一种纳米晶料带包边保护装置的制作方法

1.本实用新型涉及纳米晶料带模切加工技术领域，特别涉及一种纳米晶料带包边保护装置。


背景技术：

2.纳米晶在电子开关元件、高速切换元件、磁头材料、磁记录材料等的生产制造中应用广泛，在实际生产加工过程中，需要对纳米晶进行模切，使之形成需求尺寸规格以及形状的产品。
3.现有的纳米晶的模切，其预先通过在纳米晶的上表面、下表面包覆单保护膜，之后将纳米晶连同保护膜整体放置到模切刀的正下方，模切刀下行，使得上表面保护膜、纳米晶、下表面保护膜顺次被模切刀切断，然后转入下道工序。然而，模切时在纳米晶边缘会产生气泡，非常不利于下道工序的抓边处理，严重影响产品良率和生产效率。因此，针对上述问题，有必要提出进一步地解决方案。


技术实现要素：

4.本实用新型提供了一种纳米晶料带包边保护装置，能够解决上述现有技术问题中的一种或几种。
5.根据本实用新型的一个方面，提供了一种纳米晶料带包边保护装置，包括操作台，操作台上沿料带传送方向依次设置有放料机构、拉料机构和收料机构；拉料机构包括传动连接的上辊轴和下辊轴，上辊轴与下辊轴上下并排设置；下辊轴与伺服电机的输出端相连接；操作台的料带传送通道上还设有气压控制组件，气压控制组件包括下压气缸和压板，压板与下压气缸的活动端相连接；操作台上还配置有定位传感器，定位传感器与气压控制组件并排设置，并且定位传感器与气压控制组件相连接。
6.本实用新型的有益效果在于，拉料机构在伺服电机的带动下可以实现自动拉料，定位传感器实现自动定位，提供工作效率，通过气压控制组件压制纳米晶料带，排出气泡，使纳米晶边缘贴合紧密，便于对纳米晶料带进行抓边处理，有助于提高下道工序的良率，提高机械化生产的效率。
7.在一些实施方式中，操作台上设有两组拉料机构，气压控制组件与定位传感器均设于两组拉料机构之间。其有益效果在于，通过前后两组拉料机构进行拉料，可以保证纳米晶料带在传送方向上不发生偏移，便于气压控制组件对纳米晶进行压制，保证压制区域内的纳米晶材料受力平衡。
8.在一些实施方式中，气压控制组件还包括第一支架；第一支架包括两个竖直设置的支撑侧板以及一个水平设置的支撑顶板，两个支撑侧板对称的连接在支撑顶板下表面的左右两侧；下压气缸固定于支撑顶板的上表面；纳米晶料带从两个支撑侧板之间传送。其有益效果在于，通过两个支撑侧板与一个支撑顶板形成第一支架，便于气压控制组件的安装和拆卸。下压气缸通过连接板等组件固定安装在支撑顶板上，为压板提供了足够的活动空
间。
9.在一些实施方式中，下压气缸的正下方还设有固定座，固定座的上表面设有固定平板，固定平板与压板对应设置，压板随下压气缸的活动端向下移动能够与固定平板接触；固定平板与下辊轴高度一致。其有益效果在于，通过固定座将固定平板提升到与下辊轴相同的高度，从而可以保证纳米晶料带在两个拉料机构之间进行传送以及压制的过程中始终处于同一水平高度，保证纳米晶料带在压制时受力平衡，避免存在气泡存留。
10.在一些实施方式中，定位传感器与第二支架相连接，第二支架包括支撑座与支撑杆；支撑座设于操作台的边缘，支撑杆的一端连接在支撑座上，支撑杆的另一端伸向操作台的内部；定位传感器设于支撑杆上，并且定位传感器与固定平板对应设置。其有益效果在于，通过第二支架将定位传感器设置在纳米晶料带的传送通道上，定位传感器与固定平板对应设置，可以对料带进行实时监控，当纳米晶料带传送至固定平板上时，定位传感器发出信号，下压气缸根据指令带动压板下移，对固定平板上的纳米晶进行压制。压制完成后压板返回，纳米晶料带继续传送至下一位点，定位传感器监测料带的传送并发出信号，下压气缸再次根据指令对下一位点的纳米晶进行压制，如此循环进行持续性运作。
11.在一些实施方式中，放料机构与拉料机构之间还配置有导向组件；导向组件包括两个对称设置的定位板，两个定位板之间配置有多个平行设置的转动杆，多个转动杆能够沿料带传送方向转动。其有益效果在于，可以通过导向组件对传送中的纳米晶料带进行引导，纳米晶料带夹在两个对应设置的定位板之间，从多个转动杆上环绕通过，定位板起到限位作用。可以防止纳米晶料带偏移。
12.在一些实施方式中，收料机构包括收料辊轴和伺服电机，收料辊轴与伺服电机的输出端相连接。由此，可以通过伺服电机带动收料辊轴转动，对纳米晶料带进行收卷。
13.在一些实施方式中，操作台的上方沿料带传送方向还依次设有收废辊轴以及覆膜辊轴。由此，纳米晶料带经过上游的模切、激光灯加工工序后，所产生的周围废料可以通过操作台上方的收废辊轴收卷。经过气压控制组件压制后的纳米晶料带可以通过操作台上方的覆膜辊轴进行重新覆膜。如此，一方面可以充分利用整个装置的空间，另一方面可以同步完成收废、压制排气泡、加覆保护膜、料带传送等工艺步骤，提高加工效率。
附图说明
14.图1为本实用新型一实施方式的纳米晶料带包边保护装置的正视图；
15.图2为图1所示纳米晶料带包边保护装置的俯视图；
16.图3为图1所示纳米晶料带包边保护装置的拉料机构的立体结构示意图；
