专利名称：带纳米级凹槽的光学保护膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种薄膜，具体涉及带纳米级凹槽的光学保护膜，属于包装材料技术领域。
背景技术：
棱镜片等光学元件因其特殊的光学性能被越来越广泛的应用于显微镜、望远镜、 医疗器械等精密光学仪器中。目前，在对精密制品进行加工、搬运等时，为了避免对这些精密制品带来损伤等，都是采用临时粘贴表面保护膜的方式来实现被粘体的表面保护。一直以来，表面保护大多采用在基材膜的表面上设有粘合剂的粘合膜。但是往往由于光学元件的表面存在数十微米的凹凸，因此与其他被粘体相比，与粘结层的接触面积非常小，很难稳定地粘贴于棱镜表面，或者会因粘合力太强而不能从被粘物上顺畅剥离，出现在分离保护膜时留下残膜与残胶的现象，一定程度上影响棱镜的使用和光学上的精度。此外，膜抗震性能对所保护的制品也有巨大的影响，也是目前保护膜设计生产中急需解决的问题之一。因此，有必要设计制造出一种自粘性和抗震性优异的光学保护膜。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足，设计保护性能强、剥离顺畅且能保持棱镜片表面清洁、自粘性和抗震性优异的光学保护膜。为了实现上述目的，本发明的技术方案是提供一种带纳米级凹槽的光学保护膜， 包括防护层和粘结层，其特征在于，所述防护层外表面设置有纳米级凹槽。为了使保护膜获得不同的表面摩擦力和抗震性能，纳米级曲面凹槽排列方式为阵列式或随机式，密度不限。为了生产过程操作简单，纳米级曲面凹槽为半球形，所述半球直径为1 lOOnm。为了保证保护膜材料良好的机械性能，防护层为低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、流延聚丙烯、茂金属聚乙烯和嵌段聚丙烯中的至少一种。为了使保护膜具有一定的自粘性，避免使用胶水等胶黏剂而造成的残胶现象，粘结层为乙烯聚醋酸乙烯共聚物。本实用新型的优点和有益效果在于在保护膜中粘结层上引入纳米级凹槽，能增大保护膜表面的摩擦系数，包覆光学元件时保护膜之间能形成小型气囊，提高保护膜抗震性能；粘结层具有比较高的表面能，能够很好的粘附在制品表面，有效避免使用胶水等胶黏剂而造成的残胶现象，且该保护膜机械性能良好。
图1是本实用光学保护膜的纵剖面结构示意图；图2是本实用光学保护膜的俯视面结构示意图；图3是本实用光学保护膜的另一俯视面结构示意图。[0013]图中1、防护层；2、粘结层；3、纳米级凹槽。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。实施例1参见图1和2，在共挤流延挤出机上将低密度聚乙烯与乙烯聚醋酸乙烯共聚物进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在防护层外表面压出呈矩阵式排列的纳米级半球形凹槽，半球形直径为lnm。实施例2参见图1和3，共挤流延挤出机上将嵌段聚丙烯与乙烯聚醋酸乙烯共聚物进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在防护层外表面压出随机排列的纳米级半球形凹槽，半球形直径50nm。实施例3参见图1和3，在共挤流延挤出机上将高密度聚乙烯与流延聚丙烯的混合材料与乙烯聚醋酸乙烯共聚物进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在防护层外表面压出随机排列的纳米级半球形凹槽，半球形直径lOOnm。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.带纳米级凹槽的光学保护膜，包括防护层和粘结层，其特征在于，所述防护层外表面设置有纳米级曲面凹槽。
2.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述纳米级曲面凹槽排列方式为阵列式或随机式，密度不限。
3.如权利要求2所述的保护膜，其特征在于，所述纳米级曲面凹槽为半球形，所述半球直径为1 lOOnm。
4.如权利要求3所述的保护膜，其特征在于，所述粘结层为乙烯聚醋酸乙烯共聚物。
专利摘要本实用新型公开了带纳米级凹槽的光学保护膜，包括防护层和粘结层，防护层外表面设置有纳米级曲面凹槽，纳米级曲面凹槽排列方式为阵列式或随机式，密度不限。在保护膜中粘结层上引入纳米级凹槽，能增大层间接触面积，增强层间粘合力，且层间贴合时形成的小型气囊会提高保护膜的抗震性能；粘结层具有比较高的表面能，能够很好的粘附在制品表面，有效避免使用胶水等胶黏剂而造成的残胶现象。
文档编号C09J7/02GK202186961SQ20112023086
公开日2012年4月11日 申请日期2011年7月4日 优先权日2011年7月4日
发明者周永南 申请人:江阴市通利包装材料有限公司