发电源的负极电连接。
[0030]2、通过真空玻璃的抽气口 Id将真空腔If抽至设定压力，该设定压力应不超过lOOOPa;例如:当玻璃腔中的真空度到10Pa时；
3、打开激发电源2c，电离真空腔If中的稀薄气体，使产生的等离子体对上、下玻璃板la、lb的内表面、内表层和封装层lc的内表面进行轰击，使吸附在其上的有机污染物脱离；
4、将轰击产生的气体通过真空装置3抽走；
5、重复2-4的步骤，持续抽真空，使真空腔If内的真空度达到设定值，例如:低于10—2pa
后；
6、密封抽气口Id，完成真空玻璃制造。
[0031]如图2所示，本实施例所公开的方法可在大气环境下进行，并不必须要求在封闭空间或真空空间中进行，当然，在封闭空间或真空空间中实施也是可行的。另外，为强化等离子体电离效果，在清洗前可将真空玻璃预热并保持在60°C—230°C。在步骤2真空腔中的真空度达到设定压力后，还可通过抽气口 Id向真空腔If内充入惰性气体、氮气、氢气等或其混合气体，以取代腔内原有的空气。
[0032]方法中采用的激发电源2c可为直流、脉冲、中频、射频、微波等电源，激发电源2c的电压或功率需根据真空腔If的设定真空度进行调整。另外，等离子体对真空腔If内表面进行轰击时，可同时进行步骤4，对真空腔If抽真空。
[0033]实施例3
本实施例中所适用的真空玻璃结构与实施例1中的真空玻璃结构基本相同，其不同点在于，本实施例中的真空玻璃采用非金属材料作为封装层，例如:低玻粉等。
[0034]如图3所示，本实施例中的方法主要应用于在真空玻璃封装之后，通过抽气口Id对真空腔内的气体进行抽取，以实现真空腔If内的设定真空度。主要包括以下步骤:
1、将真空玻璃设置在承载装置5上，第一激发电极2a设置在上玻璃板la的上方，第二激发电极2b设置在下玻璃板lb的下方。第一激发电极2a与激发电源的正极电连接，第二激发电极2b与激发电源2c的负极电连接。
[0035]2、通过真空玻璃的抽气口 Id将真空腔If抽至设定压力，该设定压力应不超过lOOOPa;例如:当玻璃腔中的真空度到10Pa;
3、打开激发电源2c，电离真空腔If中的稀薄气体，使产生的等离子体对上、下玻璃板la、lb的内表面、内表层和封装层lc的内表面进行轰击，使吸附在其上的有机污染物脱离；
4、将被轰击出来的气体通过真空装置3抽走；
5、重复2-4的步骤，持续抽真空，使真空腔If内的真空度达到设定值，例如:低于10—2pa
后；
6、密封抽气口Id，完成真空玻璃制造。
[0036]如图3所示，本实施例所公开的方法可在大气环境下进行，并不必须要求在封闭空间或真空空间中进行，当然，在封闭空间或真空空间中实施也是可行的。另外，为强化等离子体电离效果，在清洗前可将真空玻璃预热并保持在60°C—230°C。在步骤2真空腔中的真空度达到设定压力后，还可通过抽气口 Id向真空腔If内充入惰性气体、氮气、氢气等或其混合气体，以取代腔内原有的空气。
[0037]方法中采用的激发电源2c可为直流、脉冲、中频、射频、微波等电源，激发电源2c的电压或功率需根据真空腔If的设定真空度进行调整。另外，等离子体对真空腔If内表面进行轰击时，可同时进行步骤4，对真空腔If抽真空。
[0038]实施例4
本实施例中所适用的真空玻璃结构与实施例1中的真空玻璃结构基本相同，其不同点在于，如图4所示，本实施例中的真空玻璃有在其上玻璃板la设置进气口 le和下玻璃板lb上均设置有抽气口 Id，通过抽气口 Id对真空腔If内的气体进行抽取，以实现真空腔If内的设定真空度后，通过集气箱4和设置在上玻璃板la上的进气口 le向真空腔If内充入惰性气体、氮气、氢气等或其混合气体，以取代腔内原有的空气。主要包括以下步骤:
1、将真空玻璃设置在承载装置5上，第一激发电极2a同时设置在真空玻璃的上、下两侧，封装层lc与第二激发电极2b相连。第一激发电极2a与激发电源2c的正极电连接，第二激发电极2b与激发电源的负极电连接。
[0039]2、通过真空玻璃的抽气口 Id将真空腔If抽至设定压力，该设定压力应不超过lOOOPa;例如:当玻璃腔中的真空度到10Pa时；
3、打开激发电源2c，电离真空腔1f中的稀薄气体，使用等离子体对上、下玻璃板la、lb的内表面、内表层和封装层lc的内表面进行轰击，使吸附在其上的有机污染物脱离；
4、将被轰击出来的气体通过真空装置3抽走；
5、重复2-4的步骤，持续抽真空，使真空腔If内的真空度达到设定值，例如:低于10—2pa
后；
6、密封抽气口Id和进气口 le，完成真空玻璃制造。
[0040]如图4所示，本实施例所公开的方法可在大气环境下进行，并不必须要求在封闭空间或真空空间中进行，当然，在封闭空间或真空空间中实施也是可行的。另外，为强化等离子体电离效果，在清洗前可将真空玻璃预热并保持在60°C—230°C。在步骤2真空腔中的真空度达到设定压力后，还可通过抽气口 Id向真空腔If内充入惰性气体、氮气、氢气等或其混合气体，以取代腔内原有的空气。
