联固化反应，此称 之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学氣素离型膜，即制得 有基材光学双面胶带半成品。
[0036] 将有基材光学双面胶带半成品按照W上工序在基材背面再涂布一层有机娃压 敏胶，涂胶厚度为0. 035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为 1000 mm的光学氣素离型膜，制得有基材光学双面胶带。
[0037] 阳03引 实施例4 :
[0039]将聚氨醋压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0. 01mm、宽度为1000 mm光学聚 醋薄膜上，涂胶厚度为0. 035mm，涂胶后的光学聚醋薄膜W20m/min的线速度，通过总长度 15~45m、溫度为60~160°C的烘道烘赔，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称 之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学PE离型膜，即制得有 基材光学双面胶带半成品。
[0040] 将有基材光学双面胶带半成品按照W上工序在基材背面再涂布一层有机娃压 敏胶，涂胶厚度为0. 035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学阳离型膜，制得有基材光学双面胶带。
[0041 ] 阳042] 实施例5:
[0043] 将聚氨醋树脂通过涂布方式涂布在厚度为0. 05mm、宽度为1000 mm光学聚醋薄膜 上，再将聚氨醋压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布，涂胶厚度为0. 035mm，涂胶后的光学聚醋薄 膜W20m/min的线速度，通过总长度15~45m、溫度为60~160°C的烘道烘赔，除去溶剂并 促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度 为1000 mm的光学聚醋离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
[0044] 将有基材光学双面胶带半成品按照W上工序在基材背面再涂布一层有机娃树 月旨；W及有机娃压敏胶，涂胶厚度为0. 035mm，此称之为B胶，然后在涂胶面上覆贴厚度为 0. 036mm、宽度为1000 mm的光学聚醋离型膜，制得有基材光学双面胶带。
[0045] 阳046] 实施例6:
[0047] 将添加有折光率改性剂的丙締酸树脂通过涂布方式涂布在厚度为0. 02mm、宽度为 1000 mm光学聚醋薄膜上，再将丙締酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布，涂胶厚度为0. 035mm， 涂胶后的光学聚醋薄膜W20m/min的线速度，通过总长度15~45m、溫度为60~160°C的 烘道烘赔，除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应，此称之为A胶，然后在涂胶面上覆贴 厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学聚醋离型膜，即制得有基材光学双面胶带半成品。
[0048] 将有基材光学双面胶带半成品按照W上工序在基材背面再涂布一层添加有折光 率改性剂的有机娃树脂；W及有机娃压敏胶，涂胶厚度为0. 035mm，此称之为B胶，然后在涂 胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学聚醋离型膜，制得有基材光学双面胶带。[0049]
阳050]除非另作定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具 有一般技能的人±所理解的通常意义。本发明专利申请说明书W及权利要求书中使用的 "一层"或者"一"等类似词语不表示数量限制，而是表示存在至少一个。
[0051]W上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无 需创造性劳动就可W根据本发明的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术 人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可W得到的 技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
【主权项】
1. 一种光学双面胶带，其特征在于，包括，一层透明光学薄膜层（104)，所述透明光学 薄膜层（104)的两个表面上各设有一层压敏胶层（102,106)，所述各压敏胶层（102,106)远 离所述透明光学薄膜层（104)的一面上设有一层离型膜层（101，107)。2. 如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述压敏胶层（102, 106)通过涂布 形成在所述透明光学薄膜层（104)上，所述离型膜层（101，107)通过覆贴形成在所述压敏 胶层（102,106)上。3. 如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述压敏胶层，其中一层（102)材 料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏 胶，另一层（106)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类 压敏胶或橡胶类压敏胶。4. 如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述各压敏胶层（102, 106)和透明 光学薄膜层（104)之间均通过涂布形成一层表面处理层（103, 105)。5. 如权利要求4所述的光学双面胶带，其特征在于，所述表面处理层，其中一层（103) 材料包括有机硅树脂、有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或 聚酯树脂，另一层（105)材料包括有机硅树脂，有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙 烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂。6. 如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述透明光学薄膜层（104)材料为 聚酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或三醋酸纤维素薄膜。7. 如权利要求1所述的光学双面胶带，其特征在于，所述离型膜层（101，107)材料为有 机硅离型膜、无硅离型膜、或氟素离型膜，所述离型膜的基材为PET、PC、PP或合成纸。
【专利摘要】本实用新型公开了一种有基材的光学双面胶带，包括一层透明光学薄膜，透明光学薄膜的两个表面各涂布上各设有一层压敏胶，各压敏胶远离所述透明光学薄膜的一面上覆贴设有一层离型膜。本实用新型还公开了一种光学双面胶带，各压敏胶和透明光学薄膜之间均涂布一层表面处理层。本实用新型公开的有基材光学双面胶带，具有工艺简单，性能优良，方便后续加工和模切等优点。
【IPC分类】C09J7/02
【公开号】CN204939372
【申请号】CN201520558655
【发明人】施克炜, 陈晓东
【申请人】太湖金张科技股份有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年7月28日