专利名称：双环己基含氟二苯乙炔类负性液晶、合成方法及应用的制作方法
技术领域：
本发明涉及两个双环己基含氟ニ苯こ炔液晶化合物，具有高双折射率，低黏度及高达300°C的清亮点，可以用来制备性能良好的高双折射率混合物液晶。用来开发可见光、红外光及激光自适应光学调制器，在光子学方面有许多新的应用。
背景技术：
现在，液晶平板显示技术已经广泛应用于社会生活之中。特别是进入21世纪以来，由于TFT模式液晶显示器在手机、电脑及电视技术中得到普及，它已经成为平板显示的主流。除此之外，近几年液晶器件在可见光、近红外及激光波段作为自适应光学系统的调制器技术方面得到发展，成为ー种迅速发展的液晶器件新应用领域(Wen，C.H. ；ff, S. T. App1.Phys. Lett. 2005, 86, 231104)。TFT液晶显示器主要使用含氟液晶材料，是因为氟的引入，使得液晶化合物的稳定性(电压保持率)变高，黏度变低，双折射系数低，对于ー级极小(要求An=O.1)相当合适。具有介电各向异性为负值(△ e〈O)的向列型液晶是液晶材料的ー个重要组成群体，它可以用于垂直排列型(VA)，面内开关型(IPS)和电控双折射型(ECB)液晶模式中，制造大屏幕有源矩阵显示器。另外，高双折射率(A n>0. 25)的负性液晶也可作为双频率向列混合物的主要成分，在光子学领域得到重要应用。迄今研究得知，唯有利用高双折射率的液晶，才可能应用尽可能薄的液晶盒和快速响应的液晶混合物，有可能能达到闻速响应(液晶盒间隙2. 5微米，响应时间<3ms)，从而满足可见光、近红外光及激光等宽频带自适应光学系统调制器的要求。含氟ニ苯こ炔类液晶的许多物理性能可以满足以上要求。例如高双折射率，低黏度，向列相(工作温度区域)宽等等。本发明的2个双环己基取代的含氟ニ苯こ炔类负性液晶化合物只出现单ー的向列相，同时清亮点温度很高，可达到300°C左右。可用作混合液晶的高温组分，制备优良的工作温度很宽的热稳定、高双折射率的负性液晶。
发明内容
本发明目的是提供一种四环含氟负性液晶化合物，合成方法和用途。本发明的四环含氟负性液晶化合物具有如下分子式
权利要求
1.一种四环含氟负性液晶化合物，具有如下分子式
2.一种如权利要求1所述的四环含氟负性液晶化合物，其特征是通过如下方法获得 将4-丙基或者乙基-{(反式，反式_双环己基)-4-基}碘苯、2，3- 二氟-4-乙氧基苯乙炔、二氯二(三苯基磷)钯、碘化亚铜和三乙胺在氮气保护下回流下反应f5h ； 所述的4-丙基或者乙基_{(反式，反式-双环己基)-4-基}碘苯、0. 83mmol的2，3- 二氟-4-乙氧基苯乙炔和三乙胺的摩尔比为1. 2 :0. 8 1. 0 =TlOO ;所述的4-丙基或者乙基-{(反式，反式-双环己基)-4_基}碘苯毫摩尔、二氯二(三苯基磷)钯毫克重量和碘化亚铜毫克重量比为1:45 60 :50 100。
3.—种如权利要求2所述的四环含氟负性液晶化合物的合成方法，其特征是产物经过过滤、洗涤、干燥，浓缩、柱层析或重结晶纯化处理。
4.一种如权利要求1所述的四环含氟负性液晶化合物的用途，其特征是用作混合液晶的高温组分，制备工作温度很宽的热稳定、高双折射率的负性液晶。
全文摘要
本发明是一种四环含氟负性液晶化合物、合成方法和用途，该化合物具有如下分子式不仅合成方法简便，而且可以用作混合液晶的高温组分，能进一步用于制备工作温度很宽的热稳定、高双折射率的负性液晶。
文档编号C09K19/30GK103012083SQ20121058581
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月28日 优先权日2012年12月28日
发明者闻建勋, 戴修文, 蔡良珍, 范程士, 李继响 申请人:上海天问化学有限公司