此外，根据需要含有其它 成分而成。
[0180] 作为具有本发明的透明导电膜的透明电极，只要具有包含本发明的金属纳米线 (即，（i)金属纳米线主体和（ii)吸附到上述金属纳米线主体的含有巯基的有色化合物）的 透明导电膜就没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可举出⑴如图2所示，仅在金属 纳米线主体2的从粘合剂层31露出的部分吸附了有色化合物(染料)3(有色化合物(染料)3 可以在凝聚的状态下吸附于金属纳米线主体2,也可以存在于粘合剂层31的表面的一部分 或粘合剂层31中）的透明电极，（ii)如图3所示，在金属纳米线主体2的表面吸附了有色化合 物(染料)3(有色化合物(染料)3可以在凝聚的状态下吸附到金属纳米线主体2,也可以存在 于粘合剂层31的表面的一部分或粘合剂层31中）的透明电极，（iii)如图4所示，在粘合剂层 31上形成有覆盖层50的透明电极，（iv)如图5所示，在粘合剂层31与基材40之间形成有锚固 层60的透明电极，（V)如图6所示，在基材40的两面形成包含吸附了有色化合物(染料)3的金 属纳米线主体2的粘合剂层31的透明电极，（vi)适当组合了上述（i)~上述(V)而得的透明 电极等。
[0181] 另外，本发明的透明导电膜可以含有没有用含有巯基的有色化合物进行过表面处 理的金属纳米线主体。在此，"没有用含有巯基的有色化合物进行过表面处理的金属纳米线 主体"是指"完全没有进行表面处理的金属纳米线主体"和/或"用本发明的含有巯基的有色 化合物以外的化合物进行了表面处理的金属纳米线主体"。
[0182] -基材-
[0183] 作为上述基材，没有特别限制，可以根据目的适当选择，但优选由无机材料、塑料 材料等对可见光具有透过性的材料构成的透明基材。上述透明基材有具有透明导电膜的透 明电极所必需的膜厚，例如在能够实现可挠性的弯曲性程度薄膜化的膜状(片状），或具有 能够实现适度的弯曲性和刚性程度的膜厚的基板状。
[0184] 作为上述无机材料，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可举出石英、蓝 宝石、玻璃等。
[0185]作为上述塑料材料，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可举出三乙酰纤 维素(TAC)、聚酯(TPEE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亚 胺(PI)、聚酰胺(PA)、芳纶、聚乙烯(PE)、聚丙烯酸酯、聚醚砜、聚砜、聚丙烯(PP)、二乙酰纤 维素、聚氯乙烯、丙烯酸树脂(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、环氧树脂、脲树脂、聚氨酯树脂、三聚氰 胺树脂、环烯烃聚合物(COP)等公知的高分子材料。使用这种塑料材料构成透明基材时，从 生产率的观点考虑，优选将透明基材的膜厚设为5μπι~500μπι，但不限于该范围。
[0186] -覆盖层-
[0187] 上述覆盖层重要的是对可见光具有透光性，且由聚丙烯酸系树脂、聚酰胺系树脂、 聚酯系树脂或纤维素系树脂构成，或者由金属醇盐的水解、脱水缩合物等构成。另外，这样 的覆盖层以不阻碍对可见光的透光性的膜厚构成。上述覆盖层可以具有选自硬涂功能、防 眩功能、防反射功能、防牛顿环功能和防堵塞功能等中的至少一种功能。
[0188] -锚固层-
[0189] 作为上述锚固层，只要更稳定地粘接基材与粘合剂层就没有特别限制，可以根据 目的适当选择。
[0190] -透明导电膜的制造方法_
[0191] 一第丨实施方式一
[0192] 以下，说明制造本发明的透明导电膜的方法的第1实施方式。
[0193] 制造本发明的透明导电膜的方法至少包括分散膜形成工序、固化工序和表面处理 工序，此外，包括根据需要适当选择的压延工序、冲洗干燥工序、覆盖层形成工序、图案电极 形成工序、其它工序。
