着在刀具部104的滑动面107上。这样能够抑制在对滑动面107的大的摩擦阻抗趋于引起咬合的除毛器具100进行清洗的情况下发生咬合。
[0113]第四实施例
[0114]第四实施例的等离子体生成装置I与第三实施例的等离子体生成装置I在以下所述的几点有所不同，但其它部分具有相同的结构。向与第三实施例的等离子体生成装置I共通的结构赋予相同的附图标记，并且省略了针对该结构的说明的一部分或全部。
[0115]在第三实施例的等离子体生成装置I中，第二电极26由银烧结体构成。如图11 (a)和11(b)所示，第四实施例的等离子体生成装置I包括由具有通气性的多孔金属构成的第二电极27。
[0116]现在将参考图11 (a)和11 (b)来说明等离子体生成部10的结构。
[0117]如图11 (a)所示，等离子体生成部10包括配置在液体容纳部15中的第二电极27。与第一实施例相同，期望将第二电极27配置在相比第一电极18更靠近气体通路13的位置处。第二电极27例如由圆形的银制多孔金属构成。第二电极27例如由充填率为10%的银制多孔金属构成。第二电极27以该第二电极27覆盖隔壁部12中所形成的气体通路13的方式配置在液体容纳部15内。
[0118]如图11(b)的放大图所示，气体容纳部14中所形成的沿第一移动方向23的气体的流动经由第二电极27中的多个孔被导入液体容纳部15中。
[0119]在向第二电极27施加比第一电极18的电位低的电位的状态下、在电极18和27之间发生放电的情况下，第二电极27通过溅射现象放出银微粒子19B。所放出的银微粒子19B沿着气体容纳部14所形成的沿第一移动方向23的气体的流动经由第二电极27中的多个孔被导入液体容纳部15中。
[0120]第四实施例的等离子体生成装置I具有与第一实施例的等离子体生成装置I的效果(I)相同的效果。更具体地，第四实施例的效果在于:向第二电极27施加比第一电极18的电位低的电位引起放电，除生成和导入臭氧和自由基等外，此放电还生成银微粒子19B并将这些银微粒子19B导入液体容纳部15中。等离子体生成装置I还具有以下效果。
[0121](5)等离子体生成装置I包括等离子体生成部10、等离子体电源部2和气体供给部3。等离子体生成部10包括利用隔壁部12对盒构件11的内部空间进行分隔得到的气体容纳部14和液体容纳部15。等离子体生成部10包括配置在气体容纳部14中的第一电极18。等离子体生成部10包括配置在液体容纳部15中的第二电极27。第二电极27由具有通气性的银制多孔金属形成。等离子体电源部2通过在第一电极18和第二电极27之间施加预定电压以使得第二电极27的电位低于第一电极18的电位，来在第一电极18和第二电极27之间进行放电。在该结构中，在等离子体生成部10生成等离子体并且在液体20中生成羟基自由基的情况下，第二电极27可以放出银微粒子19B。所放出的银微粒子19B经由第二电极27的多个空隙(孔)被导入液体容纳部15中。在该结构中，等离子体生成装置I使用第二电极27来抑制从液体容纳部15中所容纳的液体析出的硅和钙等所引起的气体通路13的堵塞。因而，等离子体生成装置I可以稳定地生成羟基自由基等并且放出银微粒子 19B。
[0122]其它实施例
[0123]本等离子体生成装置和清洗装置包括除第一实施例?第四实施例以外的实施例。现在将第一实施例?第四实施例的变形例描述为本等离子体生成装置和清洗装置的其它实施例。可以彼此组合以下所述的变形例。
[0124]第一实施例的等离子体生成装置I包括用作具有气体通路13的隔壁部的隔壁部
12。然而，隔壁部和气体通路13不限于第一实施例所示的结构。变形例的等离子体生成装置I的隔壁部例如由玻璃板形成。该玻璃板包括通过照相制版和蚀刻形成的孔。该孔用作气体通路13。玻璃板的孔是微小的并且其直径约为I μπι?10 μπι。代替玻璃板，还可以使用其它材料。
[0125]在第一实施例的等离子体生成装置I中，气体供给部3将大气中的气体供给至气体容纳部14。气体供给部3所供给的气体不限于第一实施例所述的内容。例如，变形例的等离子体生成装置I的气体供给部3供给氧浓度与大气的氧浓度不同的气体。气体供给部3可以包括气体类型选择部。在这种情况下，气体类型选择部被配置为供给从大气中的气体和其它类型的气体中所选择的一种气体。
