技术特征：
技术总结
本申请提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，本申请提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。
技术研发人员：井杨坤;丁甲;赵卓寒
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
技术研发日：2017.05.09
技术公布日：2017.08.18