[0194] 制造本发明的透明导电膜的方法的第1实施方式例如按照分散膜形成工序、固化 工序、压延工序、表面处理工序、冲洗干燥工序的顺序进行。
[0195] -分散膜形成工序-
[0196] 上述分散膜形成工序是使用含有金属纳米线主体、粘合剂和溶剂的分散液在基材 上形成分散膜(金属纳米线膜)的工序。
[0197] 上述金属纳米线主体、上述粘合剂、上述溶剂在本发明的分散液的说明中如上所 述。
[0198] 作为上述分散膜的形成方法，没有特别限制，可以根据目的适当选择，但从物理性 质、便利性、制造成本等角度考虑，优选湿式制膜法。
[0199] 作为上述湿式制膜法，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可举出涂布 法、喷涂法、印刷法等公知的方法。
[0200] 作为上述涂布法，没有特别限定，可以根据目的适当选择，例如可举出微型凹版涂 布法、线棒涂布法、直接凹版涂布法、模涂法、浸渍法、喷涂法、逆辊涂布法、帘式涂布法、逗 号涂布法、刀涂布法、旋涂法等。
[0201] 作为上述喷涂法，没有特别限制，可以根据目的适当选择。
[0202] 作为上述印刷法，没有特别限定，可以根据目的适当选择，例如可举出凸版印刷、 胶版印刷、照相凹版印刷、凹版印刷、橡胶版印刷、丝网印刷、喷墨印刷等。
[0203] -固化工序-
[0204] 上述固化工序是使形成在上述基材上的分散膜固化而得到固化物（图7中的含有 金属纳米线主体2的粘合剂层31)的工序。
[0205] 在上述固化工序，首先，使形成在上述基材上的分散膜中的溶剂干燥并进行去除。 干燥的溶剂的去除可以是自然干燥和加热干燥中的任一种。在干燥后，进行未固化的粘合 剂的固化处理，在固化后的粘合剂中使金属纳米线分散的状态。在此，上述固化处理可以通 过加热和/或照射活性能量线来进行。
[0206] -表面处理工序-
[0207]上述表面处理工序是（i)如图8所示，使上述分散膜固化而得到固化物70,使该固 化物70浸渍到包含含有巯基的有色化合物(染料)3和溶剂的有色化合物(染料)分散溶液80 中，或者是（ii)使上述分散膜固化而得到固化物，在该固化物上涂布或印刷包含含有巯基 的有色化合物(染料)3和溶剂的有色化合物(染料)分散溶液的工序。
[0208] 由此，如图9所示，在分散到固化的粘合剂层31中的金属纳米线主体2中吸附有色 化合物(染料)分散溶液中的含有巯基的有色化合物(染料)3,形成包含金属纳米线的层。在 此，优先对金属纳米线主体2的从粘合剂层31露出的部分进行表面处理。在这样的表面处理 中，使有色化合物(染料)分散溶液中的含有巯基的有色化合物(染料)3与构成金属纳米线 主体2的金属材料进行化学吸附(共价键、配位键、离子键或者氢键）。
[0209] 作为这样的表面处理的具体例，可举出（i)使分散了金属纳米线主体2的分散膜浸 渍在有色化合物(染料)分散溶液中的浸渍方式，（ii)在分散膜上形成有色化合物(染料)分 散溶液的液膜的涂布方式或印刷方式。
[0210] 使用上述浸渍方式时，准备分散膜充分浸渍的量的有色化合物(染料)分散溶液， 使分散膜在有色化合物(染料)分散溶液中浸渍〇. 1秒钟~48小时。此时，通过进行加热和超 声波处理中的至少一种，从而能够加快有色化合物(染料)对金属纳米线主体的吸附速度。 浸渍后，根据需要，用有色化合物(染料)的良溶剂清洗分散膜，进行去除残留在分散膜中的 未吸附的有色化合物(染料)的工序。
[0211] 使用上述涂布方式时，例如从微型凹版涂布法、线棒涂布法、直接凹版涂布法、模 涂法、浸渍法、喷涂法、逆辊涂布法、帘式涂布法、逗号涂布法、刀涂布法、旋涂法等中选择适 当的方法，在分散膜上形成有色化合物(染料)分散溶液的液膜。
[0212] 使用上述印刷方式时，例如从凸版印刷法、胶版印刷法、凹版印刷法、凹版印刷法、 橡胶版印刷法、喷墨法和丝网印刷法等中选择适当的方法，在分散膜上形成有色化合物(染 料)分散溶液的液膜。
