016]本发明所述的颗粒度测试方法是采用激光粒度仪测得的粒度当量直径尺寸。
[0017]本发明所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉方法:即可以用于湿抛也可用于干抛，每平方米用量为15~20g。
[0018]本发明与现有技术比较，具有如下优点及有益效果:
(I)本发明获得二氧化锆陶瓷抛光粉，在制备过程中，采用加入氮化硅成分，使抛光粉的抛光摩擦硬度有了明显提高，可以用于各种高硬度二氧化锆陶瓷的抛光。
[0019](2)本发明获得二氧化锆陶瓷抛光粉，在制备过程中、氧化铈和氧化锡的颗粒细小均匀分布在硅酸钙、氮化硼表面上，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，同时使抛光粉的粉粒之间流动性或软硬度互补，达到更好的抛光效果。
[0020](3)本发明获得二氧化锆陶瓷抛光粉，制备工艺简单，条件易于控制，生产成本低，易于工业化生产。
【具体实施方式】
[0021]实施例1
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入8g的硝酸铈，30g的氯化锡溶解于水中，再加入8g的碳酸钙，5g的二氧化硅，42g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将7mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应3 h，固液分离，洗涤，于1000°C焙烧10h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0022]实施例2
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入6g的硝酸铈，25g的氯化锡溶解于水中，再加入13g的碳酸钙，8g的二氧化硅，43g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将6mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应2 h，固液分离，洗涤，于1020°C焙烧llh，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0023]实施例3
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入12g的硝酸铈，27g的氯化锡溶解于水中，再加入7g的碳酸钙，4g的二氧化硅，40g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将1mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应4 h，固液分离，洗涤，于1060°C焙烧12h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0024]实施例4
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入1g的硝酸铈，32g的氯化锡溶解于水中，再加入1g的碳酸钙，6g的二氧化硅，39g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将4mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应3 h，固液分离，洗涤，于1080°C焙烧12h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0025]实施例5
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入8g的硝酸铈，22g的氯化锡溶解于水中，再加入Ilg的碳酸钙，7g的二氧化硅，48g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将5mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应4 h，固液分离，洗涤，于1100°C焙烧10h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0026]实施例6
一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，在反应器中，分别加入9g的硝酸铈，29g的氯化锡溶解于水中，再加入1g的碳酸钙，6g的二氧化硅，33g的氮化硅，搅拌呈浆液，再将8mL氨水搅拌过程加入，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应2 h，固液分离，洗涤，于1050°C焙烧llh，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0ym的范围内。
[0027]使用方法:即可以用于湿抛也可用于干抛，湿抛时将抛光粉与水调成浆糊状，建议选用湿抛，因为干抛粉尘会造成污染。
[0028]本发明获得二氧化锆陶瓷抛光粉，粉体抛光效果好，光泽度，可达99度以上，无划痕，平整度高，粉的用量少。
【主权项】
1.一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，特征在于该方法具有以下工艺步骤:在反应器中，按质量百分比加入6%~12%的硝酸铈，22%~32%的氯化锡溶解于水中，再加入6%~13%的碳酸钙，3%~7%的二氧化硅，38%~48%的氮化硅，搅拌呈浆液，再将3%~10%氨水搅拌过程加入，各组分之和为百分之百，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应2~4 h，固液分离，洗涤，于1000°C ~1100°C焙烧10~12h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2-2.0 μ m的范围内。
2.根据权利要求1所述一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法中，其特征在于，所述的氯化锡为含5个结晶水氯化锡。
3.根据权利要求1所述一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法中，其特征在于，所述的硝酸铈为含6个结晶水硝酸铈。
4.根据权利要求1所述一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法中，其特征在于，所述的氮化娃，二氧化娃，碳酸妈其粒径在0.2-1.5 μπι范围。
5.根据权利要求1所述一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法中，其特征在于，一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法中，所述的碳酸钙:二氧化硅的最优摩尔比要在1:1。
【专利摘要】本发明公开了一种二氧化锆陶瓷抛光粉的制备方法，特征在于该方法具有以下工艺步骤：在反应器中，按质量百分浓度加入6%~12%的硝酸铈，22%~32%的氯化锡溶解于水中，再加入6%~13%的碳酸钙，3%~7%的二氧化硅，38%~48%的氮化硅，搅拌呈浆液，再将3%~10%氨水搅拌过程加入，各组分之和为百分之百，水不计入组分，常温常压下，搅拌反应2~4h，固液分离，洗涤，于1000℃~1100℃焙烧10~12h，冷却后，经气流粉碎，即得二氧化锆陶瓷抛光粉，所得到的二氧化锆陶瓷抛光粉的粒径为0.2~2.0μm的范围内。该抛光粉具有研磨硬度高、粉体抛光效果好，光泽度，无划痕，平整度高，粉的用量少。
【IPC分类】C09G1-02
【公开号】CN104694018
【申请号】CN201510126393
【发明人】李慧芝, 李冬梅, 杨春霞
【申请人】济南大学
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年3月23日