[0126]在第一实施例的等离子体生成装置I中，用作隔壁部的隔壁部12具有气体通路
13。隔壁部和气体通路13不限于第一实施例的结构。例如，变形例中的等离子体生成装置I的隔壁部具有多个气体通路。
[0127]在第二实施例的清洗装置30中，容纳器60包括容纳器排出口 63。容纳器不限于第二实施例的结构。例如，变形例中的清洗装置30的容纳器60包括用以使液体从排出通路92排出的排出槽。
[0128]第四实施例的等离子体生成装置I的第二电极27由具有通气性的多孔金属构成。第二电极27不限于第四实施例的结构。例如，在变形例的等离子体生成装置I中，第二电极27呈网状。
【主权项】
1.一种等离子体生成装置，其包括等离子体生成部、等离子体电源部和气体供给部，所述等离子体生成装置的特征在于， 所述等离子体生成部包括: 液体容纳部，其被配置为容纳至少包含水的液体， 气体容纳部，其被配置为容纳气体， 隔壁部，其被配置为将所述液体容纳部和所述气体容纳部隔开，其中所述隔壁部具有气体通路，所述气体通路被配置为将所述气体容纳部中所容纳的所述气体引导至所述液体容纳部， 第一电极，其被配置在所述气体容纳部内，以及 第二电极，其以至少与所述第一电极成对的部分接触所述液体容纳部内的液体的方式配置在所述液体容纳部内； 所述气体供给部被配置为将至少含氧的所述气体供给至所述气体容纳部； 所述等离子体电源部被配置为生成供给至所述第一电极和所述第二电极的电位，并且将所述第二电极的电位设置为比所述第一电极的电位低的值；以及 所述第二电极由引起溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一形成。2.根据权利要求1所述的等离子体生成装置，其中，所述第二电极由作为引起所述溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一的银、银化合物和银混合物其中之一形成。3.根据权利要求1或2所述的等离子体生成装置，其中，所述第二电极包括由引起所述溅射现象的材料、材料化合物和材料混合物其中之一形成的对向面，其中所述对向面至少与通过所述气体通路的气体相对，并且所述对向面的表面粗糙度具有超过10 μ m的最大高度值。4.根据权利要求1或2所述的等离子体生成装置，其中，所述第二电极具有通气性，以使得所述气体容纳部中所容纳的气体通过所述第二电极并且被供给至所述液体容纳部。5.一种清洗装置，其包括根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体生成装置，其中，所述清洗装置被配置为通过所述溅射现象从所述第二电极放出微粒子，以使得所述微粒子附着在被清洗处理对象上。6.根据权利要求5所述的清洗装置，其中，所述清洗装置能够应用于除毛器具的清洗，以使得从所述第二电极放出的所述微粒子附着在所述除毛器具所包括的所述被清洗处理对象上。7.根据权利要求6所述的清洗装置，其中， 所述除毛器具包括具有滑动面的刀具部，以及 所述滑动面的至少一部分被配置在不妨碍从所述第二电极放出的所述微粒子的移动的位置处。
【专利摘要】等离子体生成装置(1)配备有等离子体生成部(10)、等离子体电源部(2)和气体供给部(3)。等离子体生成部包括用于将液体容纳部(15)和气体容纳部(14)隔开的隔壁部(12)。隔壁部具有用于将从气体供给部供给的并且容纳在气体容纳部中的气体引导至液体容纳部的气体通路(13)。第一电极(18)配置在气体容纳部内并且第二电极(19)配置在液体容纳部内。等离子体电源部生成供给至第一电极和第二电极的电位，并且将第二电极的电位设置为比第一电极的电位低的值。第二电极由引起溅射现象的材料、材料化合物和材料混合器其中之一形成。
【IPC分类】B08B7/00, H05H1/24, A45D27/46, B26B19/48, B08B3/10
【公开号】CN104938037
【申请号】CN201380064927
【发明人】佐近茂俊, 实松涉
【申请人】松下知识产权经营株式会社
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2013年11月26日
【公告号】EP2934072A1, EP2934072A4, WO2014097549A1