17.图4为图1所示纳米晶料带包边保护装置的气压控制组件的立体结构示意图。
具体实施方式
18.下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
19.图1～图4示意性地显示了根据本实用新型的一种实施方式的纳米晶料带包边保护装置。如图所示，该装置包括操作台01，纳米晶料带在操作台01上进行传送，操作台01上沿料带传送方向依次设置有放料机构10、两个拉料机构30和收料机构60。两组拉料机构30之间设有气压控制组件40和定位传感器50。在操作台01的上方还设有收废辊轴70和覆膜辊
轴80，收废辊轴70与伺服电机的输出端相连接。收废辊轴70设于第一组拉料机构30的上方，覆膜辊轴80设于第二组拉料机构30的上方。
20.放料机构10包括放料辊轴，经过上道工序加工后的纳米晶卷料放置在放料辊轴上进行物料传送。
21.放料机构10与第一组拉料机构30之间还设有导向组件20，对纳米晶料带的传送进行引导。导向组件20包括两个沿纳米晶料带传送方向对称设置的定位板21，两个定位板21之间垂直穿插有多个平行设置的转动杆22，多个转动杆22能够在定位板21内沿料带传送方向滚动。纳米晶料带夹在两个对应设置的定位板21之间，定位板21可以防止纳米晶料带脱离传送通道，防止脱轨。纳米晶料带从多个转动杆22上环绕通过，转动杆22转动可以带动纳米晶料带向远离放料辊轴的方向传送。
22.纳米晶料带在进入拉料机构30之前，经由上道工序产生的周围废料可以通过操作台01上方的收废辊轴70收卷。完成排废之后的纳米晶料带进入第一组拉料机构30。
23.拉料机构30包括上下并排设置的上辊轴31和下辊轴32，纳米晶料带可以在上辊轴31与下辊轴32之间传送。上辊轴31与下辊轴32传动连接，下辊轴32与伺服电机的输出端相连接，如此，在伺服电机的驱动下，下辊轴32带动上辊轴31转动，从而可以拉动纳米晶料带，使之由放料机构10向收料机构60方向传送。
24.两组拉料机构30之间设有气压控制组件40和定位传感器50，二者均与中控系统相连接。定位传感器50可以采集纳米晶料带的传送信息并反馈至中控系统，中控系统可以分析接收到的信息，并向气压控制组件40下达下压运作指令，控制气压控制组件40压制纳米晶料带。
25.气压控制组件40包括第一支架41、下压气缸42和压板43。第一支架41包括两个竖直设置的支撑侧板412和一个水平设置的支撑顶板411；支撑侧板412的一端固定在操作台01上，另一端连接在支撑顶板411下表面，两个支撑侧板412对称设置在支撑顶板411下表面的左右两侧，形成“区”字形框架。纳米晶料带从两个支撑侧板412之间传送。下压气缸42通过连接板421固定在支撑顶板411上，下压气缸42的输出端指向操作台01所在平面。压板43与下压气缸42的活动端相连接，能够在下压气缸42的驱动下上下往返移动。在下压气缸42的正下方还设有固定座44，固定座44的上表面设有固定平板45，固定平板45与压板43相对设置。压板43在下压气缸42的驱动下向下移动，能够与固定平板45贴合。由此，固定平板45与拉料机构30的下辊轴32高度一致，纳米晶料带在两组拉料机构30之间进行传送时，穿过第一支架41，并在固定底板上接受压板43的压制，排出纳米晶边缘的气泡，保证纳米晶料带平整。纳米晶料带在接受压制时始终处于同一水平高度，受力均衡，可以提高产品良率。
26.定位传感器50设于第二支架51上。第二支架51包括支撑座511以及支撑杆512；支撑座511设于操作台01的边缘，位于纳米晶传送通道的一侧，并且与第一支架41错位设置。支撑杆512的一端连接在支撑座511上，另一端指向设于操作台01内部的纳米晶传送通道。定位传感器50安装于支撑杆512上，并且与固定平板45对应设置，正对纳米晶传送通道，可以实时监控纳米晶料带的传送状况。当纳米晶料带传送至固定平板45上时，定位传感器50向中控系统发出信号，中控系统接受信号并经过分析后，向气压控制组件40下压指令；下压气缸42根据指令带动压板43下移，对固定平板45上的纳米晶进行压制。压制完成后压板43返回，纳米晶料带继续传送至下一位点，定位传感器50监测料带的传送并再次向中控系统
发出信号，下压气缸42再次根据指令对这一位点的纳米晶进行压制，如此循环进行持续性运作。
27.经气压控制组件40压制后的纳米晶料带经过后一组拉料机构30后在收料机构60上完成收卷。如有必要，经气压控制组件40压制后的纳米晶料带可以重新覆膜，通过覆膜辊轴80将新的保护膜覆在纳米晶料带上方，然后经过后一组拉料机构30，在上辊轴31与下辊轴32之间经过挤压，增强保护膜与纳米晶料带之间的贴合度，然后再在收料机构60上完成收卷。
28.收料机构60包括收料辊轴和伺服电机，收料辊轴与伺服电机的输出端相连接，能够进行自动收卷。
29.以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。