[0041]方法中采用的激发电源2c可为直流、脉冲、中频、射频、微波等电源，激发电源2c的电压或功率需根据真空腔If的设定真空度进行调整。另外，等离子体对真空腔If内表面进行轰击时，可同时进行步骤4，对真空腔If抽真空。
[0042]实施例5
本实施例中所适用的真空玻璃结构与实施例1基本相同，其不同点在于，如图5所示，本实施例中的真空玻璃承载装置5及等离子体第一激发电极2a、第二激发电极2b也可以设置在腔体6内。同样，实施例2、3和4也可以这样设置。
[0043]以上是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种真空玻璃等离子体清洗方法，用于去除封装后的真空玻璃腔体内的有机污染物，所述真空玻璃的至少一片玻璃基板上有抽气口，包括以下步骤: 1)、将与激发电源相连的两个激发电极作用在真空玻璃上； 2)、通过真空玻璃的抽气口将真空腔抽至设定压力； 3)、打开激发电源，电离真空腔内的稀薄气体，使产生的等离子体轰击玻璃内表面和封装层内表面，使其上附着的有机污染物脱离出来； 4)、将步骤3)中轰击产生的气体抽走； 5)、重复2_4的步骤； 6)、持续抽真空到设定真空值后，对抽气口进行密封，完成真空玻璃制造。2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述真空玻璃采用含有金属材质的封装层封边;所述步骤1)中的第一激发电极设置在真空玻璃的上面和/或下面，并与所述激发电源的正极相连;所述第二激发电极的一端与所述含有金属材质的封装层相连接，另一端与激发电源的负极相连接。3.根据权利要求1所述方法，其特征在于，在所述真空玻璃清洗前，将所述真空玻璃预热并保持在60°C—230°C。4.根据权利要求1所述方法，其特征在于，在步骤2)中还包括向所述真空腔中充惰性气体、氮气、氢气或前述任意两种或多种气体的混合气体。5.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述激发电源为直流、脉冲、中频、射频或微波电源;其电压或功率根据真空腔内的设定真空度调整。6.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述步骤2)的设定压力不超过lOOOPa。7.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述步骤3)和步骤4)能够同时进行。8.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述等离子体为辉光等离子体。9.采用权利要求1-8任一权利要求中所述等离子清洗方法的真空玻璃清洗设备，其特征在于，所述设备包括用于在清洗过程中支撑真空玻璃的真空玻璃承载装置、用于产生所述等离子体的等离子体激发装置和用于为所述真空玻璃抽取真空的真空装置，所述等离子体激发装置包括:激发电源、第一激发电极和第二激发电极，所述激发电源的正极与所述第一激发电极相连，所述激发电源的负极与所述第二激发电极相连。10.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述激发电极为板状、带状或刷状。11.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述激发电极为固定电极或移动电极。12.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述设备还包括容纳真空玻璃承载装置和所述第一、第二激发电极的腔体。
【专利摘要】本发明公开了真空玻璃等离子体清洗方法，该方法包括以下步骤：1）、将与激发电源相连的两个激发电极作用在真空玻璃上；2）、通过真空玻璃的抽气口将真空腔抽至设定压力；3）、打开激发电源，使产生的等离子体轰击玻璃内表面和封装层内表面，使吸附在其上的有机污染物脱离出来；4）、将步骤3）中轰击产生的气体抽走；5）、重复2-4的步骤；6）、持续抽真空到设定真空值后，对抽气口进行密封，完成真空玻璃制造。本发明提供的清洗方法，不仅加快了真空玻璃抽真空速度，提升了生产效率，同时，提高了真空玻璃真空度，延长其使用寿命。本发明还包括真空玻璃等离子体清洗设备。
【IPC分类】B08B11/04, B08B7/00
【公开号】CN105436180
【申请号】CN201510935112
【发明人】赵雁, 李彦兵, 王章生
【申请人】洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年12月15日