等离子体生成装置和使用该等离子体生成装置的清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及等离子体生成装置和使用该等离子体生成装置的清洗装置。
【背景技术】
[0002]传统的清洗装置所使用的等离子体生成装置在包含气泡的液体中进行放电。这样在气泡中产生自由基等并且使液体改质。专利文献I公开了传统的等离子体生成装置的示例。
[0003]现有技术文献
[0004]专利f献
[0005]专利文献1:日本特开2012-43769号
【发明内容】
_6] 发明要解决的问题
[0007]等离子体生成装置通过在气体容纳部中所配置的第一电极和液体容纳部中所配置的第二电极之间施加高电压来进行放电。等离子体生成装置在液体容纳部中所容纳的液体内的气体的区域中生成等离子体。等离子体生成装置根据液体中所包含的水和气体中所包含的氧生成羟基自由基。第二电极配置在液体容纳部中所容纳的包含水的液体中，并且第一电极配置在气体中。在将等离子体生成装置应用于具有可动部的电子装置的清洗装置的情况下，使来自可动部的杂质净化可能会引起咬合现象(seizing)。为了抑制咬合现象，使用者向用作清洗液并且容纳在液体容纳部中的液体添加润滑剂。在使用清洗装置的情况下，使用者通过补充润滑剂和更换清洗液等来进行定期维护。因而，使用传统的等离子体生成装置的清洗装置给使用者带来麻烦。此外，将包含更换后的润滑剂的清洗液作为废水进行处理。因而，期望在考虑到环境的情况下使润滑剂的使用量最小。
[0008]因此，本发明是鉴于以上背景而作出的，并且其目的是提供便于维护的等离子体生成装置和使用该等离子体生成装置的清洗装置。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本发明的一个方面是一种等离子体生成装置，其包括等离子体生成部、等离子体电源部和气体供给部，所述等离子体生成装置的特征在于，所述等离子体生成部包括:液体容纳部，其被配置为容纳至少包含水的液体，气体容纳部，其被配置为容纳气体，隔壁部，其被配置为将所述液体容纳部和所述气体容纳部隔开，其中所述隔壁部具有气体通路，所述气体通路被配置为将所述气体容纳部中所容纳的所述气体引导至所述液体容纳部，第一电极，其被配置在所述气体容纳部内，以及第二电极，其以至少与所述第一电极成对的部分接触所述液体容纳部内的液体的方式配置在所述液体容纳部内；所述气体供给部被配置为将至少含氧的所述气体供给至所述气体容纳部；所述等离子体电源部被配置为生成供给至所述第一电极和所述第二电极的电位，并且将所述第二电极的电位设置为比所述第一电极的电位低的值；以及所述第二电极由引起溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一形成。
[0011 ] 在上述等离子体生成装置中，等离子体电源部通过在第一电极和第二电极之间施加预定电压以使得第二电极的电位低于第一电极的电位，来在第一电极和第二电极之间进行放电。等离子体生成部在液体容纳部中所容纳的液体内的气体的区域中生成等离子体。这样利用气体中所包含的水和气体中所包含的氧来生成羟基自由基。在该结构中，等离子体生成部能够在抑制液体的电阻的影响的状态下在第一电极和第二电极之间进行放电。第二电极通过在进行放电的情况下发生的派射现象(sputtering)发出银微粒子。这些银微粒子扩散到液体容纳部中所容纳的液体中。在该结构中，在将被清洗处理对象配置在液体容纳部中的情况下，这些被清洗处理对象上所附着的有机物等因羟基自由基而发生分解，并且从第二电极发出的微粒子可以附着在这些被清洗处理对象上。例如，在将等离子体生成装置应用于具有可动部的电子装置的清洗装置的情况下，银微粒子可以附着在电子装置的可动部上。这样减少了可动部的摩擦阻抗并且使得能够进行平滑移动。
[0012]优选地，在上述等离子体生成装置中，所述第二电极由作为引起所述溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一的银、银化合物和银混合物其中之一形成。
