、聚丙締、聚碳酸醋、聚对苯二甲酸乙二醇醋等的合成树脂薄膜，可W为单层薄膜， 也可W为多层的层叠薄膜。另外，该支撑薄膜的表面可W进行了电晕处理、也可W涂布有剥 罔剂。
[0157] 本发明的抗蚀材料中使用的有机溶剂例如可W举出：乙二醇单甲酸、乙二醇单乙 酸、乙二醇单丙酸、乙二醇单下酸、丙二醇单甲酸等烧撑二醇单烷基酸;二乙二醇二甲酸、二 乙二醇二乙酸、二乙二醇二丙酸、二乙二醇二下酸等二烧撑二醇二烷基酸；乙二醇单甲酸乙 酸醋、乙二醇单乙酸乙酸醋、丙二醇单甲酸乙酸醋等烧撑二醇烷基酸乙酸醋;丙酬、甲乙酬、 环己酬、甲基戊酬等酬化合物;二氧杂环己烧等环式酸;2-径基丙酸甲醋、2-径基丙酸乙醋、 2-径基-2-甲基丙酸乙醋、乙氧基乙酸乙醋、径基乙酸乙醋、2-径基-3-甲基下酸甲醋、乙酸- 3-甲氧基下醋、乙酸-3-甲基-3-甲氧基下醋、甲酸乙醋、乙酸乙醋、乙酸下醋、乙酷乙酸甲 醋、乙酷乙酸乙醋等醋化合物，它们可W分别单独使用，也可W组合使用巧巾W上。
[0158] 本发明的感光性组合物可W通过配混上述各成分、使用揽拌机等进行混合来进行 制备。另外，感光性组合物含有填料、颜料时，可W使用溶解器、均化器、Ξ漉磨等分散装置 进行分散或混合来制备。
[0159] 使用包含本发明的感光性组合物的抗蚀材料的光刻的方法例如可W为如下方法： 在要进行娃基板光刻的对象物上涂布抗蚀材料，在60~150°C的溫度条件下预烘赔。此时的 涂布方法可W为旋涂法、漉涂法、流涂法、浸涂法、喷涂法、刮刀涂布法等任一种方法。接着 是抗蚀图案的制作，由于本发明的抗蚀材料为正型，所W通过规定的掩模对目标抗蚀图案 进行曝光，用碱显影液将曝光了的地方溶解，由此形成抗蚀图案。
[0160] 此处的曝光光源例如可W举出红外光、可见光、紫外光、远紫外光、X射线、电子束 等，作为紫外光，可W举出高压隶灯的g射线(波长436nm)、h射线(波长405nm)、i射线(波长 365nm)、KrF准分子激光（波长248nm)、ArF准分子激光（波长19：3nm)、F2准分子激光（波长 157nm)、EUV 激光（波长 13.5nm)等。
[0161] 本发明的感光性组合物由于光灵敏度及碱显影性高，因此在使用任意光源的情况 下，均能W高分辨率制作抗蚀图案。
[0162] 实施例
[0163] 接着，通过实施例、比较例具体说明本发明，W下"份"及"％"只要没有特别说明， 则是质量基准。需要说明的是，GPC