[0213] 在使用上述涂布方式或上述印刷方式时，在分散膜上形成一定量的有色化合物 (染料)分散溶液的液膜的状态下，通过进行加热和超声波处理中的至少一种，从而能够加 快有色化合物(染料)对金属纳米线主体的吸附速度。另外，进行从形成有色化合物(染料） 分散溶液的液膜之后经过一定时间，之后根据需要用有色化合物(染料)的良溶剂清洗分散 膜，去除残留在分散膜中的未吸附的有色化合物(染料)的工序。
[0214] 应予说明，一定量的有色化合物(染料)分散溶液的液膜的形成不需要通过1次的 液膜的形成而实现，可以通过重复多次上述的液膜的形成工序和清洗工序来实现。
[0215] -压延工序-
[0216] 上述压延处理是在（i)上述固化工序与上述表面处理工序之间，（ii)上述冲洗干 燥工序之后，或（i i i)上述覆盖层形成工序之后进行的工序，是使表面的平滑性提高，或对 表面施加光泽的工序。
[0217] 通过进行这种压延处理，从而能够降低得到的透明导电膜的薄层电阻值。
[0218] _冲洗干燥工序_
[0219] 上述冲洗干燥工序是在上述表面处理工序之后规定的溶剂冲洗上述进行了表面 处理的固化物，然后进行干燥处理的工序。由此结束形成在基材上的、包含金属纳米线的透 明导电膜的制造。应予说明，上述干燥处理可以是自然干燥和加热干燥中的任一种。
[0220]-覆盖层形成工序_
[0221] 上述覆盖层形成工序是在形成分散液的固化物后，在上述固化物上形成覆盖层的 工序。上述覆盖层形成工序可以在冲洗干燥后进行。
[0222] 上述覆盖层例如可以通过在上述固化物上涂布包含规定的材料的覆盖层形成用 涂布液，并进行固化而形成。
[0223]-图案电极形成工序_
[0224] 上述图案电极形成工序是在上述冲洗干燥工序之后，利用公知的光刻工艺而形成 图案电极的工序。由此，能够将本发明的透明导电膜适用于静电容量触摸面板用传感器电 极。应予说明，在上述固化工序中的固化处理包括活性能量线照射时，可以将上述固化处理 作为掩模曝光/显影而形成图案电极。
[0225] 作为制造本发明的透明导电膜的方法的第1实施方式中得到的透明导电膜，例如 可举出（i)如图10所示的仅在金属纳米线主体2的从粘合剂层31露出的部分吸附有含有巯 基的有色化合物(染料)3(含有巯基的有色化合物(染料)3可以在凝聚的状态下吸附于金属 纳米线主体2,也可以存在于粘合剂层31的表面的一部分或粘合剂层31中）的透明导电膜， (ii)如图11所示的在图10中的粘合剂层31上形成覆盖层50的透明导电膜等。
[0226] 根据本发明的透明导电膜的制造方法的第1实施方式，能够更可靠地使金属纳米 线彼此接触而导通。
[0227] 一第2实施方式一
[0228] 以下，说明制造本发明的透明导电膜的方法的第2实施方式。在此，省略与制造本 发明的透明导电膜的方法的第1实施方式的说明重复的部分。
[0229] 制造本发明的透明导电膜的方法至少包括分散膜形成工序和固化工序，此外，包 括根据需要适当选择的压延工序、覆盖层形成工序、图案电极形成工序、其它工序。
[0230] 本发明的透明导电膜的制造方法的第2实施方式例如按照分散膜形成工序、固化 工序、压延工序的顺序进行。
[0231] -分散膜形成工序_
[0232] 上述分散膜形成工序是使用（i)包含金属纳米线、粘合剂和溶剂的分散液，或（ii) 包含含有巯基的有色化合物(染料）、金属纳米线主体、粘合剂和溶剂的分散液而在基材上 形成分散膜的工序。
[0233] 上述金属纳米线、上述含有巯基的有色化合物(染料）、上述金属纳米线主体、上述 粘合剂、上述溶剂在本发明的分散液的说明中均如上所述。
[0234] -固化工序-
[0235] 上述固化工序是使形成在上述基材上的分散膜固化而得到固化物的工序。
[0236] -压延工序-
[0237] 上述压延工序是在（i)上述固化工序之后或（ii)上述覆盖层形成工序之后进行的 工序。
[0238]-覆盖层形成工序_
[0239]上述覆盖层形成工序是在形成了分散膜的固化物之后在上述固化物上形成覆盖 层的工序。
[0240]-图案电极形成工序-
[0241] 上述图案电极形成工序是在透明导电膜形成基材上之后利用公知的光刻工艺形 成图案电极的