[0013]优选地，在上述等离子体生成装置中，所述第二电极包括由引起所述溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一形成的对向面，其中所述对向面至少与通过所述气体通路的气体相对，并且所述对向面的表面粗糙度具有超过10 μ m的最大高度值。
[0014]优选地，在上述等离子体生成装置中，所述第二电极具有通气性，以使得所述气体容纳部中所容纳的气体通过所述第二电极并且被供给至所述液体容纳部。
[0015]本发明的其它方面是一种清洗装置，其包括上述的等离子体生成装置。所述清洗装置被配置为通过所述溅射现象从所述第二电极发出微粒子，以使得所述微粒子附着在被清洗处理对象上。
[0016]优选地，所述清洗装置能够应用于除毛器具的清洗，以使得从所述第二电极放出的所述微粒子附着在所述除毛器具所包括的所述被清洗处理对象上。
[0017]优选地，在所述清洗装置中，所述除毛器具包括具有滑动面的刀具部，以及所述滑动面的至少一部分被配置在不妨碍从所述第二电极放出的所述微粒子的移动的位置处。_8] 发明的效果
[0019]等离子体生成装置和使用该等离子体生成装置的清洗装置对便于维护作出了特别贡献。
【附图说明】
[0020]图1是示出第一实施例的等离子体生成装置的示意结构图。
[0021]图2是示出施加至第一实施例的等离子体生成装置的第一电极和第二电极的电压值的图。
[0022]图3(a)是示意性示出第一实施例的等离子体生成装置的一个操作状态的部分放大截面图，并且(b)是示意性示出图3(a)所示的状态继续的状态的部分放大截面图。
[0023]图4是示意性示出利用第一实施例的等离子体生成装置的微粒子的发出状态的部分放大截面图。
[0024]图5是示出第二实施例的清洗装置的立体图。
[0025]图6(a)是插入图5所示的清洗装置中的除毛器具的立体图，并且(b)是示出刀具部中所设置的内刀具和外刀具的示意结构图。
[0026]图7是图6(a)所示的除毛器具装填在图5所示的清洗装置上的状态的侧视截面图。
[0027]图8是示出沿着图7的平面7Z-7Z所截取的截面结构的截面图。
[0028]图9是示出图7的点划线所包围的部分的放大结构的部分放大图。
[0029]图10(a)是示出第三实施例的等离子体生成装置的示意结构图，并且(b)是示意性示出利用图10(a)的等离子体生成装置的微粒子的发出状态的部分放大截面图。
[0030]图11(a)是示出第四实施例的等离子体生成装置的示意结构图，并且(b)是示意性示出利用图11(a)的等离子体生成装置的微粒子的发出状态的部分放大截面图。
【具体实施方式】
[0031]第一实施例
[0032]现在将参考图1来说明等离子体生成装置I的结构。
[0033]等离子体生成装置I包括等离子体生成部10、等离子体电源部2、气体供给部3、第一引线4、第二引线5和气体导入管6。第一引线4和第二引线5使等离子体生成部10和等离子体电源部2相互连接。气体导入管6使等离子体生成部10和气体供给部3相互连接。
[0034]等离子体生成部10包括大致圆筒状的盒构件11。盒构件11的形状不必为圆筒状。例如，盒构件11可以为角筒状。
[0035]盒构件11包括将盒构件11的内部空间隔成上部和下部的隔壁部12。隔壁部12例如由陶瓷形成。盒构件11的内部空间中的隔壁部12的上侧的区域形成容纳包含水的液体20的液体容纳部15。盒构件11的内部空间中的隔壁部12的下侧的区域形成容纳气体的气体容纳部14。隔壁部12的平面中的各边的尺寸为数cm。隔壁部12的厚度为数百μπι?数_。根据用途来将该厚度设置为适当的值。盒构件11在右侧壁IlB的下部包含气体导入口 17。插入气体导入口 17中的气体导入管6使气体容纳部14和气体供给部3相连接。气体供给部3向气体容纳部14供给至少含氧的气体。
[0036]隔壁部12包括气体通路13。从气体供给部3导入气体容纳部14内的气体沿第一移动方向23经由气体通路13被送至液体容纳部15内。
[0037]等离子体生成部10包括配置在液体容纳部15的外周端部的环状密封件16。密封件16使盒构件11和隔壁部12之间的间隙密封，以使得液体容纳部15内的液体20不会泄漏到气体容纳部14内。
[0038]优选地，将气体通路13的孔径设置在100 μ m?800 μ m的范围内，以使得液体容纳部15中所容纳的液体20不会经由气体通路13泄漏到气体