一种固定式反射炉新结构天然气烧嘴的制作方法

本实用新型涉及机械技术领域，具体为一种固定式反射炉新结构天然气烧嘴。

背景技术：

目前炉窑上常用的烧嘴为低压高速烧嘴或是亚高速烧嘴，高速烧嘴的特点是烧嘴的燃烧气体出口速度可达80米/秒以上，通过助燃风使出口的燃烧气体温度降低到与工件加热温度相接近的温度。高速烧嘴以其高速的热气促使炉内气流循环，均匀炉温降低火焰与工件间温度差，有效提高炉窑热利用率。

燃料有重油和天然气之别，现以天然气为燃料工作，以固体粗铜为原料，在反射炉内，铜物料经过熔化、氧化造渣、还原、浇铸等操作过程，产出满足铜电解精炼工艺要求的铜阳极板。从2011年投产以来，天然气燃烧效率低，熔池内铜物料熔化慢，导致单炉炉时长，天然气单耗升高，针对天然气燃烧效率低的问题，现提出一种高效的燃烧嘴。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种固定式反射炉新结构天然气烧嘴，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种固定式反射炉新结构天然气烧嘴，包括第一壳体，所述第一壳体左侧底部设有主干空气通道，所述第一壳体中部穿插有燃气通道，所述燃气通道右端穿插的第一壳体右壁设有第一通道，所述第一通道上端穿插设有点火装置，所述第一通道的右侧设有第一燃烧室，所述第一燃烧室的右端设有第二通道，所述第一燃烧室外套接第二燃烧室，所述第二燃烧室的左端设有环形风室，所述环形风室外接支杆空气通道，所述环形风室的右壁设有第三通道，所述第二燃烧室的第二壳体的右端设为向内倾斜为锥形，所述向内倾斜的锥形面设为与水平面夹角成16度。

优选的，所述第一通道设为与水平夹角成45度，且倾斜的面向燃气通道靠近，所述第一通道设置的数量不少于4个。

优选的，所述第二通道设置在第一燃烧室壳体的弧形部，且第二通道设置的数量不少于8个。

优选的，所述第三通道设置的数量不少于8个。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该固定式反射炉新结构天然气烧嘴，燃烧高效，降低有害物的产生，有效的提高生产质量和数量，该装置设有两个燃烧室结构，解决氮氧化物的产生，省去辐射管，降低成本，第一通道采用倾斜结构，既可以起到隔离火焰降温的作用，又可以使空气集中流动增加燃烧的充分性，第三通道和外接空气流的结构，使第二燃烧室燃烧的更加充分，第二壳体的设计，既降低单炉炉时，又降低单耗，辅助消耗也节省，增加生产的质量和数量，燃烧高效，成本低。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型内部结构示意图。

图中：1燃气通道、2主干空气通道、3第一通道、4支杆空气通道、5第二壳体、6点燃装置、8环形风室、9第三通道、10第二燃烧室、11第一燃烧室、12第二通道、13第一壳体。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种固定式反射炉新结构天然气烧嘴，包括第一壳体13，所述第一壳体13左侧底部设有主干空气通道 2，所述第一壳体13中部穿插有燃气通道1，所述燃气通道1右端穿插的第一壳体13右壁设有第一通道3，所述第一通道3设为与水平夹角成45度，且倾斜的面向燃气通道1靠近，所述第一通道3设置的数量不少于4个，所述第一通道3上端穿插设有点火装置6，所述第一通道3的右侧设有第一燃烧室 11，所述第一燃烧室11的右端设有第二通道12，所述第二通道12设置在第一燃烧室11壳体的弧形部，且第二通道12设置的数量不少于8个，所述第一燃烧室11外套接第二燃烧室10，所述第二燃烧室10的左端设有环形风室 8，所述环形风室8外接支杆空气通道4，所述环形风室8的右壁设有第三通道9，所述第三通道9设置的数量不少于8个，所述第二燃烧室10的第二壳体5的右端设为向内倾斜为锥形，所述向内倾斜的锥形面设为与水平面夹角成16度。

设有二次燃烧室的结构，在增加燃烧充分，降低有害物产生的同时，又可以增加被烧物的单位时间内提供的燃烧温度，第二壳体5的大小设计更符合实际生产的需要燃烧温度，且烧嘴的角度改变，增加燃烧温度，炉时缩短，节约电费。

工作原理：所述接通燃气后，在第一燃烧室11内由点火装置6点燃，主干空气通道2通过第一通道3对第一燃烧室11提供充分的助燃空气，且快速的空气流对第一燃烧室11提供动力推动，使其从第二通道12进入第二燃烧室10，在由支杆空气通道4提供助燃空气和空气流，达到二次更充分的燃烧，再喷出高温火焰与被加热